JPH0624147A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPH0624147A JPH0624147A JP5144039A JP14403993A JPH0624147A JP H0624147 A JPH0624147 A JP H0624147A JP 5144039 A JP5144039 A JP 5144039A JP 14403993 A JP14403993 A JP 14403993A JP H0624147 A JPH0624147 A JP H0624147A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- recording
- light
- dye
- recording layer
- Prior art date
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- Pending
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】
〔但し、式中のＲ1、Ｒ2はアルキル基、ＸはＣｌＯ4 -、
Ｉ-、ＢＦ4 -、Ｙは−Ｒ3ＯＲ4、−Ｒ3ＣＯＯＲ4、−Ｒ5
ＯＨ、−Ｒ5ＣＯＯＺで、Ｒ3、Ｒ４、Ｒ５がアルキル
基、Ｚが水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属を示
す〕で表わされる色素を含む記録層を有する光情報記録
媒体。 【効果】 高い反射率と高い記録感度を有し、光学的信
号の書き込み、再生を安定して行なうことが可能で、か
つ再生光や日光、湿度に対する安定性の高い無公害の光
情報記録媒体を提供できる。
Ｉ-、ＢＦ4 -、Ｙは−Ｒ3ＯＲ4、−Ｒ3ＣＯＯＲ4、−Ｒ5
ＯＨ、−Ｒ5ＣＯＯＺで、Ｒ3、Ｒ４、Ｒ５がアルキル
基、Ｚが水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属を示
す〕で表わされる色素を含む記録層を有する光情報記録
媒体。 【効果】 高い反射率と高い記録感度を有し、光学的信
号の書き込み、再生を安定して行なうことが可能で、か
つ再生光や日光、湿度に対する安定性の高い無公害の光
情報記録媒体を提供できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ、特に半導体レ
ーザによる書き込み、再生記録がなされる光メモリ媒体
に関する。
ーザによる書き込み、再生記録がなされる光メモリ媒体
に関する。
【０００２】
【従来技術および問題点】一般に光ディスクは、基板上
に設けた薄膜記録層に形成された光学的に検出可能な小
さな（例えば約１μｍ）ピットをらせん状又は円形のト
ラック形態にして高密度情報を記憶することができる。
この様なディスクに情報を書込むには、レーザ感応層の
表面に集束したレーザを走査し、このレーザ光線が照射
された表面のみにピットを形成し、このピットをらせん
状又は円形トラック等の形態で形成する。この感応層は
レーザエネルギーを吸収して光学的に検出可能なピット
を形成できる。例えばヒートモード記録方式では記録層
がレーザエネルギーを吸収してその照射部分が局部的に
加熱され融解蒸発あるいは凝集等の物理的変化を起こし
非照射部分との間に光学的差異（ｅｘ反射率、吸収率
等）を生じさせて読み取ることによって検出される。こ
の様な光記録媒体としてこれまでアルミニウム蒸着膜な
どの金属薄膜、ビスマス薄膜、テルル系薄膜やカルコゲ
ナイド系非晶質ガラス膜などの無機物質が提案されてい
る。
に設けた薄膜記録層に形成された光学的に検出可能な小
さな（例えば約１μｍ）ピットをらせん状又は円形のト
ラック形態にして高密度情報を記憶することができる。
この様なディスクに情報を書込むには、レーザ感応層の
表面に集束したレーザを走査し、このレーザ光線が照射
された表面のみにピットを形成し、このピットをらせん
状又は円形トラック等の形態で形成する。この感応層は
レーザエネルギーを吸収して光学的に検出可能なピット
を形成できる。例えばヒートモード記録方式では記録層
がレーザエネルギーを吸収してその照射部分が局部的に
加熱され融解蒸発あるいは凝集等の物理的変化を起こし
