JPH06246143A - 気体分離複合膜の製造方法 - Google Patents
気体分離複合膜の製造方法Info
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- JPH06246143A JPH06246143A JP5037648A JP3764893A JPH06246143A JP H06246143 A JPH06246143 A JP H06246143A JP 5037648 A JP5037648 A JP 5037648A JP 3764893 A JP3764893 A JP 3764893A JP H06246143 A JPH06246143 A JP H06246143A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 置換ポリジフェニルアセチレン本来の気体分
離性能、気体透過性能を妨げることなく、多孔質支持膜
に連続的に直接複数層積層可能な気体分離複合膜の製造
方法を提供する。 【構成】 気体分離複合膜の製造方法は、（化１）で示
される置換ポリジフェニルアセチレンと水面展開剤と接
着助剤とからなる気体分離膜溶液を水面展開し、溶媒を
蒸発させることで気体分離膜を形成させ、多孔質支持膜
と接触させることにより、気体分離膜を多孔質支持膜上
に一層以上積層させる。その上に同様にしてシロキサン
系高分子からなる気体分離膜を一層以上積層させる。 （式中のＲ1は、アルキル基またはトリアルキルシリル
基を、Ｒ2はハロゲン原子で置換されてもよいアルキル
基、トリアルキルシリル基またはハロゲン原子を示す。
ｎは４０〜４００００の整数を示す。）
離性能、気体透過性能を妨げることなく、多孔質支持膜
に連続的に直接複数層積層可能な気体分離複合膜の製造
方法を提供する。 【構成】 気体分離複合膜の製造方法は、（化１）で示
される置換ポリジフェニルアセチレンと水面展開剤と接
着助剤とからなる気体分離膜溶液を水面展開し、溶媒を
蒸発させることで気体分離膜を形成させ、多孔質支持膜
と接触させることにより、気体分離膜を多孔質支持膜上
に一層以上積層させる。その上に同様にしてシロキサン
系高分子からなる気体分離膜を一層以上積層させる。 （式中のＲ1は、アルキル基またはトリアルキルシリル
基を、Ｒ2はハロゲン原子で置換されてもよいアルキル
基、トリアルキルシリル基またはハロゲン原子を示す。
ｎは４０〜４００００の整数を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、混合気体中から特定の
気体を分離、濃縮するために有効な気体分離複合膜の製
造方法に関するものである。
気体を分離、濃縮するために有効な気体分離複合膜の製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、混合気体から特定の気体を分離濃
縮するのに選択的透過性を有する高分子膜を用いる方法
が盛んに研究、実用化されている。例えば、天然ガスか
らのヘリウム採取や、工場排気からの水素回収等がある
が、中でも大気中からの酸素を選択的に透過させて酸素
及び窒素富化空気を作る技術は応用分野が広く、各種化
学プロセス、燃焼システム、空調システム、医療、青果
物保存システム等、産業界に与える影響はきわめて大き
い。
縮するのに選択的透過性を有する高分子膜を用いる方法
が盛んに研究、実用化されている。例えば、天然ガスか
らのヘリウム採取や、工場排気からの水素回収等がある
が、中でも大気中からの酸素を選択的に透過させて酸素
及び窒素富化空気を作る技術は応用分野が広く、各種化
学プロセス、燃焼システム、空調システム、医療、青果
物保存システム等、産業界に与える影響はきわめて大き
い。
【０００３】このような技術に利用される気体分離膜と
して、一般に気体透過性に優れた高分子材料は、選択分
離性は低い。一方、高い選択分離性を有する高分子の材
料は気体透過性が小さい。このような材料を用いて実用
に供するためには、膜厚をできるだけ薄くすることによ
り、気体の透過速度の増大を図り、膜面積の縮小を図る
必要がある。この場合通常、薄膜の破損を防ぐためにこ
の薄膜を多孔質支持膜上に担持した複合膜として用いる
ようにしている。このような複合膜を連続製膜する技術
として、水面展開法により高分子材料の固体薄膜を形成
