JPH06211780A - ベンゾイルシアナイド誘導体、その製法及びそれを用いた反応 - Google Patents
ベンゾイルシアナイド誘導体、その製法及びそれを用いた反応Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 化合物〔I〕、その製法及び〔IV〕、〔I
V′〕の製法。 【化1】 〔式中、R1 はハロゲン原子またはC1-6 のアルキル基
を表し、R2 、R3 はC1-6 のアルキル基を表し、m、
nは0〜2の整数を表し、Aは置換されてもよい5〜7
員の炭素環または置換されてもよい5〜7員のN、Oも
しくはSを含む複素環を表す。〕 【効果】 除草剤〔IV〕を工業的に有利に製造すること
ができる。
V′〕の製法。 【化1】 〔式中、R1 はハロゲン原子またはC1-6 のアルキル基
を表し、R2 、R3 はC1-6 のアルキル基を表し、m、
nは0〜2の整数を表し、Aは置換されてもよい5〜7
員の炭素環または置換されてもよい5〜7員のN、Oも
しくはSを含む複素環を表す。〕 【効果】 除草剤〔IV〕を工業的に有利に製造すること
ができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は農医薬中間体として有用
な新規なベンゾイルシアナイド誘導体、その製法及びそ
れを用いた反応に関する。
な新規なベンゾイルシアナイド誘導体、その製法及びそ
れを用いた反応に関する。
【0002】
【従来の技術】2−置換ベンゾイル−1,3−シクロヘ
キサンジオン類が除草剤として有用なことは既に知られ
ており、種々の置換基ないし骨格を有するものが提案さ
れている。
キサンジオン類が除草剤として有用なことは既に知られ
ており、種々の置換基ないし骨格を有するものが提案さ
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は農医薬中間体
として有用な新規なベンゾイルシアナイド誘導体、その
製法及びそれを用いた反応を提供することを目的とす
る。
として有用な新規なベンゾイルシアナイド誘導体、その
製法及びそれを用いた反応を提供することを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、式〔I〕
【化10】 〔式中、R1 はハロゲン原子またはC1-6 のアルキル基
を表し、R2 およびR3は同一または相異なってC1-6
のアルキル基を表し、mは0〜2の整数を表し、nは0
〜2の整数を表す。〕で表されるベンゾイルシアナイド
誘導体、その製法及びそれを用いた反応である。
を表し、R2 およびR3は同一または相異なってC1-6
のアルキル基を表し、mは0〜2の整数を表し、nは0
〜2の整数を表す。〕で表されるベンゾイルシアナイド
誘導体、その製法及びそれを用いた反応である。
【0005】本発明化合物は次に示す方法によって製造
される。
される。
【化11】 式中、R1 、R2 、R3 、mおよびnは前記と同じ意味
を表し、Xはハロゲン原子を表す。
を表し、Xはハロゲン原子を表す。
【0006】 不活性溶媒中、式〔II〕で表される化
合物とシアン化物を触媒存在下に反応させる。不活性溶
媒としては、ベンゼン、トルエン等のBTX系溶媒類、
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類
などが挙げられる。シアン化物としては、例えば、トリ
アルキルシリルシアナイドが挙げられ、n=2のときは
トリアルキルシリルシアナイドが好ましい。触媒として
は四塩化スズ、四塩化チタン等のルイス酸などである
(参考:Synthesis,1979,523)。
合物とシアン化物を触媒存在下に反応させる。不活性溶
媒としては、ベンゼン、トルエン等のBTX系溶媒類、
塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類
などが挙げられる。シアン化物としては、例えば、トリ
アルキルシリルシアナイドが挙げられ、n=2のときは
トリアルキルシリルシアナイドが好ましい。触媒として
は四塩化スズ、四塩化チタン等のルイス酸などである
(参考:Synthesis,1979,523)。
【0007】 式〔II〕で表される化合物とシアン化
物を不活性ガス雰囲気下、140〜200℃、好ましく
