JPH0619084Y2 - 誘導結合プラズマ発光分光分析装置 - Google Patents
誘導結合プラズマ発光分光分析装置Info
- Publication number
- JPH0619084Y2 JPH0619084Y2 JP15776486U JP15776486U JPH0619084Y2 JP H0619084 Y2 JPH0619084 Y2 JP H0619084Y2 JP 15776486 U JP15776486 U JP 15776486U JP 15776486 U JP15776486 U JP 15776486U JP H0619084 Y2 JPH0619084 Y2 JP H0619084Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- inductively coupled
- spray chamber
- flow rate
- nebulizer
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 title claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 24
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 238000002354 inductively-coupled plasma atomic emission spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
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- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、誘導結合プラズマ発光分光分析装置（以下単
にＩＣＰ−ＡＥＳと称す）に関する。
にＩＣＰ−ＡＥＳと称す）に関する。
ネブライザーに供給するキャリヤーガスとは別系統で、
噴霧室へ直接ガスを導入し、噴霧室へのガス流量を調整
することによって、プラズマへのガス流量を調整し、プ
ラズマの温度を調整して、任意の元素の分析に適した条
件を作る。
噴霧室へ直接ガスを導入し、噴霧室へのガス流量を調整
することによって、プラズマへのガス流量を調整し、プ
ラズマの温度を調整して、任意の元素の分析に適した条
件を作る。
ＩＣＰ−ＡＥＳでは、各元素毎に、分析に最適な条件が
異なる。このとき、条件とは、発光部高さ、ガス類流
量、プラズマ出力のことである。ＩＣＰ−ＡＥＳの開発
当初は、全て手動にて調整していたが、分析の迅速さに
欠けることから、これらの条件のうち、キャリヤーガス
の流量を段階的に変化させる試みが行なわれている〔特
開61−14547〕。
異なる。このとき、条件とは、発光部高さ、ガス類流
量、プラズマ出力のことである。ＩＣＰ−ＡＥＳの開発
当初は、全て手動にて調整していたが、分析の迅速さに
欠けることから、これらの条件のうち、キャリヤーガス
の流量を段階的に変化させる試みが行なわれている〔特
開61−14547〕。
ガス流量を調整して、プラズマの条件を変化させようと
して、ネブライザーに流すキャリヤーガスの流量を変化
させると、ネブライザーからのガスの噴出孔が狭く、ネ
ブライザー内に加える圧力を変化させなくてはならない
が、ネブライザーに加える圧力が変化するには、時間を
要する。特に減圧する際には、１分間近くも要すること
があり、シーケンシャルに、多くの元素を分析しようと
する場合には、迅速性に欠ける。
して、ネブライザーに流すキャリヤーガスの流量を変化
させると、ネブライザーからのガスの噴出孔が狭く、ネ
ブライザー内に加える圧力を変化させなくてはならない
が、ネブライザーに加える圧力が変化するには、時間を
要する。特に減圧する際には、１分間近くも要すること
があり、シーケンシャルに、多くの元素を分析しようと
する場合には、迅速性に欠ける。
キャリヤーガスとは別に、プラズマの条件を変化させる
ためのガスを噴霧室に導入させるための導入孔を噴霧室
に設けると共に、このガスを各元素に最適な量だけ導入
させるための流量制御機構を設け、前記流量制御機構
を、分析を実行するコンピューターから制御するための
制御回路を設けた。
ためのガスを噴霧室に導入させるための導入孔を噴霧室
に設けると共に、このガスを各元素に最適な量だけ導入
させるための流量制御機構を設け、前記流量制御機構
を、分析を実行するコンピューターから制御するための
制御回路を設けた。
分析中に、元素毎に、最適な流量をコンピューターが、
流量制御機構に指示して噴霧室内に流し、プラズマの条
件を、最適にする。このとき、ガスはネブライザーを経
由しないので、ガスの増減はすみやかに起こり、分析は
迅速に行なわれる。
流量制御機構に指示して噴霧室内に流し、プラズマの条
件を、最適にする。このとき、ガスはネブライザーを経
由しないので、ガスの増減はすみやかに起こり、分析は
迅速に行なわれる。
以下、図面に基づき実施について、詳細に説明する。
第１図は、本考案の実施例である。
ガスコントローラー10で制御されたガスのうち、２流路
は、直接トーチ管１へ導入され、トーチ管１の上部で、
図示されないワークコイルより発生する高周波と誘導結
合し、前記トーチ管１の上部に、誘導結合プラズマを生
成する。このとき、試料６は、前記ガスコントローラー
10より、ネブライザー５を経由して、噴霧室２内に噴霧
されるガスにより吸引され、霧化され、前記噴霧室２内
