JPH06250018A - エッジフィルター - Google Patents
エッジフィルターInfo
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- JPH06250018A JPH06250018A JP5060947A JP6094793A JPH06250018A JP H06250018 A JPH06250018 A JP H06250018A JP 5060947 A JP5060947 A JP 5060947A JP 6094793 A JP6094793 A JP 6094793A JP H06250018 A JPH06250018 A JP H06250018A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高屈折率層としてＭｏＯ3 やＷＯ3 を含む層
を用い、従来の成膜装置に何ら改造を加えることなく蒸
発源からの輻射熱を低く抑える。 【構成】 基板上にＭｏＯ3 およびＷＯ3 の少なくとも
一方を含む高屈折率層と、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層
とを交互に積層する。
を用い、従来の成膜装置に何ら改造を加えることなく蒸
発源からの輻射熱を低く抑える。 【構成】 基板上にＭｏＯ3 およびＷＯ3 の少なくとも
一方を含む高屈折率層と、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層
とを交互に積層する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学部品のエッジフィ
ルターに関する。
ルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レンズやミラーおよびプリズム等
の光学部品に素材として合成樹脂製部品を用いる頻度が
高くなっている。合成樹脂製光学部品は、ガラス製光学
部品に比較して複雑形状化，低コスト化および軽量化を
図る事ができ、複雑な形状の光学部品の形成などではガ
ラス製のものよりも加工し易いという利点も有してい
る。
の光学部品に素材として合成樹脂製部品を用いる頻度が
高くなっている。合成樹脂製光学部品は、ガラス製光学
部品に比較して複雑形状化，低コスト化および軽量化を
図る事ができ、複雑な形状の光学部品の形成などではガ
ラス製のものよりも加工し易いという利点も有してい
る。
【０００３】ところで、合成樹脂製部品をエッジフィル
ターとして用いるためには、射出成形や切削等で合成樹
脂を加工した後、任意の表面にエッジフィルターとして
の光学薄膜のコーティングが要求される。また、ＣＣＤ
等の光学デバイス上や、あるいはこれにガラス等を接合
した光学部品にエッジフィルターを設けるという要求も
近年増加しつつあり、この場合も任意の表面にエッジフ
ィルターとしての光学薄膜のコーティングが要求され
る。
ターとして用いるためには、射出成形や切削等で合成樹
脂を加工した後、任意の表面にエッジフィルターとして
の光学薄膜のコーティングが要求される。また、ＣＣＤ
等の光学デバイス上や、あるいはこれにガラス等を接合
した光学部品にエッジフィルターを設けるという要求も
近年増加しつつあり、この場合も任意の表面にエッジフ
ィルターとしての光学薄膜のコーティングが要求され
る。
【０００４】従来、ガラス基板上にエッジフィルターを
設ける場合、一般に特開昭６１−２９６３０５号公報記
載の発明やあるいは特開平３−１９７９０１号公報記載
の発明に示されるように、設計波長をλとしてＴｉＯ2
高屈折率層とＳｉＯ2 低屈折率層とを真空蒸着などの方
法で積層した構成がとられ、それぞれの光学的膜厚がλ
／４の層を基本とし、λ／４の周期構造の前後にλ／４
以外の膜厚を持つ層を光学性能の調整層、つまり分光特
性上のリップルを減らすための層として１層以上持つよ
うな構造になっている。
設ける場合、一般に特開昭６１−２９６３０５号公報記
載の発明やあるいは特開平３−１９７９０１号公報記載
の発明に示されるように、設計波長をλとしてＴｉＯ2
高屈折率層とＳｉＯ2 低屈折率層とを真空蒸着などの方
法で積層した構成がとられ、それぞれの光学的膜厚がλ
／４の層を基本とし、λ／４の周期構造の前後にλ／４
以外の膜厚を持つ層を光学性能の調整層、つまり分光特
性上のリップルを減らすための層として１層以上持つよ
うな構造になっている。
【０００５】一方、樹脂製光学部品の光学多層膜として
は、主に反射防止膜に関するものが多く提案されてお
り、例えば特開昭６２−１９１８０１号公報に開示され
ているような反射防止膜が知られている。これは、空気
側から樹脂製基板側へ順にＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，ＳｉＯまたはＳｉＯ2 という４層構成か
らなるものである。
は、主に反射防止膜に関するものが多く提案されてお
り、例えば特開昭６２−１９１８０１号公報に開示され
ているような反射防止膜が知られている。これは、空気
側から樹脂製基板側へ順にＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ＋ＴｉＯ
2 ，ＺｒＯ2 ，ＳｉＯまたはＳｉＯ2 という４層構成か
らなるものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】エッジフィルターとし
ての充分な光学性能を得るためには、低屈折率物質と高
