JPH0624185B2 - ドライエツチング装置 - Google Patents

ドライエツチング装置

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JPH0624185B2
JPH0624185B2 JP61201738A JP20173886A JPH0624185B2 JP H0624185 B2 JPH0624185 B2 JP H0624185B2 JP 61201738 A JP61201738 A JP 61201738A JP 20173886 A JP20173886 A JP 20173886A JP H0624185 B2 JPH0624185 B2 JP H0624185B2
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JP
Japan
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dry etching
discharge tube
exhaust
gas
vacuum container
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嘉一 前垣
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Shibaura Mechatronics Corp
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Shibaura Engineering Works Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明はドライエッチング装置に関し、特に放電管の外
側で発生するオゾンの排気に改良を施したドライエッチ
ング装置に係わる。
（従来の技術） 従来、ドライエッチング装置としては、例えば第２図に
示すものが知られている。
図中の１は真空容器である。この真空容器１の内部に
は、被処理物２を載置する載置台３が配設され、上記真
空容器１の上面にはエッチングガスを真空容器内に均一
に導入するためのガス分散管４が取り付けられている。
このガス分散管４には、ガス導入管５が接続されてい
る。このガス導入管５の中途部には、石英管からなる放
電管６が設けられており、この放電管６に導波管７を介
して高周波出力８を印加することによりプラズマを発生
させるようになっている。また、上記真空容器１の下面
には、図示しないが真空ポンプに接続されるガス排出管
９がマニホールド１０を介して接続されている。
上記装置においては、載置台３の上面に被処理物２を載
置し、ガス排出管９を介して真空容器１の真空排気を行
なう。その後、ガス導入管５によりＣＦ４、Ｏ２等の不
活性ガスを送り、真空容器１内を所定圧力のガス雰囲気
とし、放電管６の外側にマイクロ波発生器１１によりマ
イクロ波（μ波）を照射することによりガスプラズマを
発生させる。そして、このガスプラズマの発生によりエ
ッチングガスとしてのフッ素ラジカルが生成され、真空
容器１内の被処理物２のエッチングを行なうようになっ
ている。また、プラズマが放たれると、紫外線が放電管
６の周辺の酸素と反応してオゾンが大量に発生する。
そこで、従来は、第３図に示すように導波管１２より窒
素（Ｎ２）を導入し、酸素と置換することによりオゾン
発生を防いでいる。
しかし、従来技術によれば、Ｎ２を大量に使用するので
不経済であるとともに、換気の悪い小さな部屋では酸欠
状態となり作業者が危険である。また、例えば操作ミ
ス、使用中にＮ２ボンベが空になる等の理由でＮ２が導
入されなかった場合、放電管６の周辺にＯ２が入り込
み、プラズマ放電の紫外線と反応して大量のオゾンが発
生し部屋中に充満し、危険である。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、放電管の外
側で発生したオゾンが作業部屋内に広がることを防止で
きるドライエッチング装置を提供することを目的とす
る。
［発明の構成］ （問題点を解決するための手段と作用） 本発明は放電管に導波管を介して高周波出力を印加する
ことによりプラズマを発生させ、これにより真空容器内
の被処理物のエッチングを行なうドライエッチング装置
において、 前記導波管に排気用ファンと排気用ダクトとから構成さ
れる排気機構を接続し、この排気機構により前記放電管
の外側で発生したオゾンを排気することを特徴とするド
ライエッチング装置である。
本発明により、オゾンが作業部屋に広がることを防止で
き、作業者の安全を確保できる。
（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明する。
但し、本発明に係るドライエッチング装置は第２図（従
来装置）と略同じであるため、同部材は同符号を付して
説明を省略し、要部のみを説明する。
図中の２１は導波管７の中途部に設けられた排気用ダク
トであり、このダクト２１には排気用ファン２２が連結
されている。このように排気用ダクト２１と排気用ファ
ン２２とから排気機構が構成され、これにより放電管の
外側で発生したオゾンが排気される。
上記実施例によれば、導波管７の中途部に排気用ダクト
２１と排気用ファン２２とからなる排気機構が設けられ
ているため、放電管６の外側でオゾンが発生しても排気
機構により排気される。従って、従来のようにＮ２を全
く使用する必要がなくなり、Ｎ２による作業部屋内の酸
欠や、部屋内にオゾンが充満することがなく、作業者の
安全を確保できる。
なお、上記実施例では、排気機構として排気用ファンと
排気用ダクトを用いた場合について述べたが、これに限
らず、排気用ダクトだけでも放電管の外側に発生したオ
ゾンをある程度排気できる。
［発明の効果］ 以上詳述した如く本発明によれば、放電管の外側で発生
したオゾンが作業部屋内に広がるのを防止し、もって作
業者の安全を確保できるドライエッチング装置を提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例に係るドライエッチング装置
の要部の断面図、第２図は従来のドライエッチング装置
の説明図、第３図は同装置の要部の断面図である。 １……真空容器、２……被処理物、３……載置台、４…
…ガス分散管、５……ガス導入管、６……放電管、７…
…導波管、８……高周波出力、９……ガス排出管、１０
……マニホールド、１１……マイクロ波発生器、２１…
…排気用ダクト、２２……排気用ファン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】放電管に導波管を介して高周波出力を印加
    することによりプラズマを発生させ、これにより真空容
    器内の被処理物のエッチングを行なうドライエッチング
    装置において、 前記導波管に排気用ファンと排気用ダクトとから構成さ
    れる排気機構を接続し、この排気機構により前記放電管
    の外側で発生したオゾンを排気することを特徴とするド
    ライエッチング装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS59103340A (ja) * 1983-09-21 1984-06-14 Hitachi Ltd プラズマ処理装置

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JPS6358832A (ja) 1988-03-14

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