し、支持膜上に担持したようなものが、既に公知であ
る。
して、一般に気体透過性に優れた高分子材料は、選択分
離性は低い。一方、高い選択分離性を有する高分子の材
料は気体透過性が小さい。このような材料を用いて実用
に供するためには、膜厚をできるだけ薄くすることによ
り、気体の透過速度の増大を図り、膜面積の縮小を図る
必要がある。この場合通常、薄膜の破損を防ぐためにこ
の薄膜を多孔質支持膜上に担持した複合膜として用いる
ようにしている。このような複合膜を連続製膜する技術
として、水面展開法により高分子材料の固体薄膜を形成
し、支持膜上に担持したようなものが、既に公知であ
る。
【０００４】しかしながら、水面展開法における製膜方
法において、剛直な高分子物質ポリ（１−トリメチルシ
リル−１−プロピン）（以下、ＰＴＭＳＰと略す。）、
ポリ（４−メチルペンテン−１）、ポリフェニレンオキ
サイドなどの分離膜材料は、単独の薄膜を多孔質支持膜
に直接接着させることが難しいため、単独の薄膜を多孔
質支持膜に直接接着させる製膜方法の検討が種々なされ
ている。たとえば、多孔質支持膜上に接着層を積層し、
その上に剛直な高分子物質からなる薄膜を積層して複合
化するという報告（特開昭６０−１２１０４号公報）が
ある。
法において、剛直な高分子物質ポリ（１−トリメチルシ
リル−１−プロピン）（以下、ＰＴＭＳＰと略す。）、
ポリ（４−メチルペンテン−１）、ポリフェニレンオキ
サイドなどの分離膜材料は、単独の薄膜を多孔質支持膜
に直接接着させることが難しいため、単独の薄膜を多孔
質支持膜に直接接着させる製膜方法の検討が種々なされ
ている。たとえば、多孔質支持膜上に接着層を積層し、
その上に剛直な高分子物質からなる薄膜を積層して複合
化するという報告（特開昭６０−１２１０４号公報）が
ある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
剛直な高分子物質の薄膜を多孔質支持膜に直接接着させ
るために、多孔質支持膜上に接着層を設ける方法は、実
用に供するように接着層を厚く積層してしまうと、その
高分子物質本来の性能を妨げてしまうという問題があ
る。
剛直な高分子物質の薄膜を多孔質支持膜に直接接着させ
るために、多孔質支持膜上に接着層を設ける方法は、実
用に供するように接着層を厚く積層してしまうと、その
高分子物質本来の性能を妨げてしまうという問題があ
る。
【０００６】本発明は上記の課題を解決するもので、剛
直な高分子物質本来の気体分離性能、気体透過性能を妨
げることなく、剛直な高分子物質の薄膜を多孔質支持膜
に直接接着可能な気体分離複合膜の製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
直な高分子物質本来の気体分離性能、気体透過性能を妨
げることなく、剛直な高分子物質の薄膜を多孔質支持膜
に直接接着可能な気体分離複合膜の製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明は、（化２）で示される一置換もしくは二置
換ポリジフェニルアセチレンと水面展開剤と接着助剤と
からなる気体分離膜溶液を一定量、水面上に展開した
後、溶媒を蒸発させることによって第１の気体分離膜を
形成させ、前記第１の気体分離膜を多孔質支持膜と接触
させることにより前記第１の気体分離膜を多孔質支持膜
上に少なくとも一層以上積層させ、さらにシロキサン系
高分子からなる気体分離膜溶液を一定量、水面上に展開
した後、溶媒を蒸発させることによって第２の気体分離
膜を形成させ、前記第２の気体分離膜に前記第１の気体
分離膜を一層以上積層させた多孔質支持膜と接触させる
ことにより、前記第２の気体分離膜を、前記第１の気体
分離膜を一層以上積層させた多孔質支持膜上に少なくと
も一層以上積層させる構成としたものである。
めに本発明は、（化２）で示される一置換もしくは二置
換ポリジフェニルアセチレンと水面展開剤と接着助剤と
からなる気体分離膜溶液を一定量、水面上に展開した
後、溶媒を蒸発させることによって第１の気体分離膜を
形成させ、前記第１の気体分離膜を多孔質支持膜と接触
させることにより前記第１の気体分離膜を多孔質支持膜
上に少なくとも一層以上積層させ、さらにシロキサン系
高分子からなる気体分離膜溶液を一定量、水面上に展開
した後、溶媒を蒸発させることによって第２の気体分離
