JPH06177535A - 金属表面処理剤 - Google Patents
金属表面処理剤Info
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- JPH06177535A JPH06177535A JP32930492A JP32930492A JPH06177535A JP H06177535 A JPH06177535 A JP H06177535A JP 32930492 A JP32930492 A JP 32930492A JP 32930492 A JP32930492 A JP 32930492A JP H06177535 A JPH06177535 A JP H06177535A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属表面に対する防錆作用が高く、しかも金
属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることができ
る金属表面処理剤、とくに銅箔用表面処理剤を提供する
こと。 【構成】 下記一般式(1)、(2)及び/又は(3)
で表される新規イミダゾールシラン化合物(A)及び下
記一般式(4)で表されるビストリアルコキシシリル化
合物(B)を有効成分とする金属表面処理剤。 【化1】 (ただし、一般式(1),(2)又は(3)において、
R1は水素又は炭素数が1〜20のアルキル基、R2は水
素、ビニル基又は炭素数が1〜5のアルキル基、R3,
R4は炭素数が1〜3のアルキル基、nは1〜3) (R5O)3SiR6Si(OR5)3 (4) (ただし、R5Oは炭素数1〜4の低級アルコキシ基、
R6は炭素数1〜8のアルキレン基を示す)
属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることができ
る金属表面処理剤、とくに銅箔用表面処理剤を提供する
こと。 【構成】 下記一般式(1)、(2)及び/又は(3)
で表される新規イミダゾールシラン化合物(A)及び下
記一般式(4)で表されるビストリアルコキシシリル化
合物(B)を有効成分とする金属表面処理剤。 【化1】 (ただし、一般式(1),(2)又は(3)において、
R1は水素又は炭素数が1〜20のアルキル基、R2は水
素、ビニル基又は炭素数が1〜5のアルキル基、R3,
R4は炭素数が1〜3のアルキル基、nは1〜3) (R5O)3SiR6Si(OR5)3 (4) (ただし、R5Oは炭素数1〜4の低級アルコキシ基、
R6は炭素数1〜8のアルキレン基を示す)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は金属表面の防錆あるいは
接着性の改善等を行うための金属表面処理剤に関する。
接着性の改善等を行うための金属表面処理剤に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント回路用の銅張積層板は銅箔を紙
−フェノール樹脂含浸基材やガラス−エポキシ樹脂含浸
基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
を搭載することにより電子機器用のボードが作られる。
これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常M面(粗化面、以下同様)と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又M面の反対側の通常S面(光沢面、
以下同様)と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のM面には黄銅層形成処理
(特公昭51−35711号公報、同54−6701号
公報)、M、S双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等(特公昭58−7077号公報)が行わ
れている。ところで、最近銅箔のS面の耐熱性に関して
は、高耐熱樹脂等の出現により、従来の200℃×30
分からより高温の例えば220℃又は240℃×30分
の高温条件下でも酸化変色が起こらないこと等が要求さ
れるようになってきている。加えて、近年プリント配線
板の微細化への要請がますます増大化しているが、これ
に伴うエッチング精度の向上に対応するためM面にはさ
らに低い表面粗さ(ロープロファイル)も求められてい
る。しかし、M面の表面粗さは一方では基材との接着に
あたって、アンカー効果をもたらしているので、M面に
対するこのロープロファイルの要求と接着力の向上とは
二律背反の関係にあり、ロープロファイル化によるアン
カー効果の低減分は別の手段による接着力の向上で補償
することが必要である。
−フェノール樹脂含浸基材やガラス−エポキシ樹脂含浸
基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
を搭載することにより電子機器用のボードが作られる。
これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常M面(粗化面、以下同様)と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又M面の反対側の通常S面(光沢面、
以下同様)と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のM面には黄銅層形成処理
(特公昭51−35711号公報、同54−6701号
公報)、M、S双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等(特公昭58−7077号公報)が行わ
れている。ところで、最近銅箔のS面の耐熱性に関して
は、高耐熱樹脂等の出現により、従来の200℃×30
分からより高温の例えば220℃又は240℃×30分
の高温条件下でも酸化変色が起こらないこと等が要求さ
れるようになってきている。加えて、近年プリント配線
板の微細化への要請がますます増大化しているが、これ
に伴うエッチング精度の向上に対応するためM面にはさ
らに低い表面粗さ(ロープロファイル)も求められてい
る。しかし、M面の表面粗さは一方では基材との接着に
あたって、アンカー効果をもたらしているので、M面に
対するこのロープロファイルの要求と接着力の向上とは
二律背反の関係にあり、ロープロファイル化によるアン
カー効果の低減分は別の手段による接着力の向上で補償
することが必要である。
【0003】また接着力の増強手段としてあるいは前記
したロープロファイル化に伴う接着力の増強手段として
M面にシランカップリング剤を塗布する方法も提案され
ている(特公平2−19994号公報、特開昭63−1
83178号公報、特開平2−26097号公報)。
したロープロファイル化に伴う接着力の増強手段として
M面にシランカップリング剤を塗布する方法も提案され
ている(特公平2−19994号公報、特開昭63−1
83178号公報、特開平2−26097号公報)。
【0004】この種のシランカップリング剤としては、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキ
シエトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(ア
ミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フ
ェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン等が知られている[「高分子
添加剤の最新技術」120〜134頁、シーエムシー、
1988年1月6日発行]。
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキ
シエトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(ア
ミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フ
ェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン等が知られている[「高分子
添加剤の最新技術」120〜134頁、シーエムシー、
1988年1月6日発行]。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち、金属表面に対する防錆作用が高く、しか
も金属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることが
できる特定のシラン化合物を用いた新規な金属表面処理
剤、特に銅箔用表面処理剤を提供することを目的とする
ものである。
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち、金属表面に対する防錆作用が高く、しか
も金属と樹脂基板との接着性を著しく向上させることが
できる特定のシラン化合物を用いた新規な金属表面処理
剤、特に銅箔用表面処理剤を提供することを目的とする
ものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
進めた結果、特定のイミダゾールシラン化合物と特定の
ビストリアルコキシシリル化合物との混合物が金属表面
に対し優れた防錆作用を有するとともに、金属と樹脂基
板との接着性を著しく向上させることを見出した。
進めた結果、特定のイミダゾールシラン化合物と特定の
ビストリアルコキシシリル化合物との混合物が金属表面
に対し優れた防錆作用を有するとともに、金属と樹脂基
板との接着性を著しく向上させることを見出した。
【0007】本発明は、かかる知見に基づきなされたも
のであり、その要旨は、下記一般式(1)、(2)及び
/又は(3)で表される新規イミダゾールシラン化合物
(A)及び下記一般式(4)で表されるビストリアルコ
キシシリル化合物(B)を有効成分とする金属表面処理
剤
のであり、その要旨は、下記一般式(1)、(2)及び