非照射部分との間に光学的差異（ｅｘ反射率、吸収率
等）を生じさせて読み取ることによって検出される。こ
の様な光記録媒体としてこれまでアルミニウム蒸着膜な
どの金属薄膜、ビスマス薄膜、テルル系薄膜やカルコゲ
ナイド系非晶質ガラス膜などの無機物質が提案されてい
る。
【０００３】これらは、蒸着法、スパッタ法などにより
薄膜が得られ、近赤外域でも光吸収を有するため半導体
レーザが使用できるという長所があるが、反面反射率が
大きく熱伝導率が大きく比熱も大きいという欠点があ
る。特に反射率が大きいということは、レーザ光のエネ
ルギーを有効に利用できないので記録に要する光エネル
ギーが大きくなり、大出力レーザ光源を必要とする。そ
の結果、記録装置が大型かつ高価になると云う欠点があ
る。また、テルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性
を有するという欠点がある。
薄膜が得られ、近赤外域でも光吸収を有するため半導体
レーザが使用できるという長所があるが、反面反射率が
大きく熱伝導率が大きく比熱も大きいという欠点があ
る。特に反射率が大きいということは、レーザ光のエネ
ルギーを有効に利用できないので記録に要する光エネル
ギーが大きくなり、大出力レーザ光源を必要とする。そ
の結果、記録装置が大型かつ高価になると云う欠点があ
る。また、テルル、ビスマス、セレン等の薄膜では毒性
を有するという欠点がある。
【０００４】このような事から、近年吸収性の選択がで
き、吸収率が大きく熱伝導が小さく、生産性が良く且つ
毒性が低いことから色素薄膜を記録層として適用した光
学メモリ媒体の研究提案がなされて来ている。代表的色
素としてはシアニン系色素（特開５８−１１２７９
０）、アントラキノン系色素（特開５８−２２４４４
８）、ナフトキノン系色素（特開５８−２２４７９３）
及びフタロシアニン系色素（特開６０−４８３９６）等
があり、これらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から
成る化合物をスピンナー塗布ディッピング法、プラズマ
法又真空蒸着法等により、基板上に形成した光記録媒体
である。この色素薄膜系は上記長所を有している反面、
光劣化、熱に対して不安定及び湿度劣化等があり、長期
保存性及び再生安定性（読み出し光に対する安定性）等
に問題があると従来言われており、これらの問題につい
て種々の改良案が出されている。具体的には、記録層上
に保護膜を設けること（特開昭５５−２２９６１、５７
−６６５４１）、酸素による退色防止物質を混合するこ
と（特開昭５９−５５７９５）、長波長域に光吸収を有
する金属錯体を形成すること（特開昭５９−２１５８９
２）等が提案されている。
き、吸収率が大きく熱伝導が小さく、生産性が良く且つ
毒性が低いことから色素薄膜を記録層として適用した光
学メモリ媒体の研究提案がなされて来ている。代表的色
素としてはシアニン系色素（特開５８−１１２７９
０）、アントラキノン系色素（特開５８−２２４４４
８）、ナフトキノン系色素（特開５８−２２４７９３）
及びフタロシアニン系色素（特開６０−４８３９６）等
があり、これらを単独又は自己酸化性樹脂との併用から
成る化合物をスピンナー塗布ディッピング法、プラズマ
法又真空蒸着法等により、基板上に形成した光記録媒体
である。この色素薄膜系は上記長所を有している反面、
光劣化、熱に対して不安定及び湿度劣化等があり、長期
保存性及び再生安定性（読み出し光に対する安定性）等
に問題があると従来言われており、これらの問題につい
て種々の改良案が出されている。具体的には、記録層上
に保護膜を設けること（特開昭５５−２２９６１、５７
−６６５４１）、酸素による退色防止物質を混合するこ
と（特開昭５９−５５７９５）、長波長域に光吸収を有
する金属錯体を形成すること（特開昭５９−２１５８９
２）等が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の提案によっても問題を十分に解決しておらず、更に添
加剤による成膜性や反射率、吸収率の低下という問題が
生じる。こうしたことから、記録密度及び反射性の点よ
り下記一般式に示すシアニン系色素を用いた塗布型記録
媒体が注目されている。
