JPH0621879B2 - 異物有無検査装置 - Google Patents
異物有無検査装置Info
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- JPH0621879B2 JPH0621879B2 JP62287650A JP28765087A JPH0621879B2 JP H0621879 B2 JPH0621879 B2 JP H0621879B2 JP 62287650 A JP62287650 A JP 62287650A JP 28765087 A JP28765087 A JP 28765087A JP H0621879 B2 JPH0621879 B2 JP H0621879B2
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 29
- 239000000126 substance Substances 0.000 title description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 claims description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、主としてＬＳＩ製造プロセスにおいて、半導
体ウエハーに回路パターンを焼付けるために用いられる
レティクルとかマスク、または、回路パターンが形成さ
れた製品ウエハー、更には、液晶用基板などの検査対象
基板の表面に、異物が付着しているか否かを検査するた
めの装置に係り、より詳しくは、表面に回路パターンが
描かれている検査対象基板の該表面に対してレーザービ
ームを走査照射するように構成すると共に、その検査対
象基板の表面からの反射散乱光に対する検出光学系を設
け、その検出光学系による反射散乱光の検出結果に基い
て前記検査対象基板の表面における異物の有無を判別す
るように構成されている異物有無検査装置に関する。
体ウエハーに回路パターンを焼付けるために用いられる
レティクルとかマスク、または、回路パターンが形成さ
れた製品ウエハー、更には、液晶用基板などの検査対象
基板の表面に、異物が付着しているか否かを検査するた
めの装置に係り、より詳しくは、表面に回路パターンが
描かれている検査対象基板の該表面に対してレーザービ
ームを走査照射するように構成すると共に、その検査対
象基板の表面からの反射散乱光に対する検出光学系を設
け、その検出光学系による反射散乱光の検出結果に基い
て前記検査対象基板の表面における異物の有無を判別す
るように構成されている異物有無検査装置に関する。
かかる異物有無検査装置は、従来一般に、下記のように
構成されていた。
構成されていた。
即ち、第３図に示すように、表面に回路パターン（図示
せず）が描かれた検査対象基板Ｏ（その表面には、図示
しているように、ペリクル枠１が形成されているのが普
通である）を載置したステージ（図示せず）を水平面上
で一方向（ｘ方向）に直線移動走査させると共に、例え
ばＨｅ−Ｎｅレーザーを発振するレーザ発振器２，ビー
ムエキスパンダー３，スキャニング用のガルバノミラー
４，集光レンズ５等から成る入射光学系Ａにより、前記
検査対象基板Ｏの所定角度斜め上方向から、その検査対
象基板Ｏの検査表面に所定の振動面を有する直線偏光レ
ーザービームＬを、前記ｘ方向に直交するｙ方向におけ
る所定範囲内で往復直線走査させながら照射し、その照
射レーザービームＬの検査表面からの反射散乱光Ｒを、
検査対象基板Ｏのｙ方向における両側方斜め上方に配置
した検出光学系Ｂ，Ｂで検出するように構成されてい
る。つまり、検査対象基板Ｏの表面に異物が存在する場
合には、照射レーザービームＬがその異物により全方向
にアットランダムに散乱するため、その反射散乱光Ｒが
側方に位置する検出光学系Ｂ，Ｂに検出されることにな
り、これによって、前記検査対象基板Ｏの表面における
異物の存在が検知されるのである。
せず）が描かれた検査対象基板Ｏ（その表面には、図示
しているように、ペリクル枠１が形成されているのが普
通である）を載置したステージ（図示せず）を水平面上
で一方向（ｘ方向）に直線移動走査させると共に、例え
ばＨｅ−Ｎｅレーザーを発振するレーザ発振器２，ビー
ムエキスパンダー３，スキャニング用のガルバノミラー
４，集光レンズ５等から成る入射光学系Ａにより、前記
検査対象基板Ｏの所定角度斜め上方向から、その検査対
象基板Ｏの検査表面に所定の振動面を有する直線偏光レ
