JPH06186143A - サンプルガス導入機構 - Google Patents

サンプルガス導入機構

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JPH06186143A
JPH06186143A JP4355932A JP35593292A JPH06186143A JP H06186143 A JPH06186143 A JP H06186143A JP 4355932 A JP4355932 A JP 4355932A JP 35593292 A JP35593292 A JP 35593292A JP H06186143 A JPH06186143 A JP H06186143A
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gas
sample gas
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mass spectrometer
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Yoshihiko Naito
儀彦 内藤
Toyomi Nishi
豊美 西
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Ebara Research Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 サンプルガスの質量分析器内への導入に要す
る応答時間を極端に短くできるサンプルガス導入機構を
提供すること。 【構成】 ガス導入管13の一端を圧力調整用板10の
前面に接近させて配設するとともにその他端を吸気用ポ
ンプ20に接続する。吸気用ポンプ20によって強制的
に吸気したサンプルガスをガス導入管13を通して圧力
調整用板10に向けて吹き付ける。吹き付けられたサン
プルガスの多くはガス導出管15を通して自然排気され
る。一方吹き付けられたサンプルガスの一部は早急に質
量分析器内に導入される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス検出装置に用いる
質量分析器のサンプルガス導入部に改良を加えたサンプ
ルガス導入機構に関するものである。
【0002】
【従来技術】従来、ヘリウムガス等の所望のガスを検出
する方法として、質量分析器を用いたガス検出装置が使
用されている。このガス検出装置は、真空に近い状態と
された質量分析器内に圧力調整用板を介して検査しよう
とするサンプルガスを導入し、該サンプルガス中に測定
したいガスが含まれているか否かを検出するものであ
る。
【0003】ここで図5(a),(b)は質量分析器内
にサンプルガスを導入するサンプルガス導入機構の従来
の構成を示す概略構成図である。同図(a)に示す機構
においては、圧力調整用板80のサンプルガス吸入側に
管81を接続しておき、該管81の流入孔83から流出
孔85に向けてサンプルガスを循環させる。そして該サ
ンプルガスの圧力(大気圧)と質量分析器内の圧力(ほ
ぼ真空)の差を利用して、該サンプルガスの一部を圧力
調整板80を通して質量分析器内に適当量自然吸気させ
る。
【0004】また同図(b)に示す機構においては、圧
力調整用板90のサンプルガス吸入側にガスリザーバ9
1を接続すると共に、該ガスリザーバ91に2つのバル
ブ93,95を接続しておく。そしてまずバルブ95を
開いて図示しない補助ポンプにてガスリザーバ91内を
減圧し、次にバルブ95を一度閉めた後に、バルブ93
を開いてガスリザーバ91内にサンプルガスを導入す
る。その後圧力調整用板90を通して質量分析器内に適
当量のサンプルガスを導入させる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の方法は、サンプルガスを単に圧力差によって質量分析
器内に自然吸気させたり、多数のバルブによってその都
度サンプルガスを質量分析器内に適量導入したりするも
のであるため、質量分析するのに多少の応答時間を要し
てしまい、検出しようとするガスの状態(特にガス濃
度)変化に即応できないという欠点があった。
【0006】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、サンプルガスの質量分析器内への導
入に要する応答時間を極端に短くすることのできるサン
プルガス導入機構を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明は、図1に示すように、ガス導入管13の一端
を圧力調整用板10の前面に接近して配設するとともに
