JPH0621316A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

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Publication number
JPH0621316A
JPH0621316A JP4176400A JP17640092A JPH0621316A JP H0621316 A JPH0621316 A JP H0621316A JP 4176400 A JP4176400 A JP 4176400A JP 17640092 A JP17640092 A JP 17640092A JP H0621316 A JPH0621316 A JP H0621316A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
die pad
semiconductor device
lead
wire
Prior art date
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Pending
Application number
JP4176400A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuyuki Masaki
泰幸 正木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP4176400A priority Critical patent/JPH0621316A/ja
Publication of JPH0621316A publication Critical patent/JPH0621316A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/541Dispositions of bond wires
    • H10W72/5449Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/551Materials of bond wires
    • H10W72/552Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
    • H10W72/5522Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】ワイヤーボンディング工程中インナーリードと
ダイパットが同一平面上にあり、ワイヤーボンディング
工程で用いられるリードフレーム固定治具を共用化で
き、かつワイヤーボンディング工程後にダイパッドの位
置をインナーリードの下方に設置できる半導体装置用リ
ードフレームを提供する。 【構成】リードフレーム上に半導体素子を接着固定し、
半導体素子のボンディングディングパットとインナーリ
ードとを金線等のワイヤーにて接続した後、樹脂等で封
止してなる半導体装置に用いるリードフレームの素材に
形状記憶合金を用いる。 【効果】従来ダイパッドの大きさが変わるごとに必要で
あった、リードフレーム固定治具の交換を不要とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレームに形状
記憶合金を使用した半導体装置及びその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図6は従来のリードフレームの図であ
る。ダイパッド61は半導体素子62を接着固定し半導
体素子62上のボンディングディングパッド63とイン
ナーリード64を金線65等で接続する際、半導体素子
62と金線65等が金線等のたわみによりショートする
ことを防止するために予めインナーリード64より下方
にタブ吊りリード66により支持されている。半導体素
子上のボンディングディングパッド63とインナーリー
ド64を金線等65で接続するワイヤーボンディング工
程で用いられるリードフレーム固定治具67にはダイパ
ットのにげ68が設けられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のリードフレ
ームのダイパッドはインナーリードより下方にタブ吊り
リードにより支持されるため、半導体素子上のボンディ
ングディングパッドとインナーリードを金線等で接続す
るワイヤーボンディング工程で用いられるリードフレー
ム固定治具にはダイパットのにげが設けられており、ダ
イパッドの大きさが変わるごとに固定治具を交換すると
いう問題点があった。
【0004】本発明の目的は上記問題点を解決する技術
で、その目的とするところはワイヤーボンディング工程
中インナーリードとダイパットが同一平面上にあり固定
治具を共用化でき、かつワイヤーボンディング工程後に
ダイパッドの位置をインナーリードの下方に設置できる
半導体装置用リードフレームを提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的はある温度
以上の熱を加えることにより記憶された形状に復元する
形状記憶合金を用いて半導体半導体装置を製造すること
を特徴とする。
【0006】
【実施例】図1は本発明の実施例における半導体装置用
リードフレームであり、1はダイパッドであり2はタブ
吊りリードであり3はインナーリードである。ダイパッ
ド1とインナーリード3は同一平面上に存在するように
配置される。本実施例においては半導体装置用リードフ
レーム全体を形状記憶合金を用いて製造された半導体装
置用リードフレームである。
【0007】図2は本発明の実施例における半導体装置
用リードフレームの一部に形状記憶合金を用いた半導体
装置用リードフレームである。4はダイパッドであり5
はタブ吊りリードであり6はインナーリードである。ダ
イパッド4とインナーリード6は同一平面上に存在する
ように配置される。本実施例においてはタブ吊りリード