/又は(3)で表される新規イミダゾールシラン化合物
(A)及び下記一般式(4)で表されるビストリアルコ
キシシリル化合物(B)を有効成分とする金属表面処理
剤
【0008】
【化2】
【0009】(ただし、一般式(1),(2)又は
(3)において、R1は水素又は炭素数が1〜20のア
ルキル基、R2は水素、ビニル基又は炭素数が1〜5の
アルキル基、R3,R4は炭素数が1〜3のアルキル基、
nは1〜3) (R5O)3SiR6Si(OR5)3 (4) (ただし、R5Oは炭素数1〜4の低級アルコキシ基、
R6は炭素数1〜8のアルキレン基を示す)にある。
(3)において、R1は水素又は炭素数が1〜20のア
ルキル基、R2は水素、ビニル基又は炭素数が1〜5の
アルキル基、R3,R4は炭素数が1〜3のアルキル基、
nは1〜3) (R5O)3SiR6Si(OR5)3 (4) (ただし、R5Oは炭素数1〜4の低級アルコキシ基、
R6は炭素数1〜8のアルキレン基を示す)にある。
【0010】本発明の金属処理剤の(A)成分であるイ
ミダゾールシラン化合物(1)、(2)及び/又は
(3)は、一般式(5)で表されるイミダゾール化合物
と一般式(6)で表される3−グリシドキシプロピルシ
ラン化合物とを、80〜200℃で反応させることによ
り製造することができる。その反応を式で示すと次のよ
うになる。
ミダゾールシラン化合物(1)、(2)及び/又は
(3)は、一般式(5)で表されるイミダゾール化合物
と一般式(6)で表される3−グリシドキシプロピルシ
ラン化合物とを、80〜200℃で反応させることによ
り製造することができる。その反応を式で示すと次のよ
うになる。
【0011】
【化3】
【0012】(上記式中、R1は水素又は炭素数が1〜
20のアルキル基、R2は水素、ビニル基又は炭素数1
〜5のアルキル基、R3及びR4は炭素数1〜3のアルキ
ル基、nは1〜3を表す)上記一般式(5)で表される
イミダゾール化合物として好ましいのは、イミダゾー
ル、2−アルキルイミダゾール、2,4−ジアルキルイ
ミダゾール、4−ビニルイミダゾール等である。これら
のうちとくに好ましいのは、イミダゾール;2−アルキ
ルイミダゾールとしては、2−メチルイミダゾール、2
−エチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、
2−ヘプタデシルイミダゾール;また、2,4−ジアル
キルイミダゾールとしては、2−エチル−4−メチルイ
ミダゾール等を挙げることができる。又上記一般式
(6)で表される3−グリシドキシプロピルシラン化合
物は、3−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシ
ラン、3−グリシドキシプロピルアルコキシジアルキル
シランであり、これらのうちとくに好ましいものを挙げ
れば、3−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン
としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ま
た3−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシラ
ンとしては、3−グリシドキシプロピルジメトキシメチ
ルシラン、3−グリシドキシプロピルアルコキシジアル
キルシランとしては、3−グリシドキシプロピルエトキ
シジメチルシラン等である。
20のアルキル基、R2は水素、ビニル基又は炭素数1
〜5のアルキル基、R3及びR4は炭素数1〜3のアルキ
ル基、nは1〜3を表す)上記一般式(5)で表される
イミダゾール化合物として好ましいのは、イミダゾー
ル、2−アルキルイミダゾール、2,4−ジアルキルイ
ミダゾール、4−ビニルイミダゾール等である。これら
のうちとくに好ましいのは、イミダゾール;2−アルキ
ルイミダゾールとしては、2−メチルイミダゾール、2
−エチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、
2−ヘプタデシルイミダゾール;また、2,4−ジアル
キルイミダゾールとしては、2−エチル−4−メチルイ
ミダゾール等を挙げることができる。又上記一般式
(6)で表される3−グリシドキシプロピルシラン化合
物は、3−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシ
ラン、3−グリシドキシプロピルアルコキシジアルキル
シランであり、これらのうちとくに好ましいものを挙げ
れば、3−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン
としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ま
た3−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシラ
ンとしては、3−グリシドキシプロピルジメトキシメチ
ルシラン、3−グリシドキシプロピルアルコキシジアル
