JPH06223315A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH06223315A JPH06223315A JP2745093A JP2745093A JPH06223315A JP H06223315 A JPH06223315 A JP H06223315A JP 2745093 A JP2745093 A JP 2745093A JP 2745093 A JP2745093 A JP 2745093A JP H06223315 A JPH06223315 A JP H06223315A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 117
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ラミネート型磁気ヘッドの剥離強度を向上さ
せ、耐久性及び信頼性をの向上を図る。 【構成】 多層磁性膜１２を、モールドガラス材１５の
モールド固定力によって非磁性基板１３側に強固に接合
するとともに、多層磁性膜１２を挟み込んでいる一対の
非磁性基板１３，１３どうしを、当該非磁性基板１３と
同質の接着ガラス１６によって強固に接合することによ
って、多層磁性膜１２と非磁性基板１３とを強固に接合
したもの。
せ、耐久性及び信頼性をの向上を図る。 【構成】 多層磁性膜１２を、モールドガラス材１５の
モールド固定力によって非磁性基板１３側に強固に接合
するとともに、多層磁性膜１２を挟み込んでいる一対の
非磁性基板１３，１３どうしを、当該非磁性基板１３と
同質の接着ガラス１６によって強固に接合することによ
って、多層磁性膜１２と非磁性基板１３とを強固に接合
したもの。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性膜を用いた磁気ヘ
ッドに関する。
ッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から特開平４−１２５８０６号公報
等において、磁性膜を膜付けした一対のコアどうしを対
向配置することによって、所定のギャップを形成するよ
うにした磁気ヘッドが知られている。このような磁性膜
を用いた磁気ヘッドにおいて、近年、磁性膜をトラック
巾方向に積層してなる、いわゆるラミネート型の磁気ヘ
ッドが開発されている。
等において、磁性膜を膜付けした一対のコアどうしを対
向配置することによって、所定のギャップを形成するよ
うにした磁気ヘッドが知られている。このような磁性膜
を用いた磁気ヘッドにおいて、近年、磁性膜をトラック
巾方向に積層してなる、いわゆるラミネート型の磁気ヘ
ッドが開発されている。
【０００３】このラミネート型の磁気ヘッドでは、例え
ば図５及び図６に示されているように、ギャップＧを形
成するように対向配置された一対のコア１，１のそれぞ
れに、トラック巾方向に積層された多層磁性膜２，２が
膜付けされているとともに、それらの各コア１における
多層磁性膜２の両側に、当該多層磁性膜２を両側から挟
み込むようにして一対の非磁性基板３，３が接合されて
いる。上記各多層磁性膜２は、磁性膜と絶縁膜とを重ね
合わせた組をトラック巾方向に複数組積層してなるもの
であり、当該多層磁性膜２及び上記非磁性基板３のギャ
ップＧ形成表面上を、テープが走行するように構成され
ている。また上記コア１，１どうしの対向部分に形成さ
れたコイル窓４を通して、記録・再生信号を入出力させ
るためのコイル（図示省略）がコア１に巻回されてい
る。
ば図５及び図６に示されているように、ギャップＧを形
成するように対向配置された一対のコア１，１のそれぞ
れに、トラック巾方向に積層された多層磁性膜２，２が
膜付けされているとともに、それらの各コア１における
多層磁性膜２の両側に、当該多層磁性膜２を両側から挟
み込むようにして一対の非磁性基板３，３が接合されて
いる。上記各多層磁性膜２は、磁性膜と絶縁膜とを重ね
合わせた組をトラック巾方向に複数組積層してなるもの
であり、当該多層磁性膜２及び上記非磁性基板３のギャ
ップＧ形成表面上を、テープが走行するように構成され
ている。また上記コア１，１どうしの対向部分に形成さ
れたコイル窓４を通して、記録・再生信号を入出力させ
るためのコイル（図示省略）がコア１に巻回されてい
る。
【０００４】このような構成のラミネート型磁気ヘッド
を形成する場合には、まず一方側の非磁性基板３の表面
上に多層磁性膜２を積層し、その多層磁性膜２上に接着
用のガラス層６を形成し、この接着用ガラス層６を介し
て他方側の非磁性基板３を、多層磁性膜２に対して溶着
により接合している。
を形成する場合には、まず一方側の非磁性基板３の表面
上に多層磁性膜２を積層し、その多層磁性膜２上に接着
用のガラス層６を形成し、この接着用ガラス層６を介し
て他方側の非磁性基板３を、多層磁性膜２に対して溶着
により接合している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが多層磁性膜２