ーザービームＬを、前記ｘ方向に直交するｙ方向におけ
る所定範囲内で往復直線走査させながら照射し、その照
射レーザービームＬの検査表面からの反射散乱光Ｒを、
検査対象基板Ｏのｙ方向における両側方斜め上方に配置
した検出光学系Ｂ，Ｂで検出するように構成されてい
る。つまり、検査対象基板Ｏの表面に異物が存在する場
合には、照射レーザービームＬがその異物により全方向
にアットランダムに散乱するため、その反射散乱光Ｒが
側方に位置する検出光学系Ｂ，Ｂに検出されることにな
り、これによって、前記検査対象基板Ｏの表面における
異物の存在が検知されるのである。
前記各検出光学系Ｂは、第４図にもその具体的構成を示
しているように、基本的には、集光レンズ６，反射散乱
光に対する入射光制限用スリット７を有する固定スリッ
ト板８，例えば光電子倍増管から成る光検出器９等を筒
状ケーシング１０内にその順に並設して組み合わせたユ
ニット構成とされている。
しているように、基本的には、集光レンズ６，反射散乱
光に対する入射光制限用スリット７を有する固定スリッ
ト板８，例えば光電子倍増管から成る光検出器９等を筒
状ケーシング１０内にその順に並設して組み合わせたユ
ニット構成とされている。
しかしながら、上記した従来構成の異物有無検査装置に
おいては、次のような欠点があった。
おいては、次のような欠点があった。
即ち、前記検出光学系Ｂは、迷光の影響を少なくするた
めに、光検出器９の前方に、反射散乱光Ｒに対する入射
光制限用スリット７を有する固定スリット板８を設け
る、という手段を採用して構成されていたが、かかる固
定スリット方式では、常に確実に迷光の影響を除去する
ことは不可能であった。
めに、光検出器９の前方に、反射散乱光Ｒに対する入射
光制限用スリット７を有する固定スリット板８を設け
る、という手段を採用して構成されていたが、かかる固
定スリット方式では、常に確実に迷光の影響を除去する
ことは不可能であった。
それは、検査対象とされる基板Ｏおよびその表面上に形
成されるペリクル枠１の大きさが千差万別であるため、
その検査対象基板Ｏおよびペリクル枠１の大きさによっ
ては、第５図に例示しているように、前記固定スリット
板８のスリット７の投影像がペリクル枠１に重複してし
まうことが往々にして生じ易い。このような場合には、
ペリクル枠１からの反射散乱光Ｒが検出光学系Ｂへ迷光
として入射して、異物が存在するものとして誤検出され
てしまうことになる。つまり、上記従来構成の異物有無
検査装置では、ペリクル枠１に近い箇所については迷光
の影響が大きくて異物検出性能に限界があり、従って、
異物検出可能領域にも制限があった（具体的には、ペリ
クル枠１から２〜３mm離れた領域までしか検査できなか
った）。
成されるペリクル枠１の大きさが千差万別であるため、
その検査対象基板Ｏおよびペリクル枠１の大きさによっ
ては、第５図に例示しているように、前記固定スリット
板８のスリット７の投影像がペリクル枠１に重複してし
まうことが往々にして生じ易い。このような場合には、
ペリクル枠１からの反射散乱光Ｒが検出光学系Ｂへ迷光
として入射して、異物が存在するものとして誤検出され
てしまうことになる。つまり、上記従来構成の異物有無
検査装置では、ペリクル枠１に近い箇所については迷光
の影響が大きくて異物検出性能に限界があり、従って、
異物検出可能領域にも制限があった（具体的には、ペリ
クル枠１から２〜３mm離れた領域までしか検査できなか
った）。
本発明の目的は、かかる従来問題を解消せんとすること
にある。
にある。
上記目的を達成するために、本発明は、上方に必要検査
領域を規定するペリクル枠を有し、表面に回路パターン
が描かれている検査対象基板の該表面に対してレーザー
ビームを走査照射するように構成すると共に、その検査
対象基板の表面からの反射散乱光に対する検出光学系を
設け、その検出光学系による反射散乱光の検出結果に基
いて前記検査対象基板の表面における異物検出可能領域
の異物の有無を判別するように構成されている異物有無
検査装置において、前記検出光学系を構成するに、光検
出器の前方に、矩形形状で、前記反射散乱光に対する入
射光制限用の第１スリットを有する固定スリット板を配
置すると共に、その固定スリット板の直前または直後
に、前記レーザービームの走査位置の変化に応じて回転
変位して前記固定スリット板の第１スリットに入射した
入射光を更に制限するための回転スリット板を設け、更
に、該回転スリット板には、略半リング状で、該回転ス
リット板の回転変位に応じて前記第１スリットとの重な