は150〜170℃で反応させる。シアン化物として
は、例えば、シアン化銅(I)、シアン化水銀、シアン
化銀などが挙げられ、不活性ガスとしては、例えば、窒
素ガスである(参考:Angew.Chem.,68,
425(1956))。
物を不活性ガス雰囲気下、140〜200℃、好ましく
は150〜170℃で反応させる。シアン化物として
は、例えば、シアン化銅(I)、シアン化水銀、シアン
化銀などが挙げられ、不活性ガスとしては、例えば、窒
素ガスである(参考:Angew.Chem.,68,
425(1956))。
【0008】 式〔II〕で表される化合物とシアン化
物を不活性溶媒と水の混合溶媒中、相間移動触媒存在下
に反応させる。シアン化物としては、例えば、シアン化
ソーダ、シアン化カリウムなどが挙げられ、不活性溶媒
としては、ベンゼン、トルエン等のBTX系溶媒類、塩
化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類な
どが挙げられ、相間移動触媒としては、相間移動触媒と
して知られているアンモニウム塩類、ホスホニウム塩
類、クラウンエーテル類などである(参考:Tetra
hedron Lett.,1974,2275)。
物を不活性溶媒と水の混合溶媒中、相間移動触媒存在下
に反応させる。シアン化物としては、例えば、シアン化
ソーダ、シアン化カリウムなどが挙げられ、不活性溶媒
としては、ベンゼン、トルエン等のBTX系溶媒類、塩
化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類な
どが挙げられ、相間移動触媒としては、相間移動触媒と
して知られているアンモニウム塩類、ホスホニウム塩
類、クラウンエーテル類などである(参考:Tetra
hedron Lett.,1974,2275)。
【0009】 式〔II〕で表される化合物とシアン化
物を不活性溶媒中、相間移動触媒存在下に50〜100
℃、好ましくは70〜90℃で反応させる。シアン化物
としては、例えば、シアン化銅(I)、シアン化ソー
ダ、シアン化カリウムなどが挙げられ、不活性溶媒とし
ては、DMF、DMSO、アセトニトリルなどが挙げら
れ、好ましくはアセトニトリルであり、相間移動触媒と
しては、相間移動触媒として知られているアンモニウム
塩類、ホスホニウム塩類、クラウンエーテル類などであ
る。
物を不活性溶媒中、相間移動触媒存在下に50〜100
℃、好ましくは70〜90℃で反応させる。シアン化物
としては、例えば、シアン化銅(I)、シアン化ソー
ダ、シアン化カリウムなどが挙げられ、不活性溶媒とし
ては、DMF、DMSO、アセトニトリルなどが挙げら
れ、好ましくはアセトニトリルであり、相間移動触媒と
しては、相間移動触媒として知られているアンモニウム
塩類、ホスホニウム塩類、クラウンエーテル類などであ
る。
【0010】式〔I〕で表される化合物は下記の反応に
より式〔III 〕で表される化合物と反応し、式〔IV〕で
表される化合物を高収率で製造することができる。
より式〔III 〕で表される化合物と反応し、式〔IV〕で
表される化合物を高収率で製造することができる。
【化12】 式中、R1 、R2 、R3 、m、nは前記と同じ意味を表
し、Aは置換されてもよい5〜7員の炭素環または置換
されてもよい5〜7員のN,OまたはSを含むヘテロ環
を表す。反応は、〔I〕と〔III 〕及び塩基の当モル混
合溶液を加熱することにより行なわれる。塩基としては
例えばピリジン、トリエチルアミン、DBUなどがあげ
られる。溶媒としては塩化メチレン、クロロホルム、ア
セトニトリル、トルエンなどが用いられ、反応はこれら
の溶媒の沸点で行われる。
し、Aは置換されてもよい5〜7員の炭素環または置換
されてもよい5〜7員のN,OまたはSを含むヘテロ環
を表す。反応は、〔I〕と〔III 〕及び塩基の当モル混
合溶液を加熱することにより行なわれる。塩基としては
例えばピリジン、トリエチルアミン、DBUなどがあげ
られる。溶媒としては塩化メチレン、クロロホルム、ア
セトニトリル、トルエンなどが用いられ、反応はこれら
の溶媒の沸点で行われる。
【0011】式〔III 〕で表される化合物は、例えば、
【化13】 等である。〔ここで、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、