で粒径選別された後、前記トーチ管１の最内管の内側を
通って、前記トーチ管１の上部に生成した前記誘導結合
プラズマ中へ導入され、前記誘導結合プラズマ中で解離
し、熱励起された後に、前記試料６内の元素固有の光を
発し、図示しない分光器にて、前記光を観察することに
より、前記試料６内に含有される元素の分析を行う。
は、直接トーチ管１へ導入され、トーチ管１の上部で、
図示されないワークコイルより発生する高周波と誘導結
合し、前記トーチ管１の上部に、誘導結合プラズマを生
成する。このとき、試料６は、前記ガスコントローラー
10より、ネブライザー５を経由して、噴霧室２内に噴霧
されるガスにより吸引され、霧化され、前記噴霧室２内
で粒径選別された後、前記トーチ管１の最内管の内側を
通って、前記トーチ管１の上部に生成した前記誘導結合
プラズマ中へ導入され、前記誘導結合プラズマ中で解離
し、熱励起された後に、前記試料６内の元素固有の光を
発し、図示しない分光器にて、前記光を観察することに
より、前記試料６内に含有される元素の分析を行う。
元素を単独にあるいは、順番に分析する際に、コンピュ
ーター９から、制御回路８を通じて流量制御機構７によ
って、ネブライザーアダプター４から、前記噴霧室２内
に導入するガス流量を、分析する元素に最適な量とする
ことにより、分析に最適な条件を得る。
ーター９から、制御回路８を通じて流量制御機構７によ
って、ネブライザーアダプター４から、前記噴霧室２内
に導入するガス流量を、分析する元素に最適な量とする
ことにより、分析に最適な条件を得る。
第２図は、本考案の他の実施例で、流量制御機構を段階
式とし、２段階としたもので、第３図は、噴霧室２に、
直接ガスを導入するものである。
式とし、２段階としたもので、第３図は、噴霧室２に、
直接ガスを導入するものである。
本考案により、プラズマへ導入するガスの流量を制御す
ることにより、元素毎に、分析に最適条件を、分析の迅
速さを損なうことなく実現できる。
ることにより、元素毎に、分析に最適条件を、分析の迅
速さを損なうことなく実現できる。
第１図は、本考案の実施例の断面図で、第２図は、本考
案の他の実施例の断面図で、第３図は、他の実施例の断
面図である。 １……トーチ管 ２……噴霧室 ３……ドレインビン ４……ネブライザーアダプター ５……ネブライザー ６……試料 ７……流量制御機構 ８……制御回路 ９……コンピューター 10……ガスコントローラー
案の他の実施例の断面図で、第３図は、他の実施例の断
面図である。 １……トーチ管 ２……噴霧室 ３……ドレインビン ４……ネブライザーアダプター ５……ネブライザー ６……試料 ７……流量制御機構 ８……制御回路 ９……コンピューター 10……ガスコントローラー
Claims (1)
- 【請求項１】ガスコントローラからのキャリヤーガスに
より試料を吸引し、かつ霧化するネブライザと、 前記ネブライザにより霧化した試料を粒径選別する噴霧
室と、 高周波と誘導結合し、前記噴霧室にて粒径選別された試
料をプラズマ化する、前記噴霧室に接続されたトーチ管
と、 前記キャリヤーガスとは別に、前記噴霧室に、前記ガス
コントローラからガスを導入するために、前記噴霧器に
設けられたガス導入孔と、 前記ガス導入孔から前記噴霧器に導入するガスの流量を
制御する流量制御機構よりなることを特徴とする誘導結
合プラズマ発光分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15776486U JPH0619084Y2 (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | 誘導結合プラズマ発光分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15776486U JPH0619084Y2 (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | 誘導結合プラズマ発光分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6363756U JPS6363756U (ja) | 1988-04-27 |
| JPH0619084Y2 true JPH0619084Y2 (ja) | 1994-05-18 |
Family
ID=31080619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15776486U Expired - Lifetime JPH0619084Y2 (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | 誘導結合プラズマ発光分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0619084Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-10-15 JP JP15776486U patent/JPH0619084Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| ぶんせき、１９７７〔８〕、Ｐ．４８５−４９０ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6363756U (ja) | 1988-04-27 |
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