りによって共通間隙を出現せしめこれによって散乱光検
出可能領域を規定し、あるいは、前記共通間隙を消失せ
しめて前記散乱光検出可能領域を一時消失せしめるとと
もに、前記共通間隙の消失・出現の過渡期には、散乱光
検出可能領域からの前記反射散乱光の光量を小さくしう
る第２スリットが備わっている点に特徴がある。
領域を規定するペリクル枠を有し、表面に回路パターン
が描かれている検査対象基板の該表面に対してレーザー
ビームを走査照射するように構成すると共に、その検査
対象基板の表面からの反射散乱光に対する検出光学系を
設け、その検出光学系による反射散乱光の検出結果に基
いて前記検査対象基板の表面における異物検出可能領域
の異物の有無を判別するように構成されている異物有無
検査装置において、前記検出光学系を構成するに、光検
出器の前方に、矩形形状で、前記反射散乱光に対する入
射光制限用の第１スリットを有する固定スリット板を配
置すると共に、その固定スリット板の直前または直後
に、前記レーザービームの走査位置の変化に応じて回転
変位して前記固定スリット板の第１スリットに入射した
入射光を更に制限するための回転スリット板を設け、更
に、該回転スリット板には、略半リング状で、該回転ス
リット板の回転変位に応じて前記第１スリットとの重な
りによって共通間隙を出現せしめこれによって散乱光検
出可能領域を規定し、あるいは、前記共通間隙を消失せ
しめて前記散乱光検出可能領域を一時消失せしめるとと
もに、前記共通間隙の消失・出現の過渡期には、散乱光
検出可能領域からの前記反射散乱光の光量を小さくしう
る第２スリットが備わっている点に特徴がある。
かかる特徴構成により発揮される作用は次の通りであ
る。
る。
即ち、光検出器の前方に、矩形形状で、前記反射散乱光
に対する入射光制限用の第１スリットを有する固定スリ
ット板を配置すると共に、その固定スリット板の直前ま
たは直後に、前記レーザービームの走査位置の変化に応
じて回転変位して前記固定スリット板の第１スリットに
入射した入射光を更に制限するための回転スリット板を
設け、更に、該回転スリット板には、略半リング形状
で、該回転スリット板の回転変位に応じて前記第１スリ
ットとの重なりによって共通間隙を生ぜしめこれによっ
て規定される散乱光検出可能領域を検出可能にし、ある
いは、該共通間隙を消失せしめて前記散乱光検出可能領
域を一時、検出不可能にし、しかも、この消失前・後に
おいては、常に、前記反射散乱光に対する入射光を、共
通間隙非消失時に比して、前記第１スリットの短手方向
における極小間隔分だけ制限し、それによって、前記共
通間隙の大きさを調整して前記散乱光検出可能領域を前
記消失前・後で更に規定しうる第２スリットを備えてい
るから、後述する実施例の記載から一層明らかになるよ
うに、前記第１および第２スリットの共通間隙によって
規定されるより小さな投影像（散乱光検出可能領域）
が、常にレーザービームの照射位置に過不足なく対応す
るように変位することになり、これによって、従来に比
して、レーザービーム照射位置以外の不要な箇所からの
迷光が光検出器へ到達することを防止できる効果を大に
でき、以って、従来のものに比べて優れた異物検出性能
を有することができる。しかも、回転スリット板の回転
変位に応じて、第２スリットが第１スリットの矩形形状
部分と重ならない状態も出現して共通間隙を消失せし
め、散乱光検出可能領域を一時消失せしめるとともに、
共通間隙の消失・出現の過渡期においては、当然のこと
ながら、光量が低減することにより、レーザービーム照
射位置がペリクル枠の近傍に有り、該ペリクル枠から反
射散乱した強い迷光の影響を受けやすい状態において
は、第２スリットと第１スリットとが前記過渡期の状態
にあたるため、前記迷光が、たとえ、光検出器へ到達し
たとしても、光量が低減していることから、単に、回転
スリット板が、回転駆動中でも常に共通間隙を生ぜしめ
る形状の第２スリットを有する入射光制限手段に比し
て、たとえ前記迷光が光検出器へ到達したとしても、そ
の影響を受け難く、従って、異物検出性能を大幅に高感
度化でき、また、ペリクル枠の極く近い領域まで迷光の
影響を受けることなく確実に検査できるようになった。
に対する入射光制限用の第１スリットを有する固定スリ
ット板を配置すると共に、その固定スリット板の直前ま
たは直後に、前記レーザービームの走査位置の変化に応
じて回転変位して前記固定スリット板の第１スリットに
入射した入射光を更に制限するための回転スリット板を