膜を形成させ、前記第２の気体分離膜に前記第１の気体
分離膜を一層以上積層させた多孔質支持膜と接触させる
ことにより、前記第２の気体分離膜を、前記第１の気体
分離膜を一層以上積層させた多孔質支持膜上に少なくと
も一層以上積層させる構成としたものである。
【０００８】
【化２】
【０００９】（式中のＲ1は、アルキル基またはトリア
ルキルシリル基を、Ｒ2はハロゲン原子で置換されても
よいアルキル基、トリアルキルシリル基またはハロゲン
原子を示す。ｎは４０〜４００００の整数を示す。）
ルキルシリル基を、Ｒ2はハロゲン原子で置換されても
よいアルキル基、トリアルキルシリル基またはハロゲン
原子を示す。ｎは４０〜４００００の整数を示す。）
【００１０】
【作用】上記構成により、（化２）で示される一置換も
しくは二置換ポリジフェニルアセチレンに水面展開剤と
接着助剤を加えることにより、水面展開剤が（化２）で
示される一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレ
ンからなる第１の気体分離膜の水面上での延伸性を向上
させるように作用し、また、接着助剤は（化２）で示さ
れる一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンか
らなる第１の気体分離膜の本来の性能を妨げることな
く、多孔質支持膜に直接接着を可能にするように作用す
る。
しくは二置換ポリジフェニルアセチレンに水面展開剤と
接着助剤を加えることにより、水面展開剤が（化２）で
示される一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレ
ンからなる第１の気体分離膜の水面上での延伸性を向上
させるように作用し、また、接着助剤は（化２）で示さ
れる一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンか
らなる第１の気体分離膜の本来の性能を妨げることな
く、多孔質支持膜に直接接着を可能にするように作用す
る。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例にて詳述するが、実施
例に限定されるものではない。
例に限定されるものではない。
【００１２】気体分離複合膜を形成するために用いた製
膜装置の基本的な構成を示す斜視図を図１に、その簡略
化した縦断面図を図２に示す。製膜装置は、水槽１と、
この水槽１に入れた水の水面に高分子材料の固体薄膜を
形成する固体薄膜形成手段２と、帯状の多孔質支持膜を
図１の矢印方向Ａに移動する移動手段３を備えている。
膜装置の基本的な構成を示す斜視図を図１に、その簡略
化した縦断面図を図２に示す。製膜装置は、水槽１と、
この水槽１に入れた水の水面に高分子材料の固体薄膜を
形成する固体薄膜形成手段２と、帯状の多孔質支持膜を
図１の矢印方向Ａに移動する移動手段３を備えている。
【００１３】固体薄膜形成手段２は、高分子材料を揮発
性溶媒に溶解させた高分子溶液を収納した溶液タンク４
と、水槽１の一側壁近傍の部位の水面近傍に吐出口５を
有する管と、溶液タンク４内の高分子溶液を管に供給す
るポンプ６とを備えている。また、移動手段３におい
て、多孔質支持膜は、供給リール７から繰り出されて、
案内ローラ８および製膜ローラ９によって水面近傍に導
かれ、この製膜ローラ９から巻取りリール１０に導かれ
て、この巻取りリール１０に巻回される。
性溶媒に溶解させた高分子溶液を収納した溶液タンク４
と、水槽１の一側壁近傍の部位の水面近傍に吐出口５を
有する管と、溶液タンク４内の高分子溶液を管に供給す
るポンプ６とを備えている。また、移動手段３におい
て、多孔質支持膜は、供給リール７から繰り出されて、
案内ローラ８および製膜ローラ９によって水面近傍に導
かれ、この製膜ローラ９から巻取りリール１０に導かれ
て、この巻取りリール１０に巻回される。
【００１４】吐出口５から高分子溶液を吐出し、水面に
展開して、高分子溶液中の揮発性溶媒を揮発させること
で、水面上に固体薄膜を形成させる。さらに、吐出口５
から高分子溶媒を連続的に吐出することで、水面上に固
体薄膜を連続的に形成させることができ、図２の矢印方
向Ｂに次々に形成された固体薄膜を送り出していく。送
り出された固体薄膜は製膜ローラ９部分で供給リール７