R9 は同一または相異なってハロゲン原子、置換されて
もよいアルキル基、アルコキシカルボニル基、置換され
てもよいアルケニル基、置換されてもよいフェニル基を
表し、またR5 とR6 で置換されてもよい3〜7員の炭
素環を形成してもよい。R10、R11、R12、R13は、同
一又は相異なって、水素又は低級アルキルを表す。R14
は、水素を表す。R15は、OR16を表し、R16は水素、
低級アルキル、アラルキル、低級アシル、アルキルスル
ホニル、アリールスルホニルを表し、またはR14とR15
は一緒になって単結合を表してもよい。また、Zは、酸
素、硫黄又はN−R17を表し、R17は水素、低級アルキ
ル、置換されてもよいアラルキル、置換されてもよいシ
クロアルキル、置換されてもよいフェニル、又は置換さ
れてもよい複素環を表す。
R9 は同一または相異なってハロゲン原子、置換されて
もよいアルキル基、アルコキシカルボニル基、置換され
てもよいアルケニル基、置換されてもよいフェニル基を
表し、またR5 とR6 で置換されてもよい3〜7員の炭
素環を形成してもよい。R10、R11、R12、R13は、同
一又は相異なって、水素又は低級アルキルを表す。R14
は、水素を表す。R15は、OR16を表し、R16は水素、
低級アルキル、アラルキル、低級アシル、アルキルスル
ホニル、アリールスルホニルを表し、またはR14とR15
は一緒になって単結合を表してもよい。また、Zは、酸
素、硫黄又はN−R17を表し、R17は水素、低級アルキ
ル、置換されてもよいアラルキル、置換されてもよいシ
クロアルキル、置換されてもよいフェニル、又は置換さ
れてもよい複素環を表す。
【0012】また〔IV〕においてn=0である〔IV″〕
は酸化することにより高収率で〔IV′〕にすることがで
きる。
は酸化することにより高収率で〔IV′〕にすることがで
きる。
【化14】 式中、R1 、R2 、R3 、m、Aは前記と同じ意味を表
す。反応は、通常の酸化反応で行なわれる。例えばタン
グステン酸ナトリウムを触媒として2倍モル以上の過酸
化水素と〔IV″〕を加熱することにより行われる。溶媒
としては酢酸、水、アルコール類、又はこれらの混合溶
媒が用いられ、反応は100℃ないしこれらの溶媒の沸
点で行われる。
す。反応は、通常の酸化反応で行なわれる。例えばタン
グステン酸ナトリウムを触媒として2倍モル以上の過酸
化水素と〔IV″〕を加熱することにより行われる。溶媒
としては酢酸、水、アルコール類、又はこれらの混合溶
媒が用いられ、反応は100℃ないしこれらの溶媒の沸
点で行われる。
【0013】反応終了後は、通常の後処理を行うことに
より目的物を得ることができる。合成した化合物は、N
MR、IR、MS等より同定した。
より目的物を得ることができる。合成した化合物は、N
MR、IR、MS等より同定した。
【0014】尚、環Aには下に示すような互変異性体が
存在しうる。
存在しうる。
【化15】
【0015】
【実施例】次に実施例を挙げて、本発明を更に具体的に
説明する。 実施例1 3−メトキシ−2−メチル−4−メチルチオベンゾイル
シアナイドの合成 (参考;Tetrahedron Lett.,26,
2275(1974))
説明する。 実施例1 3−メトキシ−2−メチル−4−メチルチオベンゾイル
シアナイドの合成 (参考;Tetrahedron Lett.,26,
2275(1974))
【化16】 3−メトキシ−2−メチル−4−メチルチオ安息香酸ク
ロライド23gとテトラブチルアンモニウムブロマイド
3gのジクロロエタン200ml溶液に、0℃窒素気流
下で10%シアン化ナトリウム水溶液50gを1時間か
けて滴下する。1時間撹拌した後有機層を分取し、水、
飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧にて留去し、目的物14.
8gを得た。mp115〜8℃。
ロライド23gとテトラブチルアンモニウムブロマイド
3gのジクロロエタン200ml溶液に、0℃窒素気流
下で10%シアン化ナトリウム水溶液50gを1時間か
けて滴下する。1時間撹拌した後有機層を分取し、水、
飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧にて留去し、目的物14.