設け、更に、該回転スリット板には、略半リング形状
で、該回転スリット板の回転変位に応じて前記第１スリ
ットとの重なりによって共通間隙を生ぜしめこれによっ
て規定される散乱光検出可能領域を検出可能にし、ある
いは、該共通間隙を消失せしめて前記散乱光検出可能領
域を一時、検出不可能にし、しかも、この消失前・後に
おいては、常に、前記反射散乱光に対する入射光を、共
通間隙非消失時に比して、前記第１スリットの短手方向
における極小間隔分だけ制限し、それによって、前記共
通間隙の大きさを調整して前記散乱光検出可能領域を前
記消失前・後で更に規定しうる第２スリットを備えてい
るから、後述する実施例の記載から一層明らかになるよ
うに、前記第１および第２スリットの共通間隙によって
規定されるより小さな投影像（散乱光検出可能領域）
が、常にレーザービームの照射位置に過不足なく対応す
るように変位することになり、これによって、従来に比
して、レーザービーム照射位置以外の不要な箇所からの
迷光が光検出器へ到達することを防止できる効果を大に
でき、以って、従来のものに比べて優れた異物検出性能
を有することができる。しかも、回転スリット板の回転
変位に応じて、第２スリットが第１スリットの矩形形状
部分と重ならない状態も出現して共通間隙を消失せし
め、散乱光検出可能領域を一時消失せしめるとともに、
共通間隙の消失・出現の過渡期においては、当然のこと
ながら、光量が低減することにより、レーザービーム照
射位置がペリクル枠の近傍に有り、該ペリクル枠から反
射散乱した強い迷光の影響を受けやすい状態において
は、第２スリットと第１スリットとが前記過渡期の状態
にあたるため、前記迷光が、たとえ、光検出器へ到達し
たとしても、光量が低減していることから、単に、回転
スリット板が、回転駆動中でも常に共通間隙を生ぜしめ
る形状の第２スリットを有する入射光制限手段に比し
て、たとえ前記迷光が光検出器へ到達したとしても、そ
の影響を受け難く、従って、異物検出性能を大幅に高感
度化でき、また、ペリクル枠の極く近い領域まで迷光の
影響を受けることなく確実に検査できるようになった。
以下、本発明の具体的実施例を図面（第１図ないし第２
図）に基いて説明する。
図）に基いて説明する。
第１図（イ）は、本発明実施例に係る異物有無検査装置
の要部（検出光学系Ｂ）の原理的構成を示しており、こ
の検出光学系Ｂ以外の構成は先に説明した第４図のもの
と同様である。
の要部（検出光学系Ｂ）の原理的構成を示しており、こ
の検出光学系Ｂ以外の構成は先に説明した第４図のもの
と同様である。
さて、この第１図（イ）に示しているように、検出光学
系Ｂは、集光レンズ６，反射散乱光に対する入射光制限
用の第１スリット７を有する固定スリット板８，例えば
光電子倍増管から成る光検出器９等を筒状ケーシング１
０内にその順に並設して組み合わせた基本構成に加え
て、前記固定スリット板８の直後（直前でも可）に、下
記のような構成を有する回転スリット板１２を設けてあ
る。
系Ｂは、集光レンズ６，反射散乱光に対する入射光制限
用の第１スリット７を有する固定スリット板８，例えば
光電子倍増管から成る光検出器９等を筒状ケーシング１
０内にその順に並設して組み合わせた基本構成に加え
て、前記固定スリット板８の直後（直前でも可）に、下
記のような構成を有する回転スリット板１２を設けてあ
る。
即ち、前記回転スリット板１２は、第１図（ロ）にその
一例を示しているように、その回転変位に伴って、前記
固定スリット板８の第１スリット７を更に適宜に制限可
能な形状の第２スリット１１を備えている。具体的に
は、第２スリット１１は、略半リング状で、回転スリッ
ト板１２の回転変位に応じて第１スリット７との重なり
によって共通間隙を出現せしめこれによって散乱光検出
可能領域を規定し、あるいは、前記共通間隙を消失せし
めて前記散乱光検出可能領域を一時消失せしめるととも
に、前記共通間隙の消失・出現の過渡期には、散乱光検
出可能領域からの前記反射散乱光の光量を小さくしうる
ものである。更に、回転スリット板１２は、検査対象基
板の表面上に照射されるレーザービームの走査位置に応
じて（つまり走査周期と同期するように）回転変位させ
るべく構成されている（図では、回転駆動機構は省略し
ている）。
一例を示しているように、その回転変位に伴って、前記
固定スリット板８の第１スリット７を更に適宜に制限可
能な形状の第２スリット１１を備えている。具体的に
は、第２スリット１１は、略半リング状で、回転スリッ
ト板１２の回転変位に応じて第１スリット７との重なり
