JPH052846Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH052846Y2 JPH052846Y2 JP1985025304U JP2530485U JPH052846Y2 JP H052846 Y2 JPH052846 Y2 JP H052846Y2 JP 1985025304 U JP1985025304 U JP 1985025304U JP 2530485 U JP2530485 U JP 2530485U JP H052846 Y2 JPH052846 Y2 JP H052846Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- flow rate
- control means
- sample
- rate control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
この考案は高周波プラズマ発光分析装置、特に
高周波誘導結合プラズマ発光分析装置（以下ICP
と略称する。）に関し、詳しくは気体試料に含ま
れる元素不純物を迅速かつ簡便に分析できるよう
改良したICPに関する。
高周波誘導結合プラズマ発光分析装置（以下ICP
と略称する。）に関し、詳しくは気体試料に含ま
れる元素不純物を迅速かつ簡便に分析できるよう
改良したICPに関する。
(ロ) 従来の技術
従来のICPは、第３図に示すように溶液試料供
給路１とキヤリアガス供給路２からそれぞれ溶液
試料及びキヤリアガスをネブライザー３内に供給
して溶液試料を霧化し、この霧化試料を高周波プ
ラズマ生成部（以下生成部と略称する。）４に導
入してそれに含まれる元素不純物を分光測光部５
で分析するものである。
給路１とキヤリアガス供給路２からそれぞれ溶液
試料及びキヤリアガスをネブライザー３内に供給
して溶液試料を霧化し、この霧化試料を高周波プ
ラズマ生成部（以下生成部と略称する。）４に導
入してそれに含まれる元素不純物を分光測光部５
で分析するものである。
しかし、このICPでは、生成部４に導入される
霧化試料の量は、溶液試料の霧化の程度によつて
大きく変動し、プラズマの生成がきわめて不安定
になる。
霧化試料の量は、溶液試料の霧化の程度によつて
大きく変動し、プラズマの生成がきわめて不安定
になる。
(ハ) 目的
この考案は、以上の事情に鑑みなされたもの
で、その主要な目的は、気体試料を生成部に導入
可能に構成するとともにその導入量を制御可能に
構成し、気体試料の種類に関係なく気体試料に含
まれる元素不純物を迅速かつ簡便に定性・定量分
析することができるようにすることにある。
で、その主要な目的は、気体試料を生成部に導入
可能に構成するとともにその導入量を制御可能に
構成し、気体試料の種類に関係なく気体試料に含
まれる元素不純物を迅速かつ簡便に定性・定量分
析することができるようにすることにある。
(ニ) 構成
この考案は、高周波プラズマ発光分析装置であ
つて、筒状の高周波プラズマ生成部と、このプラ
ズマ生成部から放射される光を測光する分光測光
部と、前記プラズマ生成部の筒内に気体試料及び
キヤリアガスを混合して導入するガス混合器を備
えた混合ガス導入路と、この導入路の導入側端部
に分岐接続されこの分岐接続側から順に流量検出
センサー及び流量制御手段をそれぞれ介設した１
組以上の気体試料供給路及びキヤリアガス供給路
と、前記流量制御手段を制御する制御手段とを備
え、前記制御手段が前記流量検出センサーの検出
信号に基づいてガス混合器に導入される気体試料
とキヤリアガスの合計の導入量が一定となるよう
に前記流量制御手段を制御するとともに、前記分
光測光部からの測光終了信号によつて気体試料の
導入を停止させることを特徴とするものである。
つて、筒状の高周波プラズマ生成部と、このプラ
ズマ生成部から放射される光を測光する分光測光
部と、前記プラズマ生成部の筒内に気体試料及び
キヤリアガスを混合して導入するガス混合器を備
えた混合ガス導入路と、この導入路の導入側端部
に分岐接続されこの分岐接続側から順に流量検出
センサー及び流量制御手段をそれぞれ介設した１
組以上の気体試料供給路及びキヤリアガス供給路
と、前記流量制御手段を制御する制御手段とを備
え、前記制御手段が前記流量検出センサーの検出
信号に基づいてガス混合器に導入される気体試料
とキヤリアガスの合計の導入量が一定となるよう