の提案によっても問題を十分に解決しておらず、更に添
加剤による成膜性や反射率、吸収率の低下という問題が
生じる。こうしたことから、記録密度及び反射性の点よ
り下記一般式に示すシアニン系色素を用いた塗布型記録
媒体が注目されている。
【０００６】
【化２】 〔但し、式中のＡはＯ、Ｓ、Ｓｅ、Ｃ、Ｘはハロゲン陰
イオン、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、Ｒはアルキル基を示す〕 しかしながら、上記一般式で表わされるシアニン系色素
についても成膜性、熱光安定性に欠けるという本質的な
問題を有する。成膜性については、メチン連鎖数（ｎ）
の増加により溶剤溶解性が低下すること、両端の複素環
の種類及び置換基の種類により溶解性が変わることが知
られている。熱光安定性については、メチン連鎖数が増
加する程、熱、光に対して不安定になり、酸化劣化も起
こり易くなること、複素環の種類により熱、光に対する
安定性が異なることが知られている。
イオン、ＢＦ4 -、ＣｌＯ4 -、Ｒはアルキル基を示す〕 しかしながら、上記一般式で表わされるシアニン系色素
についても成膜性、熱光安定性に欠けるという本質的な
問題を有する。成膜性については、メチン連鎖数（ｎ）
の増加により溶剤溶解性が低下すること、両端の複素環
の種類及び置換基の種類により溶解性が変わることが知
られている。熱光安定性については、メチン連鎖数が増
加する程、熱、光に対して不安定になり、酸化劣化も起
こり易くなること、複素環の種類により熱、光に対する
安定性が異なることが知られている。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、高い反射率と高い記録感度を有し、光学的信号の書
き込み、再生を安定して行なうことが可能で、かつ再生
時の光や日光、湿度に対する安定性の高い無公害の光情
報記録媒体を提供しようとするものである。
で、高い反射率と高い記録感度を有し、光学的信号の書
き込み、再生を安定して行なうことが可能で、かつ再生
時の光や日光、湿度に対する安定性の高い無公害の光情
報記録媒体を提供しようとするものである。
【０００８】
【問題点を解決する手段および作用】本発明は、一般式
【化３】 〔但し、式中のＲ1、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、
ＸはＣｌＯ4 -、Ｉ-、ＢＦ4 -、Ｙは−Ｒ3ＯＲ4、−Ｒ3Ｃ
ＯＯＲ4、−Ｒ5ＯＨ、−Ｒ5ＣＯＯＺで、Ｒ3が炭素数１
〜６のアルキル基、Ｒ4が炭素数１〜３のアルキル基、
Ｒ5が炭素数１〜８のアルキル基、Ｚが水素、アルカリ
金属、アルカリ土類金属を示す〕にて表わされる色素を
含む記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体で
ある。
ＸはＣｌＯ4 -、Ｉ-、ＢＦ4 -、Ｙは−Ｒ3ＯＲ4、−Ｒ3Ｃ
ＯＯＲ4、−Ｒ5ＯＨ、−Ｒ5ＣＯＯＺで、Ｒ3が炭素数１
〜６のアルキル基、Ｒ4が炭素数１〜３のアルキル基、
Ｒ5が炭素数１〜８のアルキル基、Ｚが水素、アルカリ
金属、アルカリ土類金属を示す〕にて表わされる色素を
含む記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体で
ある。
【０００９】上記一般式にて表わされる色素を具体的に
例示すると、下記構造式に示すもの等が挙げられる。
例示すると、下記構造式に示すもの等が挙げられる。
【化４】
【００１０】
【化５】
【００１１】
【化６】
【００１２】
【化７】
【００１３】上記一般式で表わされる色素を含む記録層
は、該色素を酢酸エチル、トルエン、アセトン、メチル
イソブチルケトン、塩化メチレン、アルコール等の溶剤
に溶解してスピンナー法、ディッピング法、ドクターブ
レード法等により基板上に薄膜を形成することにより得
られる。この記録層の厚さは、薄い程、記録感度が高く
なるが、反射率が膜厚に依存するために、１０ｎｍ〜１
０００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲に
することが適切である。また、基板としてはガラス、プ
ラスチック、金属等の一般に用いられるものが使用可能
