JPH06196909A - マイクロ波・セラミックスフィルタの金属被覆処理方法 - Google Patents

マイクロ波・セラミックスフィルタの金属被覆処理方法

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JPH06196909A
JPH06196909A JP5235731A JP23573193A JPH06196909A JP H06196909 A JPH06196909 A JP H06196909A JP 5235731 A JP5235731 A JP 5235731A JP 23573193 A JP23573193 A JP 23573193A JP H06196909 A JPH06196909 A JP H06196909A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数の共振器孔２とこれらの共振器孔２間に
設けられた連結中空室３とを有するセラミックス体１
と、このセラミックス体１の外側面の少なくとも一部お
よび共振器孔２の内側面に施された金属被膜とを持った
モノリシックマイクロ波・セラミックスフィルタの金属
被覆処理方法において、これを金属被覆処理が簡単に電
気めっき式にできるように改良する。 【構成】 少なくとも連結中空室３が金属被覆処理の前
にセラミックス薄膜４で覆われ、その後で電気めっき式
に金属被覆処理が行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の共振器孔とこれ
らの共振器孔間に設けられた連結中空室とを有するセラ
ミックス体と、このセラミックス体の外側面の少なくと
も一部および共振器孔の内側面に施された金属被膜とを
持ったモノリシックマイクロ波・セラミックスフィルタ
の金属被覆処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】モノリシックマイクロ波・セラミックス
フィルタにおいては、図１に示されているようにセラミ
ックス体１に複数の共振器孔２が設けられており、これ
らの共振器孔２の間に、共振器孔２によって形成されて
いる各共振器を連結するための盲孔の形をした連結中空
室３が設けられている。この種のフィルタは金属被覆し
なければならず、その場合セラミックス体１の外側面の
少なくとも一部および共振器孔２の内側面に金属被覆層
が形成されなければならない。セラミックス体１の外側
面は、端面例えば図における上側端面を除いて全体が金
属被覆処理される。金属被覆処理に対する材料としては
例えば銅あるいは銀が対象となる。
【０００３】このような金属被覆処理の場合、連結中空
室３の内側面は金属被覆が施されないようにしなければ
ならない。従って電気めっき式の金属被覆処理は採用で
きないか、又はもし金属被覆処理を電気めっき式で行う
場合には連結中空室３内の金属被膜を例えば穿孔加工に
よって再び除去しなければならないので、高い経費がか
かってしまう。
【０００４】上述の理由により従来においては電気めっ
き式の金属被覆処理を完全に省略し、その代わりに金属
被覆処理は厚膜ペーストによって実施している。この方
式は金属被覆処理の場合に高い経費がかかることを無視
しても、スクリーン印刷によるパターン形成に関して
も、これが経費を一層高め且つ金属被覆処理の際のフィ
ルタの位置決めが困難であるので、不利である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
に述べた形式のモノリシックマイクロ波・セラミックス
フィルタの金属被覆処理方法を、金属被覆処理が簡単に
電気めっき式にできるように改良することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によればこの課題
は、冒頭に述べた形式のモノリシックマイクロ波・セラ
ミックスフィルタの金属被覆処理方法において、少なく
とも連結中空室が金属被覆処理の前にセラミックス薄膜
で覆われ、その後で電気めっき式に金属被覆処理が行わ
れることによって解決される。
【０００７】本発明の実施態様は請求項２以下に記載さ
れている。
【０００８】
【実施例】以下図に示した実施例を参照して本発明を詳
細に説明する。
【０００９】本発明によれば共振器孔２を有するセラミ
ックス体１は、金属被覆処理の前に、連結中空室３がセ
ラミックス体１と同じ電気定数を有するセラミックス薄
膜４で覆われる。
【００１０】モノリシックマイクロ波・セラミックスフ
ィルタの製造過程において、セラミックス体１を焼結す
る前にセラミックス薄膜４が連結中空室３の上に設けら
れ、セラミックス体１と一緒に焼結される。焼結済みの
セラミックス体１は次に連結中空室３上にあるセラミッ
クス薄膜４と共に電気めっき式に金属被覆され、これに
よってセラミックス体１全体が共振器孔１の内側面と共
に金属被膜を施される。その際連結中空室３はセラミッ
クス薄膜４によるマスキングにより金属被覆されない。
【００１１】次いで上述したように図２の上側端面が研
削される。
【００１２】パターン形成が望まれるとき、この研削の
際にセラミックス薄膜４によって生じた隆起部は除去さ
れない。
【００１３】金属被覆処理に対して一層のマスキングが
望まれる場合、連結中空室３以外のセラミックス体１の
範囲にもセラミックス薄膜４が施される。このセラミッ
クス薄膜４も上述したように金属被覆処理される。
【００１４】なお図には分り易くするために金属被覆層
は図示されていない。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、モノリシックマイクロ
波・セラミックスフィルタを簡単に電気めっき式に金属
被覆処理できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を示すモノリシックマイクロ
波・セラミックスフィルタの断面図。
【図２】図１に示すフィルタの平面図。
【符号の説明】
１ セラミックス体 ２ 共振器孔 ３ 連結中空室 ４ セラミックス薄膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｐ 1/205 Ｈ (71)出願人 390041508 シーメンス、マツシタ、コンポーネンツ、 ゲゼルシヤフト、ミツト、ベシユレンクテ ル、ハフツング、ウント、コンパニ、コマ ンデイート、ゲゼルシヤフト ＳＩＥＭＥＮＳ ＭＡＴＳＵＳＨＩＴＡ ＣＯＭＰＯＮＥＮＴＳ ＧＥＳＥＬＬＳＣ ＨＡＦＴ ＭＩＴ ＢＥＳＣＨＲＡＮＫＴ ＥＲ ＨＡＦＴＵＮＧ ＆ ＣＯＭＰＡＮ Ｙ ＫＯＭＭＡＮＤＩＴＧＥＳＥＬＬＳＣ ＨＡＦＴ ドイツ連邦共和国ミユンヘン （番地な し) (72)発明者 クリスチアン ブロツク オーストリア国 8045 グラーツ ポペル カリング 59 (72)発明者 ジグルト グライデラー オーストリア国 8073 フエルトキルヒエ ン レルヒエンガツセ 14 (72)発明者 ゲルハルト ペペルコ オーストリア国 8530 ドイツチユランズ ベルク ライベンフエルダーシユトラーセ 42