その他端を吸気用ポンプ20に接続し、前記吸気用ポン
プ20によって吸気したサンプルガスを前記ガス導入管
13を通して前記圧力調整用板10に向けて吹き付ける
ように構成した。
【0008】
【作用】サンプルガスは吸気用ポンプ20に強制的に吸
い込まれて加圧され、ガス導入管13を通して圧力調整
用板10に向けて吹き付けられる。その後はガス導出管
15を通してその排気孔17から自然排気される。
【0009】一方圧力調整用板10にサンプルガスを吹
き付けることにより、現在測定したいサンプルガスを早
急に質量分析器内に導入できる。従ってガスの状態(特
にガス濃度)変化に即座に対応でき、逐次その変化を追
うことができる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は本発明の1実施例の要部を示す概略
図である。同図に示すようにこの実施例においては、圧
力調整用板10のサンプルガス吸入側に接続される管1
1を二重管構造とし、内側のガス導入管13の一端を前
記圧力調整用板10に接近させ、また該ガス導入管13
の他端を吸気用ポンプ20に接続し、さらに外側のガス
導出管15の所定位置に排気孔17を設けて構成されて
いる。
【0011】ここで圧力調整用板10は、圧力調整用多
孔質板(圧力調整用多孔質金属板又は圧力調整用多孔質
セラミック板)で構成されている。
【0012】そして吸気用ポンプ20によって吸気さ
れ、加圧されたサンプルガスはガス導入管13によって
誘導されて、直接圧力調整用板10に吹き付けられる。
これによってサンプルガスの質量分析器内への導入に要
する応答時間を極端に短くすることができる。
【0013】ここで図2は上記実施例を用いて構成した
ガス検出装置を示す概略構成図である。なおこのガス検
知装置においては、圧力調整用板10として圧力調整用
多孔質セラミック板を用い、吸気用ポンプ20としてダ
イヤフラムポンプを用い、質量分析器として磁場偏向型
質量分析器30を用いている。
【0014】同図に示すようにこのガス検出装置1は、
圧力調整用板10の前面に、前記図1に示す構造の管1
1と吸気用ポンプ20を接続し、また該圧力調整用板1
0の後面に、磁場偏向型質量分析器30を接続して構成
されている。磁場偏向型質量分析器30の内部はターボ
分子ポンプ33によって排気される。
【0015】ここで圧力調整用板10は、予めターボ分
子ポンプ33の排気性能に合わせて、磁場偏向型質量分
析器30内の圧力が常に5/105〜1/104[Torr]
になるように調整しておく。
【0016】次にこのガス検出装置1の動作を説明す
る。まず吸気用ポンプ20にサンプルガスを強制的に吸
い込んで加圧し、内側のガス導入管13を通して圧力調
整用板10に向けて吹き付ける。その後は外側のガス導
出管15を通してその排気孔17から自然排気させる。
【0017】一方圧力調整用板10に吹き付けられたサ
ンプルガスの一部は、サンプルガスの圧力(大気圧)と
磁場偏向型質量分析器30内の圧力(ほぼ真空)の差に
よって、磁場偏向型質量分析器30内に導入される。こ
のように圧力調整用板10にサンプルガスを吹き付ける
ことにより、現在測定したいサンプルガスを早急に磁場
偏向型質量分析器30内に導入できる。
【0018】なお磁場偏向型質量分析器30内に導入さ
れたサンプルガスは、イオン源31によってイオン化さ
れ、加速され、偏向用磁石35によって偏向された後
に、検出したいガスが検出部37によって検出される。
【0019】次に図3(a),(b)は、それぞれ従来
のサンプルガス導入機構を用いたガス検出装置と、図2
に示す本発明にかかるサンプルガス導入機構を用いたガ
ス検出装置を用いて測定した質量分析器出力と応答時間
の関係を示す図である。なお従来のガス検出装置として
は、図5(a)に示す構造のものに図2に示す磁場偏向
型質量分析器30を接続したものを用いた。
【0020】この実験は、図2に示すガス導入口21か
ら、初めは空気を供給し、次に風船に入ったサンプルガ
ス(ヘリウムガス,1000[ppm])を供給する。そして
このときの磁場偏向型質量分析器30の出力の時間変化
を測定したものである。図3の縦軸はサンプルガスに対
する磁場偏向型質量分析器30の出力、横軸はガス導入
時からの経過時間を示す。図中、Aは反応の立ち上がり
時間を、Bは立ち下がり時間を示している。
【0021】この実験からも明らかなように、本発明に
かかるガス検出装置は、立ち上がり時間,立ち下がり時
間共にその反応時間を極端(Aでは約1/4、Bでは約
1/5)に短縮できる。
【0022】次に図4は本発明の他の実施例を用いて構
成したガス検出装置1′を示す概略構成図である。この
実施例において前記実施例と相違する点は、ガス導入管
13′とガス導出管15′を二重管構造とせず、フラン