であるが、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリオレ
フィン、ポリエステル、ポリイミドのフィルムでもよ
い。
は、該色素を酢酸エチル、トルエン、アセトン、メチル
イソブチルケトン、塩化メチレン、アルコール等の溶剤
に溶解してスピンナー法、ディッピング法、ドクターブ
レード法等により基板上に薄膜を形成することにより得
られる。この記録層の厚さは、薄い程、記録感度が高く
なるが、反射率が膜厚に依存するために、１０ｎｍ〜１
０００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲に
することが適切である。また、基板としてはガラス、プ
ラスチック、金属等の一般に用いられるものが使用可能
であるが、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリオレ
フィン、ポリエステル、ポリイミドのフィルムでもよ
い。
【００１４】上述した記録層の形成にあたっては、色素
にバインダ樹脂を１〜４０重量％、好ましくは３〜２０
重量％添加することにより、成膜性、耐熱性、耐湿性を
向上させることができる。ここに用いるバインダ樹脂と
しては、例えばアクリル、エステル、ニトロセルロー
ス、エチレン、プロピレン、カーボネート、エチレンテ
レフタレート、エポキシ、ブチラール、塩化ビニル、酢
酸ビニル、スチレンの単独重合体、これらの共重合体等
を挙げることができる。
にバインダ樹脂を１〜４０重量％、好ましくは３〜２０
重量％添加することにより、成膜性、耐熱性、耐湿性を
向上させることができる。ここに用いるバインダ樹脂と
しては、例えばアクリル、エステル、ニトロセルロー
ス、エチレン、プロピレン、カーボネート、エチレンテ
レフタレート、エポキシ、ブチラール、塩化ビニル、酢
酸ビニル、スチレンの単独重合体、これらの共重合体等
を挙げることができる。
【００１５】また、上記バインダ樹脂の代りに他の色素
を混入させて成膜性の向上や耐熱、耐湿、耐光性を向上
させることも可能である。この場合、他の色素を積層し
て耐熱性、耐湿性、耐光性を向上させることも可能であ
る。ここに用いる色素としては、例えばシアニン色素、
メロシアニン色素、アントラキノン色素、トリフェニル
メタン系色素、キサンテン系色素、フタロシアニン系色
素等を挙げることができる。
を混入させて成膜性の向上や耐熱、耐湿、耐光性を向上
させることも可能である。この場合、他の色素を積層し
て耐熱性、耐湿性、耐光性を向上させることも可能であ
る。ここに用いる色素としては、例えばシアニン色素、
メロシアニン色素、アントラキノン色素、トリフェニル
メタン系色素、キサンテン系色素、フタロシアニン系色
素等を挙げることができる。
【００１６】更に、上述した記録層の形成にあたり色素
に酸化防止剤として下記一般式（Ａ）にて表わされるア
ミン化合物や下記一般式（Ｂ）にて表わされるジチオレ
ート金属錯体を添加し、光、酸素、水分による記録層の
光学特性の劣化を防止することも可能である。
に酸化防止剤として下記一般式（Ａ）にて表わされるア
ミン化合物や下記一般式（Ｂ）にて表わされるジチオレ
ート金属錯体を添加し、光、酸素、水分による記録層の
光学特性の劣化を防止することも可能である。
【００１７】
【化８】 但し、式中のＲ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5は炭素数１〜６のアル
キル基、Ｒ3は
キル基、Ｒ3は
【００１８】
【化９】 で、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基を示すものである。
【００１９】
【化１０】 但し、式中のＲ1〜Ｒ4はアルキル基又はフェニル基、
Ｘ、Ｙは水素、アルキル基、ハロゲン基、ＭはＮｉ、Ｃ
ｏ、Ｆｅ、Ｃｒ等の金属を示すものである。
Ｘ、Ｙは水素、アルキル基、ハロゲン基、ＭはＮｉ、Ｃ
ｏ、Ｆｅ、Ｃｒ等の金属を示すものである。
【００２０】なお、上記一般式の色素を含む記録層の他
に必要に応じて中間層、保護層を設けることができる。
中間層は、接着性の向上と共に酸素、水分からの保護の
目的で設けられ、主に樹脂又は無機化合物から形成され