キルシランとしては、3−グリシドキシプロピルエトキ
シジメチルシラン等である。
【0013】上記イミダゾール化合物と3−グリシドキ
シプロピルシラン化合物との反応は、80〜200℃の
温度に加熱したイミダゾール化合物に0.1〜10モル
倍量の3−グリシドキシプロピルシラン化合物を滴下さ
せながら行うと良く、反応時間は5分〜2時間程度で十
分である。この反応は特には溶媒を必要とはしないが、
クロロホルム、ジオキサン、メタノール、エタノール等
の有機溶剤を反応溶媒として用いてもよい。尚、この反
応は、水分を嫌うので、水分が混入しないように、乾燥
した窒素、アルゴン等の水分を含まない気体の雰囲気下
で行うことが好ましい。
シプロピルシラン化合物との反応は、80〜200℃の
温度に加熱したイミダゾール化合物に0.1〜10モル
倍量の3−グリシドキシプロピルシラン化合物を滴下さ
せながら行うと良く、反応時間は5分〜2時間程度で十
分である。この反応は特には溶媒を必要とはしないが、
クロロホルム、ジオキサン、メタノール、エタノール等
の有機溶剤を反応溶媒として用いてもよい。尚、この反
応は、水分を嫌うので、水分が混入しないように、乾燥
した窒素、アルゴン等の水分を含まない気体の雰囲気下
で行うことが好ましい。
【0014】この反応において、上記一般式(1)、
(2)及び(3)で示したイミダゾールシラン化合物は
混合物の状態で得られるが、これらの化合物は、溶解度
の差を利用する方法、カラムクロマトグラフィー等の既
知の手段により精製され、単離されうる。尚、本発明の
金属表面処理剤として用いる場合は、これらのイミダゾ
ールシラン化合物は必ずしも単離する必要はなく、混合
物のまま用いることが簡便で好ましい。なお、生成物中
の各成分組成は、一般に一般式(1):同(2):同
(3)=(40〜80):(10〜30):(5〜4
0)(液体クロマトグラフィーで分析したときの面積
比)である。
(2)及び(3)で示したイミダゾールシラン化合物は
混合物の状態で得られるが、これらの化合物は、溶解度
の差を利用する方法、カラムクロマトグラフィー等の既
知の手段により精製され、単離されうる。尚、本発明の
金属表面処理剤として用いる場合は、これらのイミダゾ
ールシラン化合物は必ずしも単離する必要はなく、混合
物のまま用いることが簡便で好ましい。なお、生成物中
の各成分組成は、一般に一般式(1):同(2):同
(3)=(40〜80):(10〜30):(5〜4
0)(液体クロマトグラフィーで分析したときの面積
比)である。
【0015】本発明の金属処理剤の(B)成分であるビ
ストリアルコキシシリル化合物の好ましいものを例示す
ると以下のものを挙げることができる。
ストリアルコキシシリル化合物の好ましいものを例示す
ると以下のものを挙げることができる。
【0016】(CH3O)3Si(CH2)2Si(OCH
3)3、(CH3O)3Si(CH2)3Si(OCH3)3、
(CH3O)3Si(CH2)4Si(OCH3)3、(CH
3O)3Si(CH2)6Si(OCH3)3、本発明に使用
するビストリアルコキシシリル化合物は、いずれも公知
の方法により合成することができる。例えば、ビストリ
アルコキシシリルアルキレン化合物はリチウムの存在下
でクロロアルキルトリアルコキシシラン、テトラアルコ
キシシランを反応させることにより合成することができ
る(特開昭64−6036)。あるいは市販品[例えば
チッ素(株)、東芝シリコーン(株)製等]を利用する
こともできる。
3)3、(CH3O)3Si(CH2)3Si(OCH3)3、
(CH3O)3Si(CH2)4Si(OCH3)3、(CH
3O)3Si(CH2)6Si(OCH3)3、本発明に使用
するビストリアルコキシシリル化合物は、いずれも公知
の方法により合成することができる。例えば、ビストリ
アルコキシシリルアルキレン化合物はリチウムの存在下
でクロロアルキルトリアルコキシシラン、テトラアルコ
キシシランを反応させることにより合成することができ
る(特開昭64−6036)。あるいは市販品[例えば
チッ素(株)、東芝シリコーン(株)製等]を利用する
こともできる。
【0017】本発明の金属処理剤において(A)成分と
(B)成分の混合割合は、耐湿性が要求される場合(銅
箔ではS面側)はA:B=90:10〜1:99の範囲
で使用することができ、好ましくは75:25〜1:9
9であり、また接着性が要求される場合(銅箔ではM面
側)は60:40〜1:99、好ましくは50:50〜
1:99である。塗布厚はとくに限定されないが、耐湿
性が要求される場合は、通常0.01μm以上、好まし
くは0.1μm以上である。
(B)成分の混合割合は、耐湿性が要求される場合(銅
箔ではS面側)はA:B=90:10〜1:99の範囲
で使用することができ、好ましくは75:25〜1:9
9であり、また接着性が要求される場合(銅箔ではM面
側)は60:40〜1:99、好ましくは50:50〜
1:99である。塗布厚はとくに限定されないが、耐湿
性が要求される場合は、通常0.01μm以上、好まし
くは0.1μm以上である。