8gを得た。mp115〜8℃。
【0016】実施例2 E−2−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−3−
(3−メトキシ−2−メチル−4−メチルチオベンゾイ
ル)−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテ
ン−4−オンの合成
(3−メトキシ−2−メチル−4−メチルチオベンゾイ
ル)−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテ
ン−4−オンの合成
【化17】 実施例1で得たベンゾイルシアナイド2.2gとE−2
−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−5−メチル−
2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン2.1
gを20mlの塩化メチレンに溶解する。この溶液にト
リエチルアミン1.2gを室温にて添加した。室温にて
18時間撹拌した後、氷水にあけ濃塩酸で酸性化し有機
層を分取した。この有機層を水洗、硫酸マグネシウムで
乾燥、溶媒を減圧にて留去し、目的物3.5g(E体)
を得た。mp111〜112℃(E体)
−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−5−メチル−
2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン2.1
gを20mlの塩化メチレンに溶解する。この溶液にト
リエチルアミン1.2gを室温にて添加した。室温にて
18時間撹拌した後、氷水にあけ濃塩酸で酸性化し有機
層を分取した。この有機層を水洗、硫酸マグネシウムで
乾燥、溶媒を減圧にて留去し、目的物3.5g(E体)
を得た。mp111〜112℃(E体)
【0017】実施例3 Z−2−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−3−
(3−メトキシ−2−メチル−4−メチルチオベンゾイ
ル)−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテ
ン−4−オンの合成 2−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−5−メチル
−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン2.
1gのE体の代りにZ体を用いる他は、実施例2に準じ
て反応、後処理し、アモルファスな目的物3.4g(Z
体)を得た。
(3−メトキシ−2−メチル−4−メチルチオベンゾイ
ル)−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテ
ン−4−オンの合成 2−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−5−メチル
−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン2.
1gのE体の代りにZ体を用いる他は、実施例2に準じ
て反応、後処理し、アモルファスな目的物3.4g(Z
体)を得た。
【0018】実施例4 E−2−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−3−
(4−メシル−3−メトキシ−2−メチルベンゾイル)
−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−
4−オンの合成
(4−メシル−3−メトキシ−2−メチルベンゾイル)
−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−
4−オンの合成
【化18】 実施例2で得たビシクロ環化合物2.2gの20mlメ
タノール溶液にタングステン酸ナトリウム0.16gを
加えたのち、35%過酸化水素水1.7gを室温にて添
加した。2時間還流後希塩酸を注加し有機層を分取し
た。水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去
し、目的物1.83gを得た。
タノール溶液にタングステン酸ナトリウム0.16gを
加えたのち、35%過酸化水素水1.7gを室温にて添
加した。2時間還流後希塩酸を注加し有機層を分取し
た。水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去
し、目的物1.83gを得た。
【0019】実施例5 Z−2−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−3−
(4−メシル−3−メトキシ−2−メチルベンゾイル)
−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−
4−オンの合成 ビシクロ環化合物2.2gのE体の代りにZ体(実施例
3で得た)を用いる他は実施例4に準じて反応、後処理
し、目的物1.94g(Z)を得た。
(4−メシル−3−メトキシ−2−メチルベンゾイル)
−5−メチル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−
4−オンの合成 ビシクロ環化合物2.2gのE体の代りにZ体(実施例
3で得た)を用いる他は実施例4に準じて反応、後処理
し、目的物1.94g(Z)を得た。
【0020】実施例6 2−ヒドロキシ−5−エトキシカルボニル−3−(4−
メシル−3−メトキシ−2−メチルベンゾイル−5−メ
チル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン
の合成
メシル−3−メトキシ−2−メチルベンゾイル−5−メ
チル−2−ビシクロ〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン
の合成
【化19】 2−メチル−4−メチルスルホニル−3−メトキシ安息
香酸クロライド2.6gとトリメチルシリルシアナイド
1.1gの塩化メチレン溶液50mlに四塩化スズ0.
2mlを室温、窒素雰囲気下にて添加した。20時間撹
拌後、反応溶液を水に注いだ。水層を分離し、有機層を
50mlの水で2回洗浄した後、乾燥濃縮して、3−メ
トキシ−2−メチル−4−メシルベンゾイルシアナイド
の粗生成物を得た。この粗生成物と2−ヒドロキシ−5
−エトキシカルボニル−5−メチル−2−ビシクロ
〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン1.2gの20ml
塩化メチレン溶液にトリエチルアミン0.9mlを加え
た。5時間反応混合物を室温で撹拌したのち、1規定塩
酸に注いだ。水層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄
した。乾燥濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出液:ヘキサン−酢酸エチル)で精製して目的化
合物1.2gを得た。
香酸クロライド2.6gとトリメチルシリルシアナイド
1.1gの塩化メチレン溶液50mlに四塩化スズ0.