る。樹脂としては、例えば塩化ビニル、酢酸ビニル、ア
クリル、エステル、ニトロセルロース、カーボネート、
エポキシ、エチレン、プロピレン、ブチラール等の単独
もしくは共重合体を用いることができ、必要に応じて酸
化防止剤や紫外光吸収剤を含有させることが可能であ
る。これらは、スピンナー法、ディッピング法、ドクタ
ーブレード法により形成される。無機化合物としては、
例えばＳｉＯ2、ＳｉＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2
等が用いられ、イオンビーム、電子ビーム、スパッタ法
により薄膜が形成される。前記保護層も中間層と同様の
構成をとり、光、酸素、水分からの記録層の保護、傷、
ホコリからの保護のために用いられる。
に必要に応じて中間層、保護層を設けることができる。
中間層は、接着性の向上と共に酸素、水分からの保護の
目的で設けられ、主に樹脂又は無機化合物から形成され
る。樹脂としては、例えば塩化ビニル、酢酸ビニル、ア
クリル、エステル、ニトロセルロース、カーボネート、
エポキシ、エチレン、プロピレン、ブチラール等の単独
もしくは共重合体を用いることができ、必要に応じて酸
化防止剤や紫外光吸収剤を含有させることが可能であ
る。これらは、スピンナー法、ディッピング法、ドクタ
ーブレード法により形成される。無機化合物としては、
例えばＳｉＯ2、ＳｉＯ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2
等が用いられ、イオンビーム、電子ビーム、スパッタ法
により薄膜が形成される。前記保護層も中間層と同様の
構成をとり、光、酸素、水分からの記録層の保護、傷、
ホコリからの保護のために用いられる。
【００２１】次に、本発明の光情報記録媒体の構成例に
ついて図面を参照して説明する。図１は、光情報記録媒
体の基本構成を示すもので、基板１上に一般式の色素を
含む記録層２を設けた構造である。記録、再生はレーザ
光３を集光レンズにより記録層２上に０．８〜１．５μ
ｍの大きさのスポットに集光して行なわれる。記録再生
のレーザ光３は、記録層２から照射してもよいが、基板
１が透明な材料からなる場合には基板１側から照射する
方が一般的に汚れやゴミの影響を少なくできる。
ついて図面を参照して説明する。図１は、光情報記録媒
体の基本構成を示すもので、基板１上に一般式の色素を
含む記録層２を設けた構造である。記録、再生はレーザ
光３を集光レンズにより記録層２上に０．８〜１．５μ
ｍの大きさのスポットに集光して行なわれる。記録再生
のレーザ光３は、記録層２から照射してもよいが、基板
１が透明な材料からなる場合には基板１側から照射する
方が一般的に汚れやゴミの影響を少なくできる。
【００２２】図２は、基板１と記録層２の間に中間層４
を、記録層２上に保護層５を夫々設けた構造のものであ
る。
を、記録層２上に保護層５を夫々設けた構造のものであ
る。
【００２３】図３は、同一構成の２枚の媒体を記録層２
が互に対向するようにスペーサ６を介して配置させたも
のである。なお、図３中の７はエアーギャップ、８はス
ピンドル穴である。かかる構成によれば、記録層２への
汚れやゴミの影響を抑制できる利点を有する。
が互に対向するようにスペーサ６を介して配置させたも
のである。なお、図３中の７はエアーギャップ、８はス
ピンドル穴である。かかる構成によれば、記録層２への
汚れやゴミの影響を抑制できる利点を有する。
【００２４】
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。 実施例１ 下記構造式（Ｉ）の色素をメチルエチルケトンで溶解
し、１０％溶液とした後、これをスピンナーコータで厚
さ１．２ｍｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７５
ｎｍの記録層を形成して記録媒体を製造した。
し、１０％溶液とした後、これをスピンナーコータで厚
さ１．２ｍｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７５
ｎｍの記録層を形成して記録媒体を製造した。
【化１１】
【００２５】実施例２ 実施例１で用いた構造式（Ｉ）の色素に、バインダ樹脂
としてのアクリル樹脂（三菱レイヨン社製：ダイヤナー