【0018】本発明の金属表面処理剤が対象とする金属
には特に制限はない。たとえば銅、亜鉛及びこれらの合
金等の表面処理剤として有用である。しかし、銅の表面
処理剤として用いることが好適であり、特にはプリント
回路用銅張積層板等に用いられる銅箔の表面処理剤とし
て用いると本発明の効果を十分に発揮することができ
る。この銅箔には銅箔の表面を粗面化処理したもの、銅
箔に黄銅層形成処理したもの、クロメート処理したも
の、亜鉛−クロム基混合物被覆処理したもの等も包含さ
れる。
には特に制限はない。たとえば銅、亜鉛及びこれらの合
金等の表面処理剤として有用である。しかし、銅の表面
処理剤として用いることが好適であり、特にはプリント
回路用銅張積層板等に用いられる銅箔の表面処理剤とし
て用いると本発明の効果を十分に発揮することができ
る。この銅箔には銅箔の表面を粗面化処理したもの、銅
箔に黄銅層形成処理したもの、クロメート処理したも
の、亜鉛−クロム基混合物被覆処理したもの等も包含さ
れる。
【0019】本発明の表面処理剤は、そのまま直接金属
表面に塗布してもよいが、水、メタノール、エタノール
等のアルコール類、更には、アセトン、酢酸エチル、ト
ルエン等の溶剤で0.001〜10重量%、好ましくは
0.01〜6重量%になるように希釈し、この液に金属
を浸漬させる方法で塗布することが簡便で好ましい。
尚、イミダゾールシラン化合物及びビストリアルコキシ
シリル化合物の混合物は、各単独で用いてもよいが、各
複数の化合物を混合して用いてもよく、また他の防錆
剤、或いは、カップリング剤等と混合して用いてもよ
い。
表面に塗布してもよいが、水、メタノール、エタノール
等のアルコール類、更には、アセトン、酢酸エチル、ト
ルエン等の溶剤で0.001〜10重量%、好ましくは
0.01〜6重量%になるように希釈し、この液に金属
を浸漬させる方法で塗布することが簡便で好ましい。
尚、イミダゾールシラン化合物及びビストリアルコキシ
シリル化合物の混合物は、各単独で用いてもよいが、各
複数の化合物を混合して用いてもよく、また他の防錆
剤、或いは、カップリング剤等と混合して用いてもよ
い。
【0020】
【実施例】実施例1イミダゾールシラン化合物(A−1)の合成 イミダゾールと3−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランとを特願平4−183783号の実施例1と同様
に反応させて以下の3成分の混合物[イミダゾールシラ
ン化合物(A−1)]を得た。
シランとを特願平4−183783号の実施例1と同様
に反応させて以下の3成分の混合物[イミダゾールシラ
ン化合物(A−1)]を得た。
【0021】
【化4】
【0022】これらの混合組成比は、式(1−1):
(2−1):(3−1)=45:22:33である。
(2−1):(3−1)=45:22:33である。
【0023】表面処理剤(1)の調製 上記イミダゾールシラン化合物の混合物(A−1)にビ
ストリメトキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表
1に示す6%濃度(トータル濃度、以下同様)のメタノ
ール溶液を調製し、表面処理剤(1)とした。
ストリメトキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表
1に示す6%濃度(トータル濃度、以下同様)のメタノ
ール溶液を調製し、表面処理剤(1)とした。
【0024】表面処理剤(1)の評価 本発明の表面処理剤(1)を評価するため、以下のよう
にしてサンプルを調製した。次いでそれらについて耐湿
性の評価を行った。
にしてサンプルを調製した。次いでそれらについて耐湿
性の評価を行った。
【0025】耐湿性評価サンプル 2oz生箔(4.5×4.5cm)をアセトンで5分間
超音波洗浄した。水でアセトンを除去し、3%H2SO4
水溶液で1分間洗浄した後、水、アセトンの順で洗浄し
ドライヤーで乾燥した。この銅箔のS面上に上記のよう
にして調製した表面処理剤(1)をスピンコーターで6
×10-4g塗布し(比重1と仮定したときの膜厚は約
0.3μm)、表面処理箔を作成した。
超音波洗浄した。水でアセトンを除去し、3%H2SO4
水溶液で1分間洗浄した後、水、アセトンの順で洗浄し
ドライヤーで乾燥した。この銅箔のS面上に上記のよう
にして調製した表面処理剤(1)をスピンコーターで6
×10-4g塗布し(比重1と仮定したときの膜厚は約
0.3μm)、表面処理箔を作成した。
【0026】耐湿性試験 前記耐湿性評価用サンプルを80℃、95%(相対湿
度)の恒温槽で24時間放置し、銅箔の変色を目視によ
り評価した。その結果を表1に示す。
度)の恒温槽で24時間放置し、銅箔の変色を目視によ
り評価した。その結果を表1に示す。
【0027】
【表1】
【0028】* 耐湿性の評価は、以下の基準によって
行った。
行った。
【0029】1:黒褐色に変色 2:橙色又は黄色に変色 3:少し変色 4:わずかに変色 5:変色なし 実施例2イミダゾールシラン化合物(A−2)の合成 前記のイミダゾールシラン化合物(1)の合成法におい