屈折率物質とを交互に組み合わせた多層膜構成とする必
要がある。高屈折率物質としては、前記従来技術にみら
れるＴｉＯ2 やＺｒＯ2 が用いられる場合が多い。しか
しながら、ＴｉＯ2 やＺｒＯ2 等は融点が高く、通常の
ガラス基板上に反射防止膜を形成する場合と同じ装置の
セッティング方法では蒸発源からの輻射熱の影響でプラ
スチック基板が加熱され、基板の表面がダメージを受け
て膜の密着性が劣化したり、あるいは、光学部品にとっ
て最も重要である面精度を劣化させる恐れがある。
ての充分な光学性能を得るためには、低屈折率物質と高
屈折率物質とを交互に組み合わせた多層膜構成とする必
要がある。高屈折率物質としては、前記従来技術にみら
れるＴｉＯ2 やＺｒＯ2 が用いられる場合が多い。しか
しながら、ＴｉＯ2 やＺｒＯ2 等は融点が高く、通常の
ガラス基板上に反射防止膜を形成する場合と同じ装置の
セッティング方法では蒸発源からの輻射熱の影響でプラ
スチック基板が加熱され、基板の表面がダメージを受け
て膜の密着性が劣化したり、あるいは、光学部品にとっ
て最も重要である面精度を劣化させる恐れがある。
【０００７】これは、特に熱に弱いアクリル樹脂（ＰＭ
ＭＡ）を基板に用いた場合に顕著である。その対策とし
ては、蒸発源から基板までの距離を長くしたり、蒸発源
と基板との間に遮蔽板を設けて蒸発源からの輻射熱の影
響を少なくする方法が考えられる。しかし、上記方法は
いずれも成膜装置の大幅な改造が必要となるため、従来
のガラス基板上へのエッジフィルターを形成するための
装置としてそのまま使用する事ができないという不具合
がある。
ＭＡ）を基板に用いた場合に顕著である。その対策とし
ては、蒸発源から基板までの距離を長くしたり、蒸発源
と基板との間に遮蔽板を設けて蒸発源からの輻射熱の影
響を少なくする方法が考えられる。しかし、上記方法は
いずれも成膜装置の大幅な改造が必要となるため、従来
のガラス基板上へのエッジフィルターを形成するための
装置としてそのまま使用する事ができないという不具合
がある。
【０００８】また、前記従来技術によるエッジフィルタ
ーは、ヒートサイクルに弱くクラックが発生しやすいと
いう欠点もあった。これらの欠点は、基板が合成樹脂以
外の、例えばＣＣＤ等の光学部品あるいはそれとガラス
等を接合したものにも同様である。すなわち、ＣＣＤ等
の半導体デバイスでは、高い熱によつてデバイスそれ自
体が破壊されるため、蒸発源からの輻射熱の影響の少な
い成膜が要求される。
ーは、ヒートサイクルに弱くクラックが発生しやすいと
いう欠点もあった。これらの欠点は、基板が合成樹脂以
外の、例えばＣＣＤ等の光学部品あるいはそれとガラス
等を接合したものにも同様である。すなわち、ＣＣＤ等
の半導体デバイスでは、高い熱によつてデバイスそれ自
体が破壊されるため、蒸発源からの輻射熱の影響の少な
い成膜が要求される。
【０００９】因って、本発明は前記従来技術における欠
点に鑑みてなされたものであり、合成樹脂製基板やＣＣ
Ｄ等の光学部品あるいはそれとガラス等を接合したもの
を基板としても密着性が高く、基板の面精度を劣化させ
ず、また基板へ熱によるダメージを与えること無く従来
の装置を用いて容易に成膜することができ、したがって
生産性も良く、耐久性、特に対ヒートサイクル性の優れ
たエッジフィルターを提供することを目的とする。
点に鑑みてなされたものであり、合成樹脂製基板やＣＣ
Ｄ等の光学部品あるいはそれとガラス等を接合したもの
を基板としても密着性が高く、基板の面精度を劣化させ
ず、また基板へ熱によるダメージを与えること無く従来
の装置を用いて容易に成膜することができ、したがって
生産性も良く、耐久性、特に対ヒートサイクル性の優れ
たエッジフィルターを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段および作用】本発明は、基
板上にＭｏＯ3 およびＷＯ3 の内の少なくともいずれか
一方を含む物質からなる高屈折率層と、ＳｉＯ2 からな
る低屈折率層とを交互に積層した構造によって多層膜エ
ッジフィルターを構成した。
板上にＭｏＯ3 およびＷＯ3 の内の少なくともいずれか
一方を含む物質からなる高屈折率層と、ＳｉＯ2 からな
る低屈折率層とを交互に積層した構造によって多層膜エ
ッジフィルターを構成した。
【００１１】すなわち、蒸発源からの輻射熱の低い材料
を用いることができれば、基板の表面が加熱によるダメ
ージを受けて膜の密着性が劣化したり、面精度が劣化す
る恐れが無い。このような材料としては、ＭｏＯ3 やＷ
Ｏ3 などを挙げることができる。従来、ＭｏＯ3 やＷＯ
3 は光学薄膜材料としてほとんど注目されていなかった
材料であるが、完全に酸化した状態であれば光の吸収も
なく、屈折率は１．８５〜２．１程度（成膜条件によっ
て変化する）である。したがって、ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 を
高屈折率物質として使用し、エッジフィルターを形成す
ることが可能である。
を用いることができれば、基板の表面が加熱によるダメ
ージを受けて膜の密着性が劣化したり、面精度が劣化す
る恐れが無い。このような材料としては、ＭｏＯ3 やＷ
Ｏ3 などを挙げることができる。従来、ＭｏＯ3 やＷＯ
3 は光学薄膜材料としてほとんど注目されていなかった
材料であるが、完全に酸化した状態であれば光の吸収も
なく、屈折率は１．８５〜２．１程度（成膜条件によっ
て変化する）である。したがって、ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 を