によって共通間隙を出現せしめこれによって散乱光検出
可能領域を規定し、あるいは、前記共通間隙を消失せし
めて前記散乱光検出可能領域を一時消失せしめるととも
に、前記共通間隙の消失・出現の過渡期には、散乱光検
出可能領域からの前記反射散乱光の光量を小さくしうる
ものである。更に、回転スリット板１２は、検査対象基
板の表面上に照射されるレーザービームの走査位置に応
じて（つまり走査周期と同期するように）回転変位させ
るべく構成されている（図では、回転駆動機構は省略し
ている）。
上記構成によれば、固定スリット板８のスリット７と回
転スリット板１２の第２スリット１１とのふたつのスリ
ットの共通間隙によって規定されるより小さな投影像
（散乱光検出可能領域）が、常にレーザービームの照射
位置に過不足なく対応するように変位することになるた
め、従来のように、レーザービーム照射位置以外の不要
な箇所からの迷光が光検出器９へ到達することがない。
従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペ
リクル枠１の極く近い領域まで迷光の影響を受けること
なく確実に検査することができるのである。
転スリット板１２の第２スリット１１とのふたつのスリ
ットの共通間隙によって規定されるより小さな投影像
（散乱光検出可能領域）が、常にレーザービームの照射
位置に過不足なく対応するように変位することになるた
め、従来のように、レーザービーム照射位置以外の不要
な箇所からの迷光が光検出器９へ到達することがない。
従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペ
リクル枠１の極く近い領域まで迷光の影響を受けること
なく確実に検査することができるのである。
第２図は更に発展的な実施例の要部構成を示している。
即ち、１５は、前記固定スリット板８の前面側または後
面側に設けられるスリット長さ可変機構であって、一対
のレール部材１３，１３とその間に摺動自在に設けられ
た一対のドア板部材１４，１４とから構成されている。
面側に設けられるスリット長さ可変機構であって、一対
のレール部材１３，１３とその間に摺動自在に設けられ
た一対のドア板部材１４，１４とから構成されている。
このスリット長さ可変機構１５によれば、例えばペリク
ル枠の大きさによって定まるところの検査対象基板上の
必要検査領域の大きさに応じて、前記ドア板部材１４，
１４の位置調節を行うことによって、前記固定スリット
板８の第１スリット７の有効長さを適宜に設定できるた
め、検出光学系のより一層の高感度化および汎用性の向
上を図ることができる。
ル枠の大きさによって定まるところの検査対象基板上の
必要検査領域の大きさに応じて、前記ドア板部材１４，
１４の位置調節を行うことによって、前記固定スリット
板８の第１スリット７の有効長さを適宜に設定できるた
め、検出光学系のより一層の高感度化および汎用性の向
上を図ることができる。
以上詳述したところから明らかなように、本発明に係る
異物有無検査装置によれば、 光検出器の前方に、矩形形状で、前記反射散乱光に
対する入射光制限用の第１スリットを有する固定スリッ
ト板を配置すると共に、その固定スリット板の直前また
は直後に、前記レーザービームの走査位置の変化に応じ
て回転変位して前記固定スリット板の第１スリットに入
射した入射光を更に制限するための回転スリット板を設
け、前記回転スリット板に、略半リング状で、該回転ス
リット板の回転変位に応じて前記第１スリットとの重な
りによって共通間隙を生ぜしめこれによって散乱光検出
可能領域を規定しうる第２スリットを備えてあるという
極く簡素な改良手段を施すのみでありながら、前記共通
間隙によって規定される散乱光検出可能領域（小さな投
影像）を、常にレーザービームの照射位置に過不足なく
対応するように変位させることができ、これによって、
従来に比して、レーザービーム照射位置以外の不要な箇
所からの迷光が光検出器へ到達することを防止できる効
果を大にでき、以って、従来のものに比べて優れた異物
検出性能を有することができる。
異物有無検査装置によれば、 光検出器の前方に、矩形形状で、前記反射散乱光に
対する入射光制限用の第１スリットを有する固定スリッ
ト板を配置すると共に、その固定スリット板の直前また
は直後に、前記レーザービームの走査位置の変化に応じ
て回転変位して前記固定スリット板の第１スリットに入
射した入射光を更に制限するための回転スリット板を設
け、前記回転スリット板に、略半リング状で、該回転ス