て、イミダゾールに代えて、2−エチル−4−メチルイ
ミダゾールを用い、反応温度を95℃とした以外は同様
にして前記一般式(1),(2)及び(3)に対応する
成分の混合物であるイミダゾールシラン化合物(A−
2)を合成した。
て、イミダゾールに代えて、2−エチル−4−メチルイ
ミダゾールを用い、反応温度を95℃とした以外は同様
にして前記一般式(1),(2)及び(3)に対応する
成分の混合物であるイミダゾールシラン化合物(A−
2)を合成した。
【0030】表面処理剤の調製 上記イミダゾールシラン化合物(A−2)にビストリメ
トキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表2に示す
6%濃度のメタノール溶液を調製した。
トキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表2に示す
6%濃度のメタノール溶液を調製した。
【0031】表面処理剤(2)の評価 前記表面処理剤(2)を用い、実施例1と同様にして耐
湿性サンプルを作成し、耐湿性試験を行った。その結果
を表2に示す。
湿性サンプルを作成し、耐湿性試験を行った。その結果
を表2に示す。
【0032】
【表2】
【0033】* 耐湿性の評価は表1と同じ 実施例3イミダゾールシラン化合物(A−3)の合成 前記のイミダゾールシラン化合物(1)の合成法におい
て、イミダゾールに代えて2−ウンデシルイミダゾール
を用い、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
に代えて3−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシ
ランを用い、反応温度を95℃とした以外は同様にして
前記一般式(1),(2)及び(3)に対応する成分の
混合物であるイミダゾールシラン化合物(A−3)を合
成した。 表面処理剤(3)の調製 上記イミダゾールシラン化合物(A−3)にビストリメ
トキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表3に示す
6%濃度のメタノール溶液を調製し、表面処理剤(3)
とした。
て、イミダゾールに代えて2−ウンデシルイミダゾール
を用い、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
に代えて3−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシ
ランを用い、反応温度を95℃とした以外は同様にして
前記一般式(1),(2)及び(3)に対応する成分の
混合物であるイミダゾールシラン化合物(A−3)を合
成した。 表面処理剤(3)の調製 上記イミダゾールシラン化合物(A−3)にビストリメ
トキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表3に示す
6%濃度のメタノール溶液を調製し、表面処理剤(3)
とした。
【0034】表面処理剤(3)の評価 前記処理剤(3)を用い、実施例1と同様にして耐湿性
サンプルを作成し、耐湿性試験を行った。その結果を表
3に示す。
サンプルを作成し、耐湿性試験を行った。その結果を表
3に示す。
【0035】
【表3】
【0036】* 耐湿性の評価は表1と同じ 実施例4イミダゾールシラン化合物(A−4)の合成 前記のイミダゾールシラン化合物(1)の合成法におい
て、イミダゾールに代えて2−ウンデシルイミダゾール
を用い、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
に代えて3−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシ
ランを用い、反応温度を95℃とした以外は同様にして
前記一般式(1),(2)及び(3)に対応する成分の
混合物であるイミダゾールシラン化合物(A−4)を合
成した。 表面処理剤(4)の調製 上記イミダゾールシラン化合物(A−4)にビストリメ
トキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表4に示す
6%濃度のメタノール溶液を調製し、表面処理剤(4)
とした。
て、イミダゾールに代えて2−ウンデシルイミダゾール
を用い、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
に代えて3−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシ
ランを用い、反応温度を95℃とした以外は同様にして
前記一般式(1),(2)及び(3)に対応する成分の
混合物であるイミダゾールシラン化合物(A−4)を合
成した。 表面処理剤(4)の調製 上記イミダゾールシラン化合物(A−4)にビストリメ
トキシシリルエタンを各種の割合で混合し、表4に示す
6%濃度のメタノール溶液を調製し、表面処理剤(4)