ルＢＲ−６０）を１０重量％添加し、これをメチルエチ
ルケトンで溶解して１０％溶液とした後、この溶液をス
ピンナーコータで厚さ１．２ｍｍのガラス基板上に塗
布、乾燥して厚さ９５ｎｍの記録層を形成して記録媒体
を製造した。
としてのアクリル樹脂（三菱レイヨン社製：ダイヤナー
ルＢＲ−６０）を１０重量％添加し、これをメチルエチ
ルケトンで溶解して１０％溶液とした後、この溶液をス
ピンナーコータで厚さ１．２ｍｍのガラス基板上に塗
布、乾燥して厚さ９５ｎｍの記録層を形成して記録媒体
を製造した。
【００２６】実施例３ 実施例１で用いた構造式（Ｉ）の色素と１、２ニッケル
ジチオレート錯体（三井東圧ファイン社製：ＰＡ１００
６）とを重量比で３：１の割合にて混合し、これをメチ
ルエチルケトンで溶解して１０％溶液とした後、この溶
液をスピンナーコータで厚さ１．２ｍｍのガラス基板上
に塗布、乾燥して厚さ８０ｎｍの記録層を形成して記録
媒体を製造した。
ジチオレート錯体（三井東圧ファイン社製：ＰＡ１００
６）とを重量比で３：１の割合にて混合し、これをメチ
ルエチルケトンで溶解して１０％溶液とした後、この溶
液をスピンナーコータで厚さ１．２ｍｍのガラス基板上
に塗布、乾燥して厚さ８０ｎｍの記録層を形成して記録
媒体を製造した。
【００２７】実施例４ 実施例１で用いた構造式（Ｉ）の色素と下記構造式（I
I）の色素とを重量比で２：１の割合で混合し、これを
実施例１と同様に溶解し、基板上に塗布、乾燥して厚さ
８４ｎｍの記録層を形成し、記録媒体を製造した。
I）の色素とを重量比で２：１の割合で混合し、これを
実施例１と同様に溶解し、基板上に塗布、乾燥して厚さ
８４ｎｍの記録層を形成し、記録媒体を製造した。
【化１２】
【００２８】実施例５ 実施例１と同様な方法によりガラス基板上に構造式
（Ｉ）の色素からなる厚さ７５ｎｍの記録層を形成した
後、この記録層上に下記構造式（III)に示すアルミニウ
ムナフタロシアニンを真空度１．０×１０-5Ｔｏｒｒの
条件下で真空加熱蒸着して厚さ５０ｎｍの反射性保護層
を形成し、記録媒体を製造した。
（Ｉ）の色素からなる厚さ７５ｎｍの記録層を形成した
後、この記録層上に下記構造式（III)に示すアルミニウ
ムナフタロシアニンを真空度１．０×１０-5Ｔｏｒｒの
条件下で真空加熱蒸着して厚さ５０ｎｍの反射性保護層
を形成し、記録媒体を製造した。
【化１３】
【００２９】比較例１ 下記構造式（IV）の色素をメチルエチルケトンで溶解し
て１０％溶液とした後、この溶液をスピンナーコータで
厚さ１．２ｍｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７
０ｎｍの記録層を形成し、記録媒体を製造した。
て１０％溶液とした後、この溶液をスピンナーコータで
厚さ１．２ｍｍのガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７
０ｎｍの記録層を形成し、記録媒体を製造した。
【化１４】
【００３０】比較例２ 下記構造式（Ｖ）の色素を比較例１と同様な方法で溶解
し、ガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７０ｎｍの記録
層を形成し、記録媒体を製造した。
し、ガラス基板上に塗布、乾燥して厚さ７０ｎｍの記録
層を形成し、記録媒体を製造した。
【化１５】 しかして、本実施例１〜５及び比較例１、２の記録媒体
の記録層について波長８３０ｎｍの光に対する反射率を
分光光度計により測定した。また、各記録層について波
長８３０ｎｍの光に対する吸光度を測定した。更に、波
長８３０ｎｍ、出力４ｍＷの半導体レーザ光を直径１．
２μｍのスポットに集光し、この集光レーザ光を各記録
媒体の基板側からその移動速度を９ｍ／ｓｅｃの条件下
で書き込み、再生を行なって記録感度（記録エネルギー
閾値）及びＣ／Ｎ値を測定した。これらの結果を下記表
１に示した。
の記録層について波長８３０ｎｍの光に対する反射率を
分光光度計により測定した。また、各記録層について波
長８３０ｎｍの光に対する吸光度を測定した。更に、波
長８３０ｎｍ、出力４ｍＷの半導体レーザ光を直径１．
２μｍのスポットに集光し、この集光レーザ光を各記録