から繰り出されて、案内ローラ８および製膜ローラ９に
よって水面近傍に導かれた多孔質支持膜と接触し、多孔
質支持膜表面に固体薄膜が付着する。この複合膜は製膜
ローラ９から巻取りリール１０に導かれて、この巻取り
リール１０に巻回される。
展開して、高分子溶液中の揮発性溶媒を揮発させること
で、水面上に固体薄膜を形成させる。さらに、吐出口５
から高分子溶媒を連続的に吐出することで、水面上に固
体薄膜を連続的に形成させることができ、図２の矢印方
向Ｂに次々に形成された固体薄膜を送り出していく。送
り出された固体薄膜は製膜ローラ９部分で供給リール７
から繰り出されて、案内ローラ８および製膜ローラ９に
よって水面近傍に導かれた多孔質支持膜と接触し、多孔
質支持膜表面に固体薄膜が付着する。この複合膜は製膜
ローラ９から巻取りリール１０に導かれて、この巻取り
リール１０に巻回される。
【００１５】（実施例１）（化２）で示される一置換も
しくは二置換ポリジフェニルアセチレンのＲ1がトリメ
チルシリル基で置換されたポリ（１−（ｐ−トリメチル
シリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）を０．５
重量％、水面展開剤としてポリジターシャリーブチルフ
マレートを０．２０重量％、接着助剤としてフタル酸ジ
オクチル０．６重量％となるようにクロロブタン、シク
ロヘキサン、トルエン、テトラヒドロフランの有機溶媒
で調整した溶液を調製液とした。クロロブタン、シクロ
ヘキサン、トルエン、テトラヒドロフランそれぞれの重
量の割合は１５０：１０：８：５とした。次いで、シロ
キサン系高分子・商品名ＳＨ−４１０（東レ・ダウコー
ニング・シリコーン（株）製）とスチレンの共重合体を
３．７重量％、水面展開剤として、ポリジターシャリー
ブチルフマレートを０．１重量％となるようにクロロブ
タン、テトラヒドロフランの有機溶媒で調整した溶液を
調製液とした。クロロブタン、テトラヒドロフランそれ
ぞれの重量の割合は２０：１とした。
しくは二置換ポリジフェニルアセチレンのＲ1がトリメ
チルシリル基で置換されたポリ（１−（ｐ−トリメチル
シリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）を０．５
重量％、水面展開剤としてポリジターシャリーブチルフ
マレートを０．２０重量％、接着助剤としてフタル酸ジ
オクチル０．６重量％となるようにクロロブタン、シク
ロヘキサン、トルエン、テトラヒドロフランの有機溶媒
で調整した溶液を調製液とした。クロロブタン、シクロ
ヘキサン、トルエン、テトラヒドロフランそれぞれの重
量の割合は１５０：１０：８：５とした。次いで、シロ
キサン系高分子・商品名ＳＨ−４１０（東レ・ダウコー
ニング・シリコーン（株）製）とスチレンの共重合体を
３．７重量％、水面展開剤として、ポリジターシャリー
ブチルフマレートを０．１重量％となるようにクロロブ
タン、テトラヒドロフランの有機溶媒で調整した溶液を
調製液とした。クロロブタン、テトラヒドロフランそれ
ぞれの重量の割合は２０：１とした。
【００１６】ポリ（１−（ｐ−トリメチルシリルフェニ
ル）−２−フェニルアセチレン）からなる気体分離膜の
調製液を製膜装置の吐出口５から膜厚が０．００９μｍ
となるように一定の流量で水面上に展開し、溶媒を蒸発
させることによって、ポリ（１−（ｐ−トリメチルシリ
ルフェニル）−２−フェニルアセチレン）からなる気体
分離膜を形成させ、ポリエーテルスルホン多孔質支持膜
と接触させることにより、ポリエーテルスルホン多孔質
支持膜上にポリ（１−（ｐ−トリメチルシリルフェニ
ル）−２−フェニルアセチレン）からなる気体分離膜を
１層積層させる。
ル）−２−フェニルアセチレン）からなる気体分離膜の
調製液を製膜装置の吐出口５から膜厚が０．００９μｍ
となるように一定の流量で水面上に展開し、溶媒を蒸発
させることによって、ポリ（１−（ｐ−トリメチルシリ
ルフェニル）−２−フェニルアセチレン）からなる気体
分離膜を形成させ、ポリエーテルスルホン多孔質支持膜
と接触させることにより、ポリエーテルスルホン多孔質
支持膜上にポリ（１−（ｐ−トリメチルシリルフェニ
ル）−２−フェニルアセチレン）からなる気体分離膜を
１層積層させる。
【００１７】さらに、同じ操作を繰り返し行い、ポリエ
ーテルスルホン多孔質支持膜上にポリ（１−（ｐ−トリ
メチルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）か
らなる気体分離膜を１層積層させた複合膜上にポリ（１
−（ｐ−トリメチルシリルフェニル）−２−フェニルア
セチレン）からなる気体分離膜の２層目を積層させる。
ーテルスルホン多孔質支持膜上にポリ（１−（ｐ−トリ
メチルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）か
らなる気体分離膜を１層積層させた複合膜上にポリ（１
−（ｐ−トリメチルシリルフェニル）−２−フェニルア
セチレン）からなる気体分離膜の２層目を積層させる。
【００１８】次にシロキサン系高分子からなる気体分離
膜の調製液を製膜装置の吐出口５から、膜厚が０．００
６μｍとなるように一定の流量で、水面上に展開し、溶
媒を蒸発させることによって、シロキサン系高分子から
なる気体分離膜を形成させ、ポリ（１−（ｐ−トリメチ
ルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）からな
る気体分離膜を２層積層させたポリエーテルスルホン多
孔質支持膜と接触させることにより、ポリ（１−（ｐ−
トリメチルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレ
ン）からなる気体分離膜を２層積層させたポリエーテル
スルホン多孔質支持膜上にシロキサン系高分子からなる
気体分離膜を１層積層する。
膜の調製液を製膜装置の吐出口５から、膜厚が０．００
６μｍとなるように一定の流量で、水面上に展開し、溶
媒を蒸発させることによって、シロキサン系高分子から
なる気体分離膜を形成させ、ポリ（１−（ｐ−トリメチ
ルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）からな
る気体分離膜を２層積層させたポリエーテルスルホン多
孔質支持膜と接触させることにより、ポリ（１−（ｐ−
トリメチルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレ
ン）からなる気体分離膜を２層積層させたポリエーテル
スルホン多孔質支持膜上にシロキサン系高分子からなる
気体分離膜を１層積層する。
【００１９】さらに、同じ操作を繰り返し行い、ポリエ
ーテルスルホン多孔質支持膜上にポリ（１−（ｐ−トリ
メチルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）か
らなる気体分離膜を２層とシロキサン系高分子からなる
気体分離膜を１層積層させた複合膜上にシロキサン系高
分子からなる気体分離膜の２層目を積層して気体分離複
合膜を得た。初期性能を（表１）の実施例１に示す。
ーテルスルホン多孔質支持膜上にポリ（１−（ｐ−トリ
メチルシリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）か
らなる気体分離膜を２層とシロキサン系高分子からなる
気体分離膜を１層積層させた複合膜上にシロキサン系高
分子からなる気体分離膜の２層目を積層して気体分離複
合膜を得た。初期性能を（表１）の実施例１に示す。
【００２０】（実施例２）ポリ（１−（ｐ−トリメチル
シリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）に代え
て、（化２）で示された一置換もしくは二置換ポリジフ
ェニルアセチレンのＲ1がトリメチルシリル基、Ｒ2がフ
ッ素原子で置換されたポリ（１−（ｐ−トリメチルシリ
ルフェニル）−２−（ｐ−フルオロフェニル）アセチレ
ン）に置き換えた以外は実施例１と同様にして気体分離
複合膜を得た。初期性能を（表１）の実施例２に示す。
シリルフェニル）−２−フェニルアセチレン）に代え
て、（化２）で示された一置換もしくは二置換ポリジフ
ェニルアセチレンのＲ1がトリメチルシリル基、Ｒ2がフ
ッ素原子で置換されたポリ（１−（ｐ−トリメチルシリ
ルフェニル）−２−（ｐ−フルオロフェニル）アセチレ
ン）に置き換えた以外は実施例１と同様にして気体分離
複合膜を得た。初期性能を（表１）の実施例２に示す。
【００２１】ポリ（１−（ｐ−トリメチルシリルフェニ
ル）−２−フェニルアセチレン）に代えて、（化２）で