リット板の回転変位に応じて前記第１スリットとの重な
りによって共通間隙を生ぜしめこれによって散乱光検出
可能領域を規定しうる第２スリットを備えてあるという
極く簡素な改良手段を施すのみでありながら、前記共通
間隙によって規定される散乱光検出可能領域（小さな投
影像）を、常にレーザービームの照射位置に過不足なく
対応するように変位させることができ、これによって、
従来に比して、レーザービーム照射位置以外の不要な箇
所からの迷光が光検出器へ到達することを防止できる効
果を大にでき、以って、従来のものに比べて優れた異物
検出性能を有することができる。
更に、本願発明においては、前記第１スリットの矩
形形状部分と第２スリットの略半リング状部分とが重な
ることで共通間隙を生ぜしめることによる前記効果に加
えて以下に示すような特有の効果を奏す。
形形状部分と第２スリットの略半リング状部分とが重な
ることで共通間隙を生ぜしめることによる前記効果に加
えて以下に示すような特有の効果を奏す。
すなわち、本願発明では、第２スリットが略半リング状
であることから、回転スリット板の回転変位に応じて、
第２スリットが前記第１スリットの矩形形状部分と重な
らない状態も出現して前記共通間隙を消失せしめ、前記
散乱光検出可能領域を一時消失せしめるとともに、共通
間隙の消失・出現の過渡期（例えば、本願明細書の第１
図（ロ）参照）においては、当然のことながら、光量が
低減する。この際、レーザービーム照射位置がペリクル
枠の近傍に有り、該ペリクル枠から反射散乱した強い迷
光の影響を受けやすい状態においては、第２スリットと
第１スリットとが前記過渡期の状態にあたるため、前記
迷光が、たとえ、光検出器へ到達したとしても、光量が
低減していることから、単に、回転スリット板が、回転
駆動中でも常に共通間隙を生ぜしめる形状の第２スリッ
トを有する入射光制限手段に比して、たとえ前記迷光が
光検出器へ到達したとしても、その影響を受け難く、そ
の結果、ペリクル枠の極く近接したより広い領域まで迷
光の影響を受けることなく確実に検査できるという特有
の効果を奏するものであり、従来のようにレーザービー
ム照射位置以外の不要な箇所からの迷光が光検出器へ到
達することを確実に防止できるようになり、以って、従
来のものに比べて格段に優れた異物検出性能を有するこ
とができる。
であることから、回転スリット板の回転変位に応じて、
第２スリットが前記第１スリットの矩形形状部分と重な
らない状態も出現して前記共通間隙を消失せしめ、前記
散乱光検出可能領域を一時消失せしめるとともに、共通
間隙の消失・出現の過渡期（例えば、本願明細書の第１
図（ロ）参照）においては、当然のことながら、光量が
低減する。この際、レーザービーム照射位置がペリクル
枠の近傍に有り、該ペリクル枠から反射散乱した強い迷
光の影響を受けやすい状態においては、第２スリットと
第１スリットとが前記過渡期の状態にあたるため、前記
迷光が、たとえ、光検出器へ到達したとしても、光量が
低減していることから、単に、回転スリット板が、回転
駆動中でも常に共通間隙を生ぜしめる形状の第２スリッ
トを有する入射光制限手段に比して、たとえ前記迷光が
光検出器へ到達したとしても、その影響を受け難く、そ
の結果、ペリクル枠の極く近接したより広い領域まで迷
光の影響を受けることなく確実に検査できるという特有
の効果を奏するものであり、従来のようにレーザービー
ム照射位置以外の不要な箇所からの迷光が光検出器へ到
達することを確実に防止できるようになり、以って、従
来のものに比べて格段に優れた異物検出性能を有するこ
とができる。
第１図および第２図は、本発明に係る異物有無検査装置
の具体的実施例を示し、第１図（イ）は検出光学系の概
略構成図、第１図（ロ）はその要部の構成および作用の
説明図であり、第２図は別の実施例に係る要部の概略構
成および作用の説明図である。 第３図ないし第５図は、本発明の技術的背景ならびに従
来問題を説明するためのものであって、第３図は従来一
般の異物有無検査装置の全体構成図、第４図その要部の
概略構成図、第５図はその作用の説明図である。 Ｏ……検査対象基板、Ｂ……検出光学系、Ｌ……レーザ
ービーム、Ｒ……反射散乱光、７……第１スリット、８
……固定スリット板、９……光検出器、１１……第２ス
リット、１２……回転スリット板。
の具体的実施例を示し、第１図（イ）は検出光学系の概
略構成図、第１図（ロ）はその要部の構成および作用の
説明図であり、第２図は別の実施例に係る要部の概略構