とした。
【0037】表面処理剤(4)の評価 前記表面処理剤(4)を用い、実施例1と同様にして耐
湿性サンプルを作成し、耐湿性試験を行った。その結果
を表4に示す。
湿性サンプルを作成し、耐湿性試験を行った。その結果
を表4に示す。
【0038】
【表4】
【0039】* 耐湿性の評価は表1と同じ 実施例5〜8 前記の表1〜4に示す各表面処理剤(1)〜(4)(た
だし、0.4%濃度)を用いて以下のようにして接着性
の評価を行った。
だし、0.4%濃度)を用いて以下のようにして接着性
の評価を行った。
【0040】接着性評価サンプル 1ozJTC箔(S面に亜鉛又は酸化亜鉛とクロム酸化
物との亜鉛−クロム基混合物層を有し、M面に黄銅層を
介して前記亜鉛−クロム基混合物層を有する箔;25×
25cm)のM面上に酢酸でpH5に調整した本発明の
表面処理剤の水溶液(0.4%濃度)を少量滴下し、S
US製ロールをころがし処理剤を塗布した。塗布後、1
00℃で5分間乾燥器で乾燥した。
物との亜鉛−クロム基混合物層を有し、M面に黄銅層を
介して前記亜鉛−クロム基混合物層を有する箔;25×
25cm)のM面上に酢酸でpH5に調整した本発明の
表面処理剤の水溶液(0.4%濃度)を少量滴下し、S
US製ロールをころがし処理剤を塗布した。塗布後、1
00℃で5分間乾燥器で乾燥した。
【0041】接着性試験 前記接着性評価用サンプルを、エポキシ樹脂が含浸され
たプリプレグと加熱プレスし、銅張積層体を作成した。
この銅張積層体の銅箔側をエッチングして0.2mm幅
回路×10本を形成し、沸騰水に2時間浸漬後ピール強
度を測定し、その強度と煮沸処理前のピール強度との差
を求め、それを後者で除して得られた%を劣化率とし
た。その結果を図1に示す。また、比較例としてγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾール
シラン化合物及びビストリメトキシシリルエタンの評価
結果も図1に示す。
たプリプレグと加熱プレスし、銅張積層体を作成した。
この銅張積層体の銅箔側をエッチングして0.2mm幅
回路×10本を形成し、沸騰水に2時間浸漬後ピール強
度を測定し、その強度と煮沸処理前のピール強度との差
を求め、それを後者で除して得られた%を劣化率とし
た。その結果を図1に示す。また、比較例としてγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、イミダゾール
シラン化合物及びビストリメトキシシリルエタンの評価
結果も図1に示す。
【0042】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理剤に
よりS面の耐湿性が向上し、長期間高温・高湿の状態で
保管しても酸化されることがない。又M面側では樹脂と
の接着性が向上し煮沸後のピール強度・劣化率を小さく
することができるので、たとえばプリント基板として実
装した場合、高温・高湿の条件下でも剥離せず信頼性を
高めることができる。
よりS面の耐湿性が向上し、長期間高温・高湿の状態で
保管しても酸化されることがない。又M面側では樹脂と
の接着性が向上し煮沸後のピール強度・劣化率を小さく
することができるので、たとえばプリント基板として実
装した場合、高温・高湿の条件下でも剥離せず信頼性を
高めることができる。
【図1】本発明表面処理剤の煮沸後ピール強度(劣化
率)を示す図。
率)を示す図。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(1)、(2)及び/又は
(3)で表される新規イミダゾールシラン化合物(A)
及び下記一般式(4)で表されるビストリアルコキシシ
リル化合物(B)を有効成分とする金属表面処理剤。 【化1】 (ただし、一般式(1),(2)又は(3)において、
R1は水素又は炭素数が1〜20のアルキル基、R2は水
素、ビニル基又は炭素数が1〜5のアルキル基、R3,
R4は炭素数が1〜3のアルキル基、nは1〜3) (R5O)3SiR6Si(OR5)3 (4) (ただし、R5Oは炭素数1〜4の低級アルコキシ基、
R6は炭素数1〜8のアルキレン基を示す)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32930492A JPH06177535A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 金属表面処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32930492A JPH06177535A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 金属表面処理剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06177535A true