高屈折率物質として使用し、エッジフィルターを形成す
ることが可能である。
【００１２】ここで基板とは、アクリル，ポリカーボネ
ート，アモルファスポリオレフィン，ＣＲ−３９および
エネルギー硬化型樹脂等の合成樹脂や、ＣＣＤ等の高温
にさらされないことが要求される光学デバイスや光学部
材、あるいはこれらにガラスなどを接合したもの等を含
む。また、多層膜の形成には、真空蒸着法やスパッタリ
ング法等のいずれの手法を用いることも可能である。
ート，アモルファスポリオレフィン，ＣＲ−３９および
エネルギー硬化型樹脂等の合成樹脂や、ＣＣＤ等の高温
にさらされないことが要求される光学デバイスや光学部
材、あるいはこれらにガラスなどを接合したもの等を含
む。また、多層膜の形成には、真空蒸着法やスパッタリ
ング法等のいずれの手法を用いることも可能である。
【００１３】
【実施例１】図１は本実施例を示すグラフである。本実
施例では、４００ｎｍから５２０ｎｍの波長域の透過光
をカットし、５５０ｎｍから７００ｎｍの波長域を透過
するようなハイパスフィルターを構成した。
施例では、４００ｎｍから５２０ｎｍの波長域の透過光
をカットし、５５０ｎｍから７００ｎｍの波長域を透過
するようなハイパスフィルターを構成した。
【００１４】真空槽内に厚さ１ｍｍのアクリル製基板を
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ハイパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＭｏＯ3 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
１に示す。
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ハイパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＭｏＯ3 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
１に示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】また、本実施例のハイパスフィルターの分
光透過率特性を図１に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図１に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
光透過率特性を図１に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図１に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
【００１７】
【実施例２】図２は本実施例を示すグラフである。本実
施例では、４００ｎｍから４８０ｎｍの波長域の透過光
をカットし、５２０ｎｍから７００ｎｍの波長域を透過
するようなハイパスフィルターを構成した。
施例では、４００ｎｍから４８０ｎｍの波長域の透過光
をカットし、５２０ｎｍから７００ｎｍの波長域を透過
するようなハイパスフィルターを構成した。
【００１８】真空槽内に厚さ１ｍｍのアクリル製基板を
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ハイパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＷＯ3 とＡｌ2 Ｏ
3 との混合物（混合比は重量比で９５：５）、低屈折率
層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて成
膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表２
に示す。
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ハイパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＷＯ3 とＡｌ2 Ｏ
3 との混合物（混合比は重量比で９５：５）、低屈折率
層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて成
膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表２
に示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】また、本実施例のハイパスフィルターの分
光透過率特性を図２に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図２に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
光透過率特性を図２に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図２に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
【００２１】
【実施例３】図３は本実施例を示すグラフである。本実
施例では、４００ｎｍから４７０ｎｍの波長域及び５８
０ｎｍから７００ｎｍの波長域の透過光をカットし、５
２０ｎｍから５７０ｎｍの波長域を透過するようなバン