に前記流量制御手段を制御するとともに、前記分
光測光部からの測光終了信号によつて気体試料の
導入を停止させることを特徴とするものである。
すなわち、この考案は、気体試料供給路及びキ
ヤリアガス供給路からそれぞれ供給された気体試
料及びキヤリアガスをガス混合器で混合してこの
混合ガスを上記生成部に導入するもので、この
際、キヤリアガス及び気体試料の供給量及び供給
自体が流量制御手段によつて制御される。
ヤリアガス供給路からそれぞれ供給された気体試
料及びキヤリアガスをガス混合器で混合してこの
混合ガスを上記生成部に導入するもので、この
際、キヤリアガス及び気体試料の供給量及び供給
自体が流量制御手段によつて制御される。
(ホ) 実施例
以下第１図及び第２図に示す実施例に基づいて
この考案を詳述する。
この考案を詳述する。
なお、これによつてこの考案が限定されるもの
ではない。
ではない。
第１図は高周波誘導結合プラズマ発光分析装置
８である。９は分光測光部、１０は、高周波プラ
ズマ生成部、１１は試料導入部である。上記生成
部１０は筒状のトーチ部１２と、このトーチ部の
筒壁に設けられた２つのプラズマ生成ガス導入路
１３，１３とからなり、１４はトーチ部１２の上
端に点灯されるプラズマである。まお、分光測光
部９の利用する波長領域は150nm〜900nm程度の
範囲である。
８である。９は分光測光部、１０は、高周波プラ
ズマ生成部、１１は試料導入部である。上記生成
部１０は筒状のトーチ部１２と、このトーチ部の
筒壁に設けられた２つのプラズマ生成ガス導入路
１３，１３とからなり、１４はトーチ部１２の上
端に点灯されるプラズマである。まお、分光測光
部９の利用する波長領域は150nm〜900nm程度の
範囲である。
試料導入部１１は第２図に示すように前記生成
部１０の筒内にその下端から気体試料及びキヤリ
アガスを導入する混合ガス導入路１５と、この導
入路のガス導入側端部にガス混合器１６を介して
分岐接続された１組の気体試料供給路１７及びキ
ヤリアガス供給路１８とから主として構成されて
いる。なお、上記両ガス供給路１７，１８は複数
組であつてもよい。気体試料供給路１７とキヤリ
アガス供給路１８には、それぞれのガス供給方向
に向かつて順に流路開閉弁１９，２０、流量制御
弁（フローコントローラ）２１，２２及び流量検
出センサー（フローメーター）２３，２４が介設
されており、混合ガス導入路１５には流路開閉弁
２５が介設されている。なお、３つの流路開閉弁
１９，２０，２５は電磁弁から構成される。ま
た、２つの流路開閉弁１９，２０と流量制御弁２
１，２２とによつて流量制御手段２６，２７が構
成される。
部１０の筒内にその下端から気体試料及びキヤリ
アガスを導入する混合ガス導入路１５と、この導
入路のガス導入側端部にガス混合器１６を介して
分岐接続された１組の気体試料供給路１７及びキ
ヤリアガス供給路１８とから主として構成されて
いる。なお、上記両ガス供給路１７，１８は複数
組であつてもよい。気体試料供給路１７とキヤリ
アガス供給路１８には、それぞれのガス供給方向
に向かつて順に流路開閉弁１９，２０、流量制御
弁（フローコントローラ）２１，２２及び流量検
出センサー（フローメーター）２３，２４が介設
されており、混合ガス導入路１５には流路開閉弁
２５が介設されている。なお、３つの流路開閉弁
１９，２０，２５は電磁弁から構成される。ま
た、２つの流路開閉弁１９，２０と流量制御弁２
１，２２とによつて流量制御手段２６，２７が構
成される。
上記開閉弁１９，２０，２５、流量制御弁２
１，２２、流量検出センサー２３，２４及び分光
測光部９に、流量制御弁２１，２２及び流路開閉
弁１９，２０，２５の作動を制御する制御手段２
８が電気接続されている。この制御手段として
は、たとえばシーケンサーなどが好ましい例とし
て挙げられる。
１，２２、流量検出センサー２３，２４及び分光
測光部９に、流量制御弁２１，２２及び流路開閉
弁１９，２０，２５の作動を制御する制御手段２
８が電気接続されている。この制御手段として
は、たとえばシーケンサーなどが好ましい例とし
て挙げられる。
次に上記装置８の作動について説明する。
まず、使用するキヤリアガスの種類を気体試料
の特性を考慮して決定する。なお、気体試料とし
てはたとえば、アルゴン、窒素、シアンガスなど
の各種のガスが用いられる。
の特性を考慮して決定する。なお、気体試料とし