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 複数の共振器孔（２）とこれらの共振器
    孔（２）間に設けられた連結中空室（３）とを有するセ
    ラミックス体（１）と、このセラミックス体（１）の外
    側面の少なくとも一部および共振器孔（２）の内側面に
    施された金属被膜とを持ったモノリシックマイクロ波・
    セラミックスフィルタの金属被覆処理方法において、少
    なくとも連結中空室（３）が金属被覆処理の前にセラミ
    ックス薄膜（４）で覆われ、その後で電気めっき式に金
    属被覆処理が行われることを特徴とするマイクロ波・セ
    ラミックスフィルタの金属被覆処理方法。
  2. 【請求項２】 セラミックス薄膜（４）がセラミックス
    体（１）と同じ電気定数のセラミックスから成ることを
    特徴とする請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 セラミックス薄膜（４）がセラミックス
    体（１）を焼結する前に連結中空室（３）上に施され、
    このセラミックス体（１）と一緒に焼結されることを特
    徴とする請求項１又は２記載の方法。
  4. 【請求項４】 金属被覆処理に対してマスキングするた
    めに連結中空室（３）以外のセラミックス体（１）の範
    囲にも追加的にセラミックス薄膜（４）が設けられるこ
    とを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１つに記載
    の方法。
  5. 【請求項５】 金属被覆処理後にセラミックス体（１）
    の少なくとも一部例えば端面が研削されることを特徴と
    する請求項１ないし４のいずれか１つに記載の方法。
JP5235731A 1992-08-31 1993-08-27 マイクロ波・セラミックスフィルタの金属被覆処理方法 Expired - Lifetime JP2802573B2 (ja)

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