ドパスフィルターを構成した。バンドパスフィルターの
材料としては、高屈折率層にＭｏＯ3 、低屈折率層にＳ
ｉＯ2 を用いる。
施例では、４００ｎｍから４７０ｎｍの波長域及び５８
０ｎｍから７００ｎｍの波長域の透過光をカットし、５
２０ｎｍから５７０ｎｍの波長域を透過するようなバン
ドパスフィルターを構成した。バンドパスフィルターの
材料としては、高屈折率層にＭｏＯ3 、低屈折率層にＳ
ｉＯ2 を用いる。
【００２２】真空槽内に厚さ１ｍｍのアクリル製基板を
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。それぞれ電子
ビーム蒸着法にて成膜してまず第１面に３２層のハイパ
スフィルターを形成する。次に成膜後に取り出したアク
リル製基板の表裏を反転して再び真空槽内に固定し、同
様に成膜して第２面に３２層のローパスフィルターを成
膜する。多層膜の構成を表３に示す。
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。それぞれ電子
ビーム蒸着法にて成膜してまず第１面に３２層のハイパ
スフィルターを形成する。次に成膜後に取り出したアク
リル製基板の表裏を反転して再び真空槽内に固定し、同
様に成膜して第２面に３２層のローパスフィルターを成
膜する。多層膜の構成を表３に示す。
【００２３】
【表３】
【００２４】また、本実施例のバンドパスフィルターの
分光透過率特性を図３に示す。このようにして形成され
たフィルターの分光透過率は図３に示すように充分な特
性を有しており、密着性も良好であった。また、ヒート
サイクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られ
なかった。
分光透過率特性を図３に示す。このようにして形成され
たフィルターの分光透過率は図３に示すように充分な特
性を有しており、密着性も良好であった。また、ヒート
サイクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られ
なかった。
【００２５】
【実施例４】図４は本実施例を示すグラフである。本実
施例では、４００ｎｍから５７０ｎｍの波長域を透過
し、５９０ｎｍから７００ｎｍの波長域の透過光をカッ
トするようなローパスフィルターを構成した。
施例では、４００ｎｍから５７０ｎｍの波長域を透過
し、５９０ｎｍから７００ｎｍの波長域の透過光をカッ
トするようなローパスフィルターを構成した。
【００２６】真空槽内に厚さ１ｍｍのアクリル製基板を
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ローパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＭｏＯ3 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
４に示す。
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ローパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＭｏＯ3 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
４に示す。
【００２７】
【表４】
【００２８】また、本実施例のローパスフィルターの分
光透過率特性を図４に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図４に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
光透過率特性を図４に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図４に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
【００２９】
【実施例５】図５は本実施例を示すグラフである。本実
施例では、４００ｎｍから５５０ｎｍの波長域を透過
し、５７０ｎｍから７００ｎｍの波長域の透過光をカッ
トするようなローパスフィルターを構成した。ローパス
フィルターの材料としては、高屈折率層にＷＯ3 、低屈
折率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれマグネトロンスパッ
タリング法にて成膜して３２層の多層膜を形成する。
施例では、４００ｎｍから５５０ｎｍの波長域を透過
し、５７０ｎｍから７００ｎｍの波長域の透過光をカッ
トするようなローパスフィルターを構成した。ローパス
フィルターの材料としては、高屈折率層にＷＯ3 、低屈
折率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれマグネトロンスパッ
タリング法にて成膜して３２層の多層膜を形成する。
【００３０】真空槽内に厚さ１ｍｍのアモルファポリス
オレフィン製基板を固定し、真空槽の中をターボモレキ
ュラーポンプを用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気す
る。次に、真空槽内に５×１０-3Ｔｏｒｒの圧力になる
までアルゴンガスを導入し、多層膜を成膜する。多層膜
の構成を表５に示す。
オレフィン製基板を固定し、真空槽の中をターボモレキ
ュラーポンプを用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気す