てはたとえば、アルゴン、窒素、シアンガスなど
の各種のガスが用いられる。
次に従来と同様にしてプラズマ１４を点灯す
る。そして流路開閉弁２０を開放作動させてキヤ
リアガス供給路１８にキヤリアガスを、たとえば
1l／min導入する。次いで、制御手段２８の制御
信号に基づいて流路開閉弁１９を開放作動させる
と同時に流量制御弁２１を制御作動させて、気体
試料を所定流量、たとえば0.1l／min気体試料供
給路１７から混合ガス供給路１５に導入すると、
制御手段２８の制御信号に基づいて流量制御弁２
２が作動して混合ガス供給路１５に導入されるキ
ヤリアガスの流量を0.9l／minに減少させて混合
ガス供給路１５に導入される流量を当初のキヤリ
アガス導入量と一致させる。そして、この状態に
おいてプラズマ１４を測光して気体試料を分析す
る。
る。そして流路開閉弁２０を開放作動させてキヤ
リアガス供給路１８にキヤリアガスを、たとえば
1l／min導入する。次いで、制御手段２８の制御
信号に基づいて流路開閉弁１９を開放作動させる
と同時に流量制御弁２１を制御作動させて、気体
試料を所定流量、たとえば0.1l／min気体試料供
給路１７から混合ガス供給路１５に導入すると、
制御手段２８の制御信号に基づいて流量制御弁２
２が作動して混合ガス供給路１５に導入されるキ
ヤリアガスの流量を0.9l／minに減少させて混合
ガス供給路１５に導入される流量を当初のキヤリ
アガス導入量と一致させる。そして、この状態に
おいてプラズマ１４を測光して気体試料を分析す
る。
次に測光が終了すると、制御手段２８の制御信
号に基づいて流路開閉弁１９を閉作動させて気体
試料の導入を停止させると同時に流量制御弁２２
を制御作動させてキヤリアガスの流量を当初の流
量に復帰させる。
号に基づいて流路開閉弁１９を閉作動させて気体
試料の導入を停止させると同時に流量制御弁２２
を制御作動させてキヤリアガスの流量を当初の流
量に復帰させる。
以上を繰り返して各分析対象の気体試料の分析
を行う。この際、プラズマ１４の分光時に従来の
ように溶液試料を用いたときのような不安定なプ
ラズマの生成が防止できるだけではなく、更に気
体試料とキヤリアガスの合計の導入量を一定に制
御しているので、安定したプラズマの生成が可能
になると共にその安定化を更に高めて精度の高い
定性・定量分析が可能になる。また、この装置８
はオフラインでも製造工程のプロセス制御のよう
なオンラインでも分析を行うことができ、さらに
試料導入部１１のガス供給側にガスクロマトグラ
フを設置してガスクロマトグラフから排出される
排出ガスの分別・分析用としても使用することが
できる。
を行う。この際、プラズマ１４の分光時に従来の
ように溶液試料を用いたときのような不安定なプ
ラズマの生成が防止できるだけではなく、更に気
体試料とキヤリアガスの合計の導入量を一定に制
御しているので、安定したプラズマの生成が可能
になると共にその安定化を更に高めて精度の高い
定性・定量分析が可能になる。また、この装置８
はオフラインでも製造工程のプロセス制御のよう
なオンラインでも分析を行うことができ、さらに
試料導入部１１のガス供給側にガスクロマトグラ
フを設置してガスクロマトグラフから排出される
排出ガスの分別・分析用としても使用することが
できる。
(ヘ) 効果
この考案は、キヤリアガスと気体試料とを混合
してその混合ガスを高周波プラズマ生成部に導入
するとともにその導入時及びプラズマ点灯時に上
記両ガスの導入量を合計で一定に制御するよう構
成したものであるから、気体試料の使用によるプ
ラズマの安定化を更に高めて、高精度の定性・定
量分析を可能にします。
してその混合ガスを高周波プラズマ生成部に導入
するとともにその導入時及びプラズマ点灯時に上
記両ガスの導入量を合計で一定に制御するよう構
成したものであるから、気体試料の使用によるプ
ラズマの安定化を更に高めて、高精度の定性・定
量分析を可能にします。
第１図はこの考案に係る高周波プラズマ発光分
析装置の一実施例を示す構成説明図、第２図は、
この要部構成説明図、第３図は従来例の第１図相
当図である。 ８……高周波プラズマ誘導結合発光分析装置
（ICP）、９……分光測光部、１０……高周波プラ
ズマ生成部、１５……混合ガス導入路、１６……
ガス混合器、１７……気体試料供給路、１８……
キヤリアガス供給路、２６，２７……流量制御手
段、２８……制御手段。