JPH06177535A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18219967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32930492A Pending JPH06177535A (ja) | 1992-12-09 | 1992-12-09 | 金属表面処理剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06177535A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0756443A1 (en) * | 1995-07-24 | 1997-01-29 | Gould Electronics Inc. | Multi-layer structures containing an adhesion promoting layer |
| JP2000297094A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Japan Energy Corp | 新規有機ケイ素化合物およびその製造方法並びにそれを用いる表面処理剤および樹脂添加剤 |
| JP2001342578A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Honda Motor Co Ltd | 金属表面処理剤 |
| JP2006316300A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 銅の表面処理方法及び銅表面 |
| JPWO2005031037A1 (ja) * | 2003-09-29 | 2007-11-15 | 東レ株式会社 | チタンまたはチタン合金、接着用樹脂組成物、プリプレグおよび複合材料 |
| KR101411731B1 (ko) * | 2009-09-11 | 2014-06-25 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 리튬 이온 전지 집전체용 동박 |
| JP2017043845A (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属材料用表面処理剤、金属接合体および金属材料の接着方法 |
| US20240141502A1 (en) * | 2022-11-02 | 2024-05-02 | Hitachi, Ltd. | Metal surface treatment agent |
-
1992
- 1992-12-09 JP JP32930492A patent/JPH06177535A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0756443A1 (en) * | 1995-07-24 | 1997-01-29 | Gould Electronics Inc. | Multi-layer structures containing an adhesion promoting layer |
| JP2000297094A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Japan Energy Corp | 新規有機ケイ素化合物およびその製造方法並びにそれを用いる表面処理剤および樹脂添加剤 |
| JP2001342578A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Honda Motor Co Ltd | 金属表面処理剤 |
| JPWO2005031037A1 (ja) * | 2003-09-29 | 2007-11-15 | 東レ株式会社 | チタンまたはチタン合金、接着用樹脂組成物、プリプレグおよび複合材料 |
| JP2006316300A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 銅の表面処理方法及び銅表面 |
| KR101411731B1 (ko) * | 2009-09-11 | 2014-06-25 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 | 리튬 이온 전지 집전체용 동박 |
| JP2017043845A (ja) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属材料用表面処理剤、金属接合体および金属材料の接着方法 |
| US20240141502A1 (en) * | 2022-11-02 | 2024-05-02 | Hitachi, Ltd. | Metal surface treatment agent |
| JP2024066777A (ja) * | 2022-11-02 | 2024-05-16 | 株式会社日立製作所 | 金属表面処理剤 |
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