2mlを室温、窒素雰囲気下にて添加した。20時間撹
拌後、反応溶液を水に注いだ。水層を分離し、有機層を
50mlの水で2回洗浄した後、乾燥濃縮して、3−メ
トキシ−2−メチル−4−メシルベンゾイルシアナイド
の粗生成物を得た。この粗生成物と2−ヒドロキシ−5
−エトキシカルボニル−5−メチル−2−ビシクロ
〔4,1,0〕ヘプテン−4−オン1.2gの20ml
塩化メチレン溶液にトリエチルアミン0.9mlを加え
た。5時間反応混合物を室温で撹拌したのち、1規定塩
酸に注いだ。水層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄
した。乾燥濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出液:ヘキサン−酢酸エチル)で精製して目的化
合物1.2gを得た。
【0021】
【発明の効果】本発明化合物は農医薬中間体として有用
である。本発明化合物を用いれば、例えば、特開平2−
726、W091/00260、特願平3−19359
5、特願平4−203241に示される除草剤を工業的
に有利に製造することができる。
である。本発明化合物を用いれば、例えば、特開平2−
726、W091/00260、特願平3−19359
5、特願平4−203241に示される除草剤を工業的
に有利に製造することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 式〔I〕 【化1】 〔式中、R1 はハロゲン原子またはC1-6 のアルキル基
を表し、R2 およびR3は同一または相異なってC1-6
のアルキル基を表し、mは0〜2の整数を表し、nは0
〜2の整数を表す。〕で表される化合物。 - 【請求項2】 式〔II〕 【化2】 〔式中、R1 、R2 、R3 、mおよびnは前記と同じ意
味を表す。〕で表される化合物とシアン化物を反応させ
ることを特徴とする式〔I〕 【化3】 〔式中、R1 、R2 、R3 、m、nは前記と同じ意味を
表す。〕で表される化合物の製法。 - 【請求項3】 式〔I〕 【化4】 〔式中、R1 、R2 、R3 、mおよびnは前記と同じ意
味を表す。〕で表される化合物と式〔III 〕 【化5】 〔式中、Aは置換されてもよい5〜7員の炭素環または
置換されてもよい5〜7員のN、OもしくはSを含む複
素環を表す。〕で表される化合物を反応させることを特
徴とする式〔IV〕 【化6】 〔式中、R1 、R2 、R3 、m、nおよびAは前記と同
じ意味を表す。〕で表される化合物の製法。 - 【請求項4】 式〔I′〕 【化7】 〔式中、R1 、R2 、R3 およびmは前記と同じ意味を
表す。〕で表される化合物と式〔III 〕 【化8】 〔式中、Aは前記と同じ意味を表す。〕で表される化合
物を反応させ、次いで酸化することを特徴とする式〔I
V′〕 【化9】 〔式中、R1 、R2 、R3 、mおよびAは前記と同じ意
味を表す。〕で表される化合物の製法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2363693A JPH06211780A (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | ベンゾイルシアナイド誘導体、その製法及びそれを用いた反応 |
| PCT/JP1993/000414 WO1993020035A1 (fr) | 1992-04-03 | 1993-04-01 | Procede de production d'un derive de cyclopropane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2363693A JPH06211780A (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | ベンゾイルシアナイド誘導体、その製法及びそれを用いた反応 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06211780A true JPH06211780A (ja) | 1994-08-02 |
Family
ID=12116067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2363693A Pending JPH06211780A (ja) | 1992-04-03 | 1993-01-19 | ベンゾイルシアナイド誘導体、その製法及びそれを用いた反応 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06211780A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG79243A1 (en) * | 1997-12-17 | 2001-03-20 | Ciba Sc Holding Ag | Process for ink-jet printing textile fibre materials |
| KR102032053B1 (ko) * | 2018-04-13 | 2019-10-14 | 전북대학교산학협력단 | 시아나이드 유도체 또는 이의 염을 포함하는 살비 또는 살충용 조성물 |
-
1993
- 1993-01-19 JP JP2363693A patent/JPH06211780A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG79243A1 (en) * | 1997-12-17 | 2001-03-20 | Ciba Sc Holding Ag | Process for ink-jet printing textile fibre materials |
| KR102032053B1 (ko) * | 2018-04-13 | 2019-10-14 | 전북대학교산학협력단 | 시아나이드 유도체 또는 이의 염을 포함하는 살비 또는 살충용 조성물 |
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