ジ25にガス導入管13′とガス導出管15′を別々に
接続し、該フランジ25と磁場偏向型質量分析器30の
フランジ39を圧力調整用板10と密閉リング26を挾
んで接続した点である。なおフランジ25とフランジ3
9の間に密閉リング26を挾むことによって、圧力調整
用板10とフランジ25の間に隙間が設けられる。
【0023】このように構成しても、ガス導入管13′
のガス吹き出し口は圧力調整用板10に接近し、該ガス
導入管13′から吹き出されるサンプルガスは、圧力調
整用板10に吹き付けられる。従ってその効果は前記図
1,図2に示すものと同様である。なおその後、該サン
プルガスの多くは隙間を通してガス導出管15′から排
気される。
【0024】なお上記各実施例においては磁場偏向型質
量分析器を用いたが、本発明はこれに限られず、真空中
にサンプルガスを導入する構造の質量分析器であれば、
どのようなものであってもよい。
【0025】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かるサンプルガス導入機構によれば、サンプルガスを即
座に質量分析器内に導入できるので、ガスの状態(特に
ガス濃度)変化に即座に対応でき、逐次その変化を追う
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例の要部を示す概略図である。
【図2】図1の実施例を用いて構成したガス検出装置を
示す概略構成図である。
【図3】図3(a),(b)はそれぞれ従来のサンプル
ガス導入機構を用いたガス検出装置と、図2に示す本発
明のサンプルガス導入機構を用いたガス検出装置を用い
て測定した質量分析器出力と応答時間の関係を示す図で
ある。
【図4】本発明の他の実施例を用いて構成したガス検出
装置を示す概略構成図である。
【図5】質量分析器内にサンプルガスを導入するサンプ
ルガス導入機構の従来の構成を示す概略構成図である。
【符号の説明】
1,1′ ガス検出装置 10 圧力調整用板 13,13′ ガス導入管 20 吸気用ポンプ 30 磁場偏向型質量分析器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧力調整用板の前面にガス導入管とガス
    導出管を取り付け該ガス導入管を通して前記圧力調整用
    板の前面にサンプルガスを導き、余分なサンプルガスを
    ガス導出管を通して排出するとともに、該圧力調整用板
    の後面に接続したほぼ真空状態の質量分析器内に前記サ
    ンプルガスの一部を吸引せしめるように構成したサンプ
    ルガス導入機構において、 前記ガス導入管の一端を前記圧力調整用板の前面に接近
    させて配設するとともにその他端を吸気用ポンプに接続
    し、前記吸気用ポンプによって吸気したサンプルガスを
    前記ガス導入管を通して前記圧力調整用板に向けて吹き
    付けることを特徴とするサンプルガス導入機構。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102103094A (zh) * 2010-12-31 2011-06-22 聚光科技(杭州)股份有限公司 管道内气体中元素的监测系统及运行方法
JP7793160B1 (ja) * 2025-08-29 2026-01-05 Rebive・E株式会社 ガス分析装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49106885A (ja) * 1973-02-12 1974-10-09
JPS54118894A (en) * 1978-03-08 1979-09-14 Idemitsu Kosan Co Method of sampling gas by blowing

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49106885A (ja) * 1973-02-12 1974-10-09
JPS54118894A (en) * 1978-03-08 1979-09-14 Idemitsu Kosan Co Method of sampling gas by blowing

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102103094A (zh) * 2010-12-31 2011-06-22 聚光科技(杭州)股份有限公司 管道内气体中元素的监测系统及运行方法
JP7793160B1 (ja) * 2025-08-29 2026-01-05 Rebive・E株式会社 ガス分析装置

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