示された一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレ
ンのＲ1がｔ−ブチル基で置換されたポリ（１−（ｐ−
ｔ−ブチルフェニル）−２−フェニルアセチレン）に置
き換えた以外は実施例１と同様にして気体分離複合膜を
得た。初期性能を（表１）の実施例３に示す。
ル）−２−フェニルアセチレン）に代えて、（化２）で
示された一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレ
ンのＲ1がｔ−ブチル基で置換されたポリ（１−（ｐ−
ｔ−ブチルフェニル）−２−フェニルアセチレン）に置
き換えた以外は実施例１と同様にして気体分離複合膜を
得た。初期性能を（表１）の実施例３に示す。
【００２２】本実施例において多孔質支持膜層にポリエ
ーテルスルホンを用いたが、多孔質支持膜層は、従来か
ら気体分離膜、気体分離複合膜に通常用いられる多孔質
支持膜、多孔質支持体であれば、その種類を問わず用い
ることができる。たとえば、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレー
トなどの重合体から形成されるものが挙げられる。
ーテルスルホンを用いたが、多孔質支持膜層は、従来か
ら気体分離膜、気体分離複合膜に通常用いられる多孔質
支持膜、多孔質支持体であれば、その種類を問わず用い
ることができる。たとえば、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレー
トなどの重合体から形成されるものが挙げられる。
【００２３】多孔質支持膜の形状は平膜であれば、織
布、不織布などの支持体の上に多孔質支持膜を製膜した
ものでもよい。
布、不織布などの支持体の上に多孔質支持膜を製膜した
ものでもよい。
【００２４】また、接着助剤としてフタル酸ジオクチル
を用いたが、他のフタル酸エステル、たとえば、ジイソ
デシルフタレート、ジブチルフタレート等を用いても気
体分離膜材料本来の性能を妨げることなく、気体分離複
合膜を製造することができる。
を用いたが、他のフタル酸エステル、たとえば、ジイソ
デシルフタレート、ジブチルフタレート等を用いても気
体分離膜材料本来の性能を妨げることなく、気体分離複
合膜を製造することができる。
【００２５】接着助剤の量は、（化２）で示される一置
換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンの重量１に
対し０．５より少なくなるように添加した場合、（化
２）で示される一置換もしくは二置換ポリジフェニルア
セチレンからなる薄膜と多孔質支持膜との直接接着が困
難となる。また、３．０より多くなるように調整した場
合、（化２）で示される一置換もしくは二置換ポリジフ
ェニルアセチレン本来の特性、性能を変えてしまい、結
果として（化２）で示される一置換もしくは二置換ポリ
ジフェニルアセチレン本来の特性、性能を妨げてしま
う。したがって、接着助剤の量は、（化２）で示される
一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンの重量
１に対し０．５〜３．０が好ましい。
換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンの重量１に
対し０．５より少なくなるように添加した場合、（化
２）で示される一置換もしくは二置換ポリジフェニルア
セチレンからなる薄膜と多孔質支持膜との直接接着が困
難となる。また、３．０より多くなるように調整した場
合、（化２）で示される一置換もしくは二置換ポリジフ
ェニルアセチレン本来の特性、性能を変えてしまい、結
果として（化２）で示される一置換もしくは二置換ポリ
ジフェニルアセチレン本来の特性、性能を妨げてしま
う。したがって、接着助剤の量は、（化２）で示される
一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンの重量
１に対し０．５〜３．０が好ましい。
【００２６】また、水面展開剤として、ポリフマル酸エ
ステルを用いたが、リン酸エステル型陰イオン界面活性
剤を用いても良い。
ステルを用いたが、リン酸エステル型陰イオン界面活性
剤を用いても良い。
【００２７】また、保護層にシロキサン系高分子・商品