に対して非磁性基板３を接合する場合、金属等からなる
多層磁性膜２と、ガラス材或いはセラミック等からなる
非磁性基板３との間の接着力が弱く、従って多層磁性膜
２と非磁性基板３との間の接着部分に剥離を生じ易いと
いう問題がある。
に対して非磁性基板３を接合する場合、金属等からなる
多層磁性膜２と、ガラス材或いはセラミック等からなる
非磁性基板３との間の接着力が弱く、従って多層磁性膜
２と非磁性基板３との間の接着部分に剥離を生じ易いと
いう問題がある。
【０００６】そこで本発明は、多層磁性膜と非磁性基板
との間の接合強度に優れたラミネート型の磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
との間の接合強度に優れたラミネート型の磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、ギャップを形成するようにコアを対向配置し
てなる磁気ヘッドにおいて、上記コアは、磁性膜と絶縁
膜とを重ね合わせた組をトラック巾方向に複数組積層し
た多層磁性膜と、この多層磁性膜の積層方向両側に接合
した一対の非磁性基板とを有し、前記多層磁性膜を、一
方側の非磁性基板における表面の一部の領域に対して積
層し、かつその積層後における多層磁性膜を、モールド
ガラス材により固着するとともに、上記一方側の非磁性
基板における表面の非積層領域と、他方側の非磁性基板
における表面とを、接着ガラスを介して接合した構成を
有している。
本発明は、ギャップを形成するようにコアを対向配置し
てなる磁気ヘッドにおいて、上記コアは、磁性膜と絶縁
膜とを重ね合わせた組をトラック巾方向に複数組積層し
た多層磁性膜と、この多層磁性膜の積層方向両側に接合
した一対の非磁性基板とを有し、前記多層磁性膜を、一
方側の非磁性基板における表面の一部の領域に対して積
層し、かつその積層後における多層磁性膜を、モールド
ガラス材により固着するとともに、上記一方側の非磁性
基板における表面の非積層領域と、他方側の非磁性基板
における表面とを、接着ガラスを介して接合した構成を
有している。
【０００８】
【作用】このような構成を有する手段においては、多層
磁性膜が、モールドガラス材のモールド固定力によって
非磁性基板側に強固に接合されるとともに、多層磁性膜
を挟み込んでいる非磁性基板どうしが、モールドガラス
材と同質または同成分の接着ガラスによって強固に接合
されるようになっている。
磁性膜が、モールドガラス材のモールド固定力によって
非磁性基板側に強固に接合されるとともに、多層磁性膜
を挟み込んでいる非磁性基板どうしが、モールドガラス
材と同質または同成分の接着ガラスによって強固に接合
されるようになっている。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１、図２及び図３に示されているよう
に、ギャップＧを形成するように対向配置された一対の
コア１１，１１のそれぞれには、トラック巾方向に多層
磁性膜１２，１２が積層されている。またこれらの各多
層磁性膜１２のトラック巾方向における両側には、当該
多層磁性膜１２を挟み込むようにして非磁性基板１３，
１３がそれぞれ接合配設されており、これら磁性膜１２
及び非磁性基板１３のギャップＧの形成表面上をテープ
走行が行われるように構成されている。
に説明する。図１、図２及び図３に示されているよう
に、ギャップＧを形成するように対向配置された一対の
コア１１，１１のそれぞれには、トラック巾方向に多層
磁性膜１２，１２が積層されている。またこれらの各多
層磁性膜１２のトラック巾方向における両側には、当該
多層磁性膜１２を挟み込むようにして非磁性基板１３，
１３がそれぞれ接合配設されており、これら磁性膜１２
及び非磁性基板１３のギャップＧの形成表面上をテープ
走行が行われるように構成されている。
【００１０】また上記各コア１１，１１どうしの対向部
分には、コイル窓１４が形成されており、このコイル窓
１４を通すようにして、記録・再生信号を入出力させる
ためのコイル（図示省略）がコア１１に巻回されてい
る。
分には、コイル窓１４が形成されており、このコイル窓
１４を通すようにして、記録・再生信号を入出力させる
ためのコイル（図示省略）がコア１１に巻回されてい
る。
【００１１】上記多層磁性膜１２は、磁性膜と非磁性層
とを重ね合わせた組を、トラック巾方向に複数組積層し
てなるものであり、そのうち磁性膜としては強磁性金
属、例えばセンダスト等が用いられているとともに、非
磁性層としてはガラス材（ＳiＯ2 ）等が用いられてい
る。これら磁性膜及び非磁性層は、公知の薄膜形成技
術、例えばスパッタリングやイオンプビームスパッター
あるいは蒸着等により均一な膜厚となるように形成され
たものであって、磁気飽和を回避するために全体として
十分な膜厚に形成されている。
とを重ね合わせた組を、トラック巾方向に複数組積層し
てなるものであり、そのうち磁性膜としては強磁性金