5のみに形状記憶合金を用いて従来の半導体半導体装置
用リードフレームに溶接等7を用いて製造されている。
【0008】図3は本実施例のリードフレームをワイヤ
ーボンディング治具に固定した断面図を示す。31は固
定治具であり1はダイパッドであり3はインナーリード
であり32は半導体素子であり33はクランパーと呼ば
れるリード押さえ治具であり34は金線である。本実施
例においては半導体チップの角と金線等のショートを防
止するため従来の技術で用いられたインナーリードとダ
イパッドの段差をワイヤーボンディング時には無くし平
面のみで構成される固定用治具を用いて固定することが
できる。
【0009】図4は本実施例のワイヤーボンディングデ
ィング終了後にダイパッドを加熱により成形後の図を示
す。42はダイパッドであり32は半導体素子であり3
4は金線であり3はインナーリードである。加熱治具に
より形状変化が起こるしきい値以上に加熱することによ
りタブ吊りリードが予め記憶されていた形状に復元され
ることにより、ダイパッド42はインナーリード3より
下方に設置される。
【0010】図5は本実施例のリードフレームの製造方
法である。図5(a)において1はダイパッドであり3
はインナリードであり51および52は凹凸をした金型
である。形状記憶合金はある温度以上で加工されるとそ
の形状を記憶し、室温での変形によりとられた形状から
加熱によって記憶した形状に復元する性質を有する。形
状記憶合金を一部または全部に用いエッチング等で製造
された半導体用リードフレームをある温度以上で金型5
1および52を用いてダイパッド1の位置を加工する。
図5(b)において53はダイパッドであり3はインナ
ーリードである。先に述べた加工によりダイパッド53
はインナーリード3より下方に位置するよう記憶され
る。図5(c)において54および55は平打用金型で
あり54はダイパッドであり3はインナーリードであ
る。室温に置いて平打用金型54および55によりダイ
パッド54はインナーリード3と同一平面上に加工され
る。図5(d)において54はダイパッドであり3はイ
ンナーリードである。以上の工程によりワイヤーボンデ
ィング後の加熱によりダイパッド54がインナーリード
3の下方に位置する半導体用リードフレームが製造され
る。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば半導
体素子の角と金線のショートを防ぐために必要なダイパ
ッドをインナーリードの下方に支持する技術とダイパッ
ドをリードの下方に支持するために生じるワイヤーボン
ディングディング時の治具交換の矛盾する問題をリード
フレームに形状記憶合金を用いることで解決できるとい
う効果を有しかつ形状記憶合金を一部に用いることで従
来と同じ電気特性を得られるという効果も有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例の半導体装置用リードフレーム平
面図。
【図2】本発明実施例の半導体装置用リードフレーム平
面図。
【図3】本発明実施例の半導体装置用リードフレームを
ワイヤーボンディング治具に固定した断面図。
【図4】本発明実施例のワイヤーボンディングディング
終了後にダイパッドを加熱により成形後の図。
【図5】本実施例の製造方法の断面図。
【図6】従来の半導体装置用リードフレーム平面図。
【符号の説明】
1,4・・・ダイパッド 2,5・・・タブ吊りリード 3,6・・・インナーリード 34 ・・・金線 32 ・・・半導体素子

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレーム上に半導体素子を接着固
    定し、半導体素子のボンディングディングパットとイン
    ナーリードとを金線等のワイヤーにて接続した後、樹脂
    等で封止してなる半導体装置に用いるリードフレームの
    素材に形状記憶合金を用いることを特徴とする半導体装
    置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のリードフレームにおい
    て、リードフレーム全体に形状記憶合金を用いることを
    特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のリードフレームにおい
    て、リードフレームの一部に形状記憶合金を用いること
    を特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の半導体装置において、リ
    ードフレームに形状記憶合金を用い高温でダイパッド部
    をデプレス加工し常温でダイパッド部を平打ちして平坦
    にし、ワイヤーボンディング終了後の加熱によりダイパ
    ットを成形することを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
JP4176400A 1992-07-03 1992-07-03 半導体装置及びその製造方法 Pending JPH0621316A (ja)

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JP4176400A JPH0621316A (ja) 1992-07-03 1992-07-03 半導体装置及びその製造方法

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JPH0621316A true JPH0621316A (ja) 1994-01-28

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JP4176400A Pending JPH0621316A (ja) 1992-07-03 1992-07-03 半導体装置及びその製造方法

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