成および作用の説明図である。 第３図ないし第５図は、本発明の技術的背景ならびに従
来問題を説明するためのものであって、第３図は従来一
般の異物有無検査装置の全体構成図、第４図その要部の
概略構成図、第５図はその作用の説明図である。 Ｏ……検査対象基板、Ｂ……検出光学系、Ｌ……レーザ
ービーム、Ｒ……反射散乱光、７……第１スリット、８
……固定スリット板、９……光検出器、１１……第２ス
リット、１２……回転スリット板。
Claims (1)
- 【請求項１】上方に必要検査領域を規定するペリクル枠
を有し、表面に回路パターンが描かれている検査対象基
板の該表面に対してレーザービームを走査照射するよう
に構成すると共に、その検査対象基板の表面からの反射
散乱光に対する検出光学系を設け、その検出光学系によ
る反射散乱光の検出結果に基いて前記検査対象基板の表
面における異物検出可能領域の異物の有無を判別するよ
うに構成されている異物有無検査装置において、 前記検出光学系を構成するに、光検出器の前方に、矩形
形状で、前記反射散乱光に対する入射光制限用の第１ス
リットを有する固定スリット板を配置すると共に、その
固定スリット板の直前または直後に、前記レーザービー
ムの走査位置の変化に応じて回転変位して前記固定スリ
ット板の第１スリットに入射した入射光を更に制限する
ための回転スリット板を設け、更に、該回転スリット板
には、略半リング状で、該回転スリット板の回転変位に
応じて前記第１スリットとの重なりによって共通間隙を
出現せしめこれによって散乱光検出可能領域を規定し、
あるいは、前記共通間隙を消失せしめて前記散乱光検出
可能領域を一時消失せしめるとともに、前記共通間隙の
消失・出現の過渡期には、散乱光検出可能領域からの前
記反射散乱光の光量を小さくしうる第２スリットが備わ
っていることを特徴とする異物有無検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62287650A JPH0621879B2 (ja) | 1987-11-14 | 1987-11-14 | 異物有無検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62287650A JPH0621879B2 (ja) | 1987-11-14 | 1987-11-14 | 異物有無検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129144A JPH01129144A (ja) | 1989-05-22 |
| JPH0621879B2 true JPH0621879B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=17719953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62287650A Expired - Lifetime JPH0621879B2 (ja) | 1987-11-14 | 1987-11-14 | 異物有無検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621879B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006019468B3 (de) * | 2006-04-26 | 2007-08-30 | Siemens Ag | Optischer Sensor und Verfahren zur optischen Inspektion von Oberflächen |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59152626A (ja) * | 1983-02-21 | 1984-08-31 | Hitachi Ltd | 異物検出装置 |
| JPS6211144A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 異物検査装置 |
-
1987
- 1987-11-14 JP JP62287650A patent/JPH0621879B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01129144A (ja) | 1989-05-22 |
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