媒体の基板側からその移動速度を９ｍ／ｓｅｃの条件下
で書き込み、再生を行なって記録感度（記録エネルギー
閾値）及びＣ／Ｎ値を測定した。これらの結果を下記表
１に示した。
【００３１】
【表１】
【００３２】また、本実施例１〜５及び比較例１、２の
記録媒体を５０℃、９５％の雰囲気下に１５０時間放置
し、放置前後の吸光度低下率、反射率低下率を測定する
耐熱湿性試験を行なった。各記録媒体に２５℃、６０％
の雰囲気下で５００Ｗタングステン光を５０ｃｍへだて
て１００時間照射し、タングステン光の照射前後での吸
光度低下率、反射率低下率を測定する耐光試験を行なっ
た。これらの結果を下記表２に示した。
記録媒体を５０℃、９５％の雰囲気下に１５０時間放置
し、放置前後の吸光度低下率、反射率低下率を測定する
耐熱湿性試験を行なった。各記録媒体に２５℃、６０％
の雰囲気下で５００Ｗタングステン光を５０ｃｍへだて
て１００時間照射し、タングステン光の照射前後での吸
光度低下率、反射率低下率を測定する耐光試験を行なっ
た。これらの結果を下記表２に示した。
【００３３】
【表２】
【００３４】
【発明の効果】以上詳述した如く、本発明によれば高い
反射率と高い記録感度を有し、光学的信号の書き込み、
再生を安定して行なうことが可能で、かつ再生光や日
光、湿度に対する安定性の高い無公害の光情報記録媒体
を提供できる。
反射率と高い記録感度を有し、光学的信号の書き込み、
再生を安定して行なうことが可能で、かつ再生光や日
光、湿度に対する安定性の高い無公害の光情報記録媒体
を提供できる。
【図１】本発明の光情報記録媒体を示す概略図である。
【図２】本発明の光情報記録媒体を示す概略図である。
【図３】本発明の光情報記録媒体を示す概略図である。
１ 基板 ２ 記録層 ３ レーザ光 ４ 中間層 ５ 保護層 ６ スペーサ
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔但し、式中のＲ1、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、
ＸはＣｌＯ4 -、Ｉ-、ＢＦ4 -、Ｙは−Ｒ3ＯＲ4、−Ｒ3Ｃ
ＯＯＲ4、−Ｒ5ＯＨ、−Ｒ5ＣＯＯＺで、Ｒ3が炭素数１
〜６のアルキル基、Ｒ4が炭素数１〜３のアルキル基、
Ｒ5が炭素数１〜８のアルキル基、Ｚが水素、アルカリ
金属、アルカリ土類金属を示す〕にて表わされる色素を
含む記録層を有することを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5144039A JPH0624147A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5144039A JPH0624147A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0624147A true JPH0624147A (ja) | 1994-02-01 |
Family
ID=15352902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5144039A Pending JPH0624147A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624147A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11523707B2 (en) | 2015-09-10 | 2022-12-13 | Brava Home, Inc. | Sequential broiling |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP5144039A patent/JPH0624147A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11523707B2 (en) | 2015-09-10 | 2022-12-13 | Brava Home, Inc. | Sequential broiling |
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