名ＳＨ−４１０（東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）製）とスチレンの共重合体を用いたが、速乾脱ア
ルコールタイプのシリコーン樹脂、剥離用に用いられる
シリコーン樹脂など用いても良い。
名ＳＨ−４１０（東レ・ダウコーニング・シリコーン
（株）製）とスチレンの共重合体を用いたが、速乾脱ア
ルコールタイプのシリコーン樹脂、剥離用に用いられる
シリコーン樹脂など用いても良い。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【発明の効果】以上のように本発明は（化２）で示され
る一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンと水
面展開剤と接着助剤からなる気体分離膜溶液を一定量、
水面上に展開した後、溶媒を蒸発させることによって第
１の気体分離膜を形成させ、前記第１の気体分離膜を多
孔質支持膜と接触させることにより前記第１の気体分離
膜を多孔質支持膜上に少なくとも一層以上積層させる。
さらにシロキサン系高分子からなる気体分離膜溶液を一
定量、水面上に展開した後、溶媒を蒸発させることによ
って第２の気体分離膜を形成させ、前記第２の気体分離
膜に前記第１の気体分離膜を一層以上積層させた多孔質
支持膜と接触させることにより、前記第２の気体分離膜
を、前記第１の気体分離膜を一層以上積層させた多孔質
支持膜上に少なくとも一層以上積層させる気体分離複合
膜の製造方法により、（化２）で示される一置換もしく
は二置換ポリジフェニルアセチレンと水面展開剤と接着
助剤からなる気体分離膜が接着層等を設けることなく、
（化２）で示される一置換もしくは二置換ポリジフェニ
ルアセチレン本来の性能を妨げることなく、多孔質支持
膜層に容易に直接複数層を積層でき、しかも連続製膜を
可能とする。
る一置換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンと水
面展開剤と接着助剤からなる気体分離膜溶液を一定量、
水面上に展開した後、溶媒を蒸発させることによって第
１の気体分離膜を形成させ、前記第１の気体分離膜を多
孔質支持膜と接触させることにより前記第１の気体分離
膜を多孔質支持膜上に少なくとも一層以上積層させる。
さらにシロキサン系高分子からなる気体分離膜溶液を一
定量、水面上に展開した後、溶媒を蒸発させることによ
って第２の気体分離膜を形成させ、前記第２の気体分離
膜に前記第１の気体分離膜を一層以上積層させた多孔質
支持膜と接触させることにより、前記第２の気体分離膜
を、前記第１の気体分離膜を一層以上積層させた多孔質
支持膜上に少なくとも一層以上積層させる気体分離複合
膜の製造方法により、（化２）で示される一置換もしく
は二置換ポリジフェニルアセチレンと水面展開剤と接着
助剤からなる気体分離膜が接着層等を設けることなく、
（化２）で示される一置換もしくは二置換ポリジフェニ
ルアセチレン本来の性能を妨げることなく、多孔質支持
膜層に容易に直接複数層を積層でき、しかも連続製膜を
可能とする。
【図１】本発明の一実施例における製膜装置の斜視図
【図２】本発明の一実施例における製膜装置の縦断面図
１ 水槽 ２ 固体薄膜形成手段 ３ 移動手段 ４ 溶液タンク ５ 吐出口 ６ ポンプ ７ 供給リール ８ 案内ローラ ９ 製膜ローラ １０ 巻取りリール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金治 克秀 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 （化１）で示される一置換もしくは二置
換ポリジフェニルアセチレンと水面展開剤と接着助剤と
からなる気体分離膜溶液を一定量、水面上に展開した
後、溶媒を蒸発させることによって第１の気体分離膜を
形成させ、前記第１の気体分離膜を多孔質支持膜と接触
させることにより前記第１の気体分離膜を多孔質支持膜
上に少なくとも一層以上積層させ、さらにシロキサン系
高分子からなる気体分離膜溶液を一定量、水面上に展開
した後、溶媒を蒸発させることによって第２の気体分離
膜を形成させ、前記第２の気体分離膜に前記第１の気体
分離膜を一層以上積層させた多孔質支持膜と接触させる
ことにより、前記第２の気体分離膜を、前記第１の気体
分離膜を一層以上積層させた多孔質支持膜上に少なくと