属、例えばセンダスト等が用いられているとともに、非
磁性層としてはガラス材（ＳiＯ2 ）等が用いられてい
る。これら磁性膜及び非磁性層は、公知の薄膜形成技
術、例えばスパッタリングやイオンプビームスパッター
あるいは蒸着等により均一な膜厚となるように形成され
たものであって、磁気飽和を回避するために全体として
十分な膜厚に形成されている。
【００１２】一方前記各コア１１の非磁性基板１３とし
ては、結晶化ガラスやセラミックス等の非磁性のヘッド
基板材料が用いられている。本実施例のような非磁性体
が使用されるのは、例えば３０MHz 付近の高域の周波数
の使用を前提とする場合であり、５MHz 程度の高域まで
の使用を前提とする場合には、高透磁率を有するフェラ
イト、センダスト合金等の強磁性酸化物が使用される。
ては、結晶化ガラスやセラミックス等の非磁性のヘッド
基板材料が用いられている。本実施例のような非磁性体
が使用されるのは、例えば３０MHz 付近の高域の周波数
の使用を前提とする場合であり、５MHz 程度の高域まで
の使用を前提とする場合には、高透磁率を有するフェラ
イト、センダスト合金等の強磁性酸化物が使用される。
【００１３】前記多層磁性膜１２は、一方側（図２左
側）の非磁性基板１３の表面に積層されているが、その
積層領域は、非磁性基板１３の表面の一部に限定されて
いる。具体的には、図２上側のギャップＧ形成部分に溝
部が凹設されており、その溝部の形成領域に対して多層
磁性膜１２が積層されている。さらに多層磁性膜１２の
上には、モールドガラス材１５が流し込みにより被着さ
れており、このモールドガラス材１５によって多層磁性
膜１２が固着されている。
側）の非磁性基板１３の表面に積層されているが、その
積層領域は、非磁性基板１３の表面の一部に限定されて
いる。具体的には、図２上側のギャップＧ形成部分に溝
部が凹設されており、その溝部の形成領域に対して多層
磁性膜１２が積層されている。さらに多層磁性膜１２の
上には、モールドガラス材１５が流し込みにより被着さ
れており、このモールドガラス材１５によって多層磁性
膜１２が固着されている。
【００１４】そして上記モールドガラス材１５に対し
て、他方側（図２右側）の非磁性基板１３が接合されて
いるが、この他方側の非磁性基板１３と、上述した一方
側の非磁性基板１３とは、図２下側の表面部分すなわち
多層磁性膜１２の非積層領域において、接着ガラス１６
により直接的に接合されている。
て、他方側（図２右側）の非磁性基板１３が接合されて
いるが、この他方側の非磁性基板１３と、上述した一方
側の非磁性基板１３とは、図２下側の表面部分すなわち
多層磁性膜１２の非積層領域において、接着ガラス１６
により直接的に接合されている。
【００１５】上記実施例では、多層磁性膜１２が、モー
ルドガラス材１５のモールド固定力によって非磁性基板
１３側に強固に接合されているとともに、多層磁性膜１
２を挟み込んでいる非磁性基板１３，１３どうしが、モ
ールドガラス材１５と同質または同成分の接着ガラス１
６によって強固に接合されている。加えて接着性が不良
な多層磁性膜１２と非磁性基板１３との接触面積が小さ
いため、多層磁性膜１２と非磁性基板１３とが強固な接
合状態となり、全体の剥離強度が向上されている。
ルドガラス材１５のモールド固定力によって非磁性基板
１３側に強固に接合されているとともに、多層磁性膜１
２を挟み込んでいる非磁性基板１３，１３どうしが、モ
ールドガラス材１５と同質または同成分の接着ガラス１
６によって強固に接合されている。加えて接着性が不良
な多層磁性膜１２と非磁性基板１３との接触面積が小さ
いため、多層磁性膜１２と非磁性基板１３とが強固な接
合状態となり、全体の剥離強度が向上されている。
【００１６】次にこのような磁気ヘッドを形成する工程
を説明する。まず図４（ａ）に示されているように、非
磁性基板となるワーク１３’に溝加工が行われ、ついで
図４（ｂ）のように上記溝加工面に対して多層磁性膜１
２’がスパッタリング等によって積層形成される。さら
にこの積層形成された多層磁性膜１２’上には、図４
（ｃ）に示されているようにモールドガラス材１５’に
よるシーリングが行われた後、図４（ｄ）のように平面
研磨が行われる。そして図４（ｅ）に示されているよう
に、多層磁性膜１２’の積層形成側に対して接着ガラス
１６’が、多層磁性膜１２’の非積層領域も含めて全面
に被着される。これらのワークの複数体は、図４（ｆ）
に示されているように積層状に重ね合わせて接着された
後、その複数積層体から図４（ｇ）のような積層バー状
のものが切り出される。その積層バーには切断等の加工
が施され、図４（ｈ）に示されているような一対のコア
１１Ａ’及び１１Ｂ’が形成される。その後、上記一対
のコア１１Ａ’及び１１Ｂ’どうしが、ガラス材（Ｓi
Ｏ2 ）等からなる所定のギャップ材Ｇ’を介して、図４
（ｉ）のようにボンディングされ、最後にスライスされ
て上述したような磁気ヘッドを得る。
を説明する。まず図４（ａ）に示されているように、非
磁性基板となるワーク１３’に溝加工が行われ、ついで