析装置の一実施例を示す構成説明図、第２図は、
この要部構成説明図、第３図は従来例の第１図相
当図である。 ８……高周波プラズマ誘導結合発光分析装置
（ICP）、９……分光測光部、１０……高周波プラ
ズマ生成部、１５……混合ガス導入路、１６……
ガス混合器、１７……気体試料供給路、１８……
キヤリアガス供給路、２６，２７……流量制御手
段、２８……制御手段。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 筒状の高周波プラズマ生成部と、このプラズ
マ生成部から放射される光を測光する分光測光
部と、前記プラズマ生成部の筒内に気体試料及
びキヤリアガスを混合して導入するガス混合器
を備えた混合ガス導入路と、この導入路の導入
側端部に分岐接続されこの分岐接続側から順に
流量検出センサー及び流量制御手段をそれぞれ
介設した１組以上の気体試料供給路及びキヤリ
アガス供給路と、前記流量制御手段を制御する
制御手段とを備え、前記制御手段が前記流量検
出センサーの検出信号に基づいてガス混合器に
導入される気体試料とキヤリアガスの合計の導
入量が一定となるように前記流量制御手段を制
御するとともに、前記分光測光部からの測光終
了信号によつて気体試料の導入を停止させるこ
とを特徴とする高周波プラズマ発光分析装置。 ２ 流量制御手段が、流量検出センサー側の流量
制御弁とこの流量制御弁より前記両ガス供給側
の流路開閉弁とからなる請求の範囲第１項記載
の高周波プラズマ発光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985025304U JPH052846Y2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985025304U JPH052846Y2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61140950U JPS61140950U (ja) | 1986-09-01 |
| JPH052846Y2 true JPH052846Y2 (ja) | 1993-01-25 |
Family
ID=30520255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985025304U Expired - Lifetime JPH052846Y2 (ja) | 1985-02-22 | 1985-02-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH052846Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007129513A1 (ja) * | 2006-05-09 | 2007-11-15 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 試料導入システム |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5660334A (en) * | 1979-10-20 | 1981-05-25 | Shimadzu Corp | Spectral analyzer for plasma light source light emission |
| JPS58167450U (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-08 | 株式会社島津製作所 | 高周波プラズマ分析装置 |
-
1985
- 1985-02-22 JP JP1985025304U patent/JPH052846Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007129513A1 (ja) * | 2006-05-09 | 2007-11-15 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 試料導入システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61140950U (ja) | 1986-09-01 |
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