も一層以上積層させることを特徴とする気体分離複合膜
の製造方法。 【化１】 （式中のＲ1は、アルキル基またはトリアルキルシリル
基を、Ｒ2はハロゲン原子で置換されてもよいアルキル
基、トリアルキルシリル基またはハロゲン原子を示す。
ｎは４０〜４００００の整数を示す。） - 【請求項２】 水面展開剤がポリフマル酸エステルであ
る請求項１記載の気体分離複合膜の製造方法。 - 【請求項３】 水面展開剤がリン酸エステル型陰イオン
界面活性剤である請求項１記載の気体分離複合膜の製造
方法。 - 【請求項４】 接着助剤がフタル酸ジオクチルである請
求項１記載の気体分離複合膜の製造方法。 - 【請求項５】 接着助剤の量が（化１）で示される一置
換もしくは二置換ポリジフェニルアセチレンの重量１に
対し０．５〜３．０であることを特徴とする請求項１記
載の気体分離複合膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03764893A JP3278953B2 (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 気体分離複合膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03764893A JP3278953B2 (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 気体分離複合膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06246143A true JPH06246143A (ja) | 1994-09-06 |
| JP3278953B2 JP3278953B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=12503476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03764893A Expired - Fee Related JP3278953B2 (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 気体分離複合膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3278953B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011040348A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 空気電池 |
| JP2017164675A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 気体分離複合膜および気体分離モジュール |
-
1993
- 1993-02-26 JP JP03764893A patent/JP3278953B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011040348A (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 空気電池 |
| WO2011021569A1 (ja) * | 2009-08-18 | 2011-02-24 | 住友化学株式会社 | 空気電池 |
| US9337519B2 (en) | 2009-08-18 | 2016-05-10 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Air battery having an electrode and polymer film |
| JP2017164675A (ja) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 気体分離複合膜および気体分離モジュール |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3278953B2 (ja) | 2002-04-30 |
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