る。次に、真空槽内に５×１０-3Ｔｏｒｒの圧力になる
までアルゴンガスを導入し、多層膜を成膜する。多層膜
の構成を表５に示す。
【００３１】
【表５】
【００３２】また、本実施例のローパスフィルターの分
光透過率特性を図５に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図５に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
光透過率特性を図５に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図５に示すように充分な特性
を有しており、密着性も良好であった。また、ヒートサ
イクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見られな
かった。
【００３３】
【実施例６】図６は本実施例を示すグラフである。本実
施例では、４００ｎｍから７００ｎｍの波長域を透過
し、８００ｎｍから１１００ｎｍの波長域の透過光をカ
ットするような赤外線カットフィルターを構成した。
施例では、４００ｎｍから７００ｎｍの波長域を透過
し、８００ｎｍから１１００ｎｍの波長域の透過光をカ
ットするような赤外線カットフィルターを構成した。
【００３４】真空槽内に基板としてＣＣＤを受光面に成
膜できるように固定し、真空槽の中をオイルディフュー
ジョンポンプを用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気す
る。赤外線カットフィルターの材料としては、高屈折率
層にＭｏＯ3 、低屈折率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ
電子ビーム蒸着法にて成膜して３２層の多層膜を形成す
る。多層膜の構成を表６に示す。
膜できるように固定し、真空槽の中をオイルディフュー
ジョンポンプを用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気す
る。赤外線カットフィルターの材料としては、高屈折率
層にＭｏＯ3 、低屈折率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ
電子ビーム蒸着法にて成膜して３２層の多層膜を形成す
る。多層膜の構成を表６に示す。
【００３５】
【表６】
【００３６】また、本実施例の赤外線カットフィルター
の分光透過率特性を図６に示す。このようにして形成さ
れたフィルターの分光透過率は図６に示すように充分な
特性を有しており、密着性も良好であった。また、ヒー
トサイクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見ら
れなかった。
の分光透過率特性を図６に示す。このようにして形成さ
れたフィルターの分光透過率は図６に示すように充分な
特性を有しており、密着性も良好であった。また、ヒー
トサイクルによるクラックの発生や密着性の劣化も見ら
れなかった。
【００３７】［比較例１］図７は本発明の比較例１を示
すグラフである。本発明の比較例１では、４００ｎｍか
ら４８０ｎｍの波長域の透過光をカットし、５００ｎｍ
から７００ｎｍの波長域を透過するようなハイパスフィ
ルターを構成した。
すグラフである。本発明の比較例１では、４００ｎｍか
ら４８０ｎｍの波長域の透過光をカットし、５００ｎｍ
から７００ｎｍの波長域を透過するようなハイパスフィ
ルターを構成した。
【００３８】真空槽内に厚さ１ｍｍのアクリル製基板を
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ハイパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＴｉＯ2 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
７に示す。
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ハイパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＴｉＯ2 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
７に示す。
【００３９】
【表７】
【００４０】また、本実施例のハイパスフィルターの分
光透過率特性を図７に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図７に示すように充分な特性
を有しているものの、テープ剥離テストによる密着強度
試験で剥離がみられた。また、１０サイクルのヒートサ
イクルによるクラックの発生が見られた。
光透過率特性を図７に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図７に示すように充分な特性
を有しているものの、テープ剥離テストによる密着強度
試験で剥離がみられた。また、１０サイクルのヒートサ
イクルによるクラックの発生が見られた。
【００４１】［比較例２］図８は本発明の比較例２を示
すグラフである。本発明の比較例２では、４００ｎｍか
ら５５０ｎｍの波長域を透過し、５７０ｎｍから７００
ｎｍの波長域の透過光をカットするようなローパスフィ
ルターを構成した。
すグラフである。本発明の比較例２では、４００ｎｍか
ら５５０ｎｍの波長域を透過し、５７０ｎｍから７００