図４（ｂ）のように上記溝加工面に対して多層磁性膜１
２’がスパッタリング等によって積層形成される。さら
にこの積層形成された多層磁性膜１２’上には、図４
（ｃ）に示されているようにモールドガラス材１５’に
よるシーリングが行われた後、図４（ｄ）のように平面
研磨が行われる。そして図４（ｅ）に示されているよう
に、多層磁性膜１２’の積層形成側に対して接着ガラス
１６’が、多層磁性膜１２’の非積層領域も含めて全面
に被着される。これらのワークの複数体は、図４（ｆ）
に示されているように積層状に重ね合わせて接着された
後、その複数積層体から図４（ｇ）のような積層バー状
のものが切り出される。その積層バーには切断等の加工
が施され、図４（ｈ）に示されているような一対のコア
１１Ａ’及び１１Ｂ’が形成される。その後、上記一対
のコア１１Ａ’及び１１Ｂ’どうしが、ガラス材（Ｓi
Ｏ2 ）等からなる所定のギャップ材Ｇ’を介して、図４
（ｉ）のようにボンディングされ、最後にスライスされ
て上述したような磁気ヘッドを得る。
【００１７】なお本発明は、コンポッジット型の固定デ
ィスク駆動装置（ＨＤＤ）用の磁気ヘッドにも適用可能
である。
ィスク駆動装置（ＨＤＤ）用の磁気ヘッドにも適用可能
である。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように本発明にかかるラミネ
ート型の磁気ヘッドは、多層磁性膜を、モールドガラス
材のモールド固定力によって非磁性基板側に強固に接合
するとともに、多層磁性膜を挟み込んでいる一対の非磁
性基板どうしを、モールドガラス材と同質または同成分
の接着ガラスにより強固に接合し、多層磁性膜と非磁性
基板とを強固に接合したものであるから、ラミネート型
磁気ヘッドの剥離強度を向上させることができ、耐久性
及び信頼性を向上させることができる。
ート型の磁気ヘッドは、多層磁性膜を、モールドガラス
材のモールド固定力によって非磁性基板側に強固に接合
するとともに、多層磁性膜を挟み込んでいる一対の非磁
性基板どうしを、モールドガラス材と同質または同成分
の接着ガラスにより強固に接合し、多層磁性膜と非磁性
基板とを強固に接合したものであるから、ラミネート型
磁気ヘッドの剥離強度を向上させることができ、耐久性
及び信頼性を向上させることができる。
【図１】本発明の一実施例におけるラミネート型磁気ヘ
ッドの構造を表した外観斜視説明図である。
ッドの構造を表した外観斜視説明図である。
【図２】図１に表されたラミネート型磁気ヘッドの側面
説明図である。
説明図である。
【図３】図１に表されたラミネート型磁気ヘッドの平面
説明図である。
説明図である。
【図４】図１乃至図３に表されたラミネート型磁気ヘッ
ドの製造手順を表した工程説明図である。
ドの製造手順を表した工程説明図である。
【図５】一般のラミネート型磁気ヘッドの構造例を表し
た外観斜視説明図である。
た外観斜視説明図である。
【図６】図５に表された一般のラミネート型磁気ヘッド
の側面説明図である。
の側面説明図である。
１１ コア １２ 多層磁性膜 １３ 非磁性基板 １５ モールドガラス材 １６ 接着ガラス Ｇ ギャップ
Claims (1)
- 【請求項１】 ギャップを形成するようにコアを対向配
置してなる磁気ヘッドにおいて、 上記コアは、磁性膜と絶縁膜とを重ね合わせた組をトラ
ック巾方向に複数組積層した多層磁性膜と、この多層磁
性膜の積層方向両側に接合した一対の非磁性基板とを有
し、 上記多層磁性膜を、一方側の非磁性基板における表面領
域の一部に対して積層するとともに、その積層後におけ
る多層磁性膜を、モールドガラス材により固着し、 かつ前記一方側の非磁性基板における表面領域の非積層
部と、他方側の非磁性基板とを、接着ガラスを介して接
合してなることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2745093A JPH06223315A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2745093A JPH06223315A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06223315A true JPH06223315A (ja) | 1994-08-12 |
Family
ID=12221461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2745093A Withdrawn JPH06223315A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06223315A (ja) |
-
1993
- 1993-01-22 JP JP2745093A patent/JPH06223315A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000404 |