ｎｍの波長域の透過光をカットするようなローパスフィ
ルターを構成した。
【００４２】真空槽内に厚さ１ｍｍのアクリル製基板を
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ローパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＴｉＯ2 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
８に示す。
固定し、真空槽の中をオイルディフュージョンポンプを
用いて５×１０-5Ｔｏｒｒまで排気する。ローパスフィ
ルターの材料としては、高屈折率層にＴｉＯ2 、低屈折
率層にＳｉＯ2 を用い、それぞれ電子ビーム蒸着法にて
成膜して３２層の多層膜を形成する。多層膜の構成を表
８に示す。
【００４３】
【表８】
【００４４】また、本実施例のローパスフィルターの分
光透過率特性を図８に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図８に示すように充分な特性
を有しているものの、テープ剥離テストによる密着強度
試験で剥離がみられた。また、１０サイクルのヒートサ
イクルによるクラックの発生が見られた。
光透過率特性を図８に示す。このようにして形成された
フィルターの分光透過率は図８に示すように充分な特性
を有しているものの、テープ剥離テストによる密着強度
試験で剥離がみられた。また、１０サイクルのヒートサ
イクルによるクラックの発生が見られた。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るエッ
ジフィルターによれば、高屈折率層としてＭｏＯ3 やＷ
Ｏ3 を含む層を用いたことにより、従来の成膜装置に何
ら改造を加えることなく蒸発源からの輻射熱を低く抑え
ることができ、基板の熱やダメージによる膜の密着性劣
化や面精度の劣化、あるいはデバイスとしての性能の劣
化が生じることがなく、かつ生産性も良い。また、耐久
性、特に対ヒートサイクル性能にも優れる。
ジフィルターによれば、高屈折率層としてＭｏＯ3 やＷ
Ｏ3 を含む層を用いたことにより、従来の成膜装置に何
ら改造を加えることなく蒸発源からの輻射熱を低く抑え
ることができ、基板の熱やダメージによる膜の密着性劣
化や面精度の劣化、あるいはデバイスとしての性能の劣
化が生じることがなく、かつ生産性も良い。また、耐久
性、特に対ヒートサイクル性能にも優れる。
【図１】実施例１を示すグラフである。
【図２】実施例２を示すグラフである。
【図３】実施例３を示すグラフである。
【図４】実施例４を示すグラフである。
【図５】実施例５を示すグラフである。
【図６】実施例６を示すグラフである。
【図７】比較例１を示すグラフである。
【図８】比較例２を示すグラフである。
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上にＭｏＯ3 およびＷＯ3 の内の少
なくともいずれか一方を含んだ物質からなる高屈折率層
と、ＳｉＯ2 からなる低屈折率層とを交互に積層した構
造を有することを特徴とするエッジフィルター。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5060947A JPH06250018A (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | エッジフィルター |
| US08/831,064 US5825549A (en) | 1993-01-29 | 1997-04-01 | Optical thin film for optical element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5060947A JPH06250018A (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | エッジフィルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06250018A true JPH06250018A (ja) | 1994-09-09 |
Family
ID=13157099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5060947A Withdrawn JPH06250018A (ja) | 1993-01-29 | 1993-02-25 | エッジフィルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06250018A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501766A (ja) * | 2003-08-13 | 2007-02-01 | サン−ゴバン グラス フランス | 反射防止膜を含む透明基板 |
-
1993
- 1993-02-25 JP JP5060947A patent/JPH06250018A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501766A (ja) * | 2003-08-13 | 2007-02-01 | サン−ゴバン グラス フランス | 反射防止膜を含む透明基板 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000509 |