JPH07287103A - ガラス製光学部品 - Google Patents
ガラス製光学部品Info
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- JPH07287103A JPH07287103A JP6104854A JP10485494A JPH07287103A JP H07287103 A JPH07287103 A JP H07287103A JP 6104854 A JP6104854 A JP 6104854A JP 10485494 A JP10485494 A JP 10485494A JP H07287103 A JPH07287103 A JP H07287103A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス基板を加熱することなく光学薄膜をガ
ラス基板上に形成する。 【構成】 基板側から第１層目を光学薄膜厚が２ｎｍ以
上のシリコン系酸化物層とし、第２層以降に真空蒸着法
により形成されたＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少なくとも
いずれか一方の物質を含む層を少なくとも一層含むよう
に構成した。ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 はシリコン系酸化物と密
着性が良く、ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 の蒸着にあたって基板加
熱を必要としない。
ラス基板上に形成する。 【構成】 基板側から第１層目を光学薄膜厚が２ｎｍ以
上のシリコン系酸化物層とし、第２層以降に真空蒸着法
により形成されたＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少なくとも
いずれか一方の物質を含む層を少なくとも一層含むよう
に構成した。ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 はシリコン系酸化物と密
着性が良く、ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 の蒸着にあたって基板加
熱を必要としない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空蒸着法を用いて多
層膜よりなる反射防止膜あるいはフィルターを設けたガ
ラス製光学部品に関する。
層膜よりなる反射防止膜あるいはフィルターを設けたガ
ラス製光学部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりガラス製光学部品の表面に多層
膜からなる反射防止膜やフィルターを蒸着する提案は数
多くなされている。かかる反射防止膜やフィルターの成
膜は、例えば特公昭６４−８８０１号公報や特開平２−
２３４１０２号公報に記載されるように、一般に光学部
品に積層する膜の光学部品に対する密着性を十分なもの
にするため、基板（光学部品）を２００℃以上に加熱し
た状態で真空蒸着によりおこなわれている。
膜からなる反射防止膜やフィルターを蒸着する提案は数
多くなされている。かかる反射防止膜やフィルターの成
膜は、例えば特公昭６４−８８０１号公報や特開平２−
２３４１０２号公報に記載されるように、一般に光学部
品に積層する膜の光学部品に対する密着性を十分なもの
にするため、基板（光学部品）を２００℃以上に加熱し
た状態で真空蒸着によりおこなわれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ガラス製光学
部品（基板）に多層膜よりなる反射防止膜あるいはフィ
ルターを真空蒸着法により形成する際、上記従来技術の
公報に示すように、基板加熱を行わないと、膜の十分な
耐久性や所望の屈折率を得ることができない。このよう
に基板加熱を行うと、基板を真空蒸着装置内にセットし
た後、真空蒸着による成膜の前後において基板の加熱、
冷却時間が必要となり、その時間は加熱、冷却にそれぞ
れ少なくとも３０分を要し、生産性が悪くなるという問
題があった。
部品（基板）に多層膜よりなる反射防止膜あるいはフィ
ルターを真空蒸着法により形成する際、上記従来技術の
公報に示すように、基板加熱を行わないと、膜の十分な
耐久性や所望の屈折率を得ることができない。このよう
に基板加熱を行うと、基板を真空蒸着装置内にセットし
た後、真空蒸着による成膜の前後において基板の加熱、
冷却時間が必要となり、その時間は加熱、冷却にそれぞ
れ少なくとも３０分を要し、生産性が悪くなるという問
題があった。
【０００４】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、真空蒸着をする際に基板（ガラス製光学部品）
を無加熱の状態とし、生産性良く十分な耐久性と光学特
性を有する多層膜よりなる反射防止膜あるいはフィルタ
ーを成膜したガラス製光学部品を提供することを目的と
する。
であり、真空蒸着をする際に基板（ガラス製光学部品）
を無加熱の状態とし、生産性良く十分な耐久性と光学特
性を有する多層膜よりなる反射防止膜あるいはフィルタ
ーを成膜したガラス製光学部品を提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のガラス製光学部品は、蒸発源からの輻射熱
の低い高屈折率材料としてＭｏＯ3 、ＷＯ3 を使用し、
抵抗加熱法、電子線加熱法等の一般的な真空蒸着法によ
り表面にＭｏＯ3 層、ＷＯ3 層を成膜して構成した。
に、本発明のガラス製光学部品は、蒸発源からの輻射熱
の低い高屈折率材料としてＭｏＯ3 、ＷＯ3 を使用し、
抵抗加熱法、電子線加熱法等の一般的な真空蒸着法によ
り表面にＭｏＯ3 層、ＷＯ3 層を成膜して構成した。
【０００６】すなわち、請求項１のガラス製光学部品
は、基板側から第１層目を光学的膜厚が２ｎｍ以上のシ
リコン酸化物層とし、第２層以降に真空蒸着法により形
成されたＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少なくともいずれか
一方の物質を含む層を少なくとも一層含むように構成し
てなる反射防止膜あるいはフィルターを設けて構成し
た。
は、基板側から第１層目を光学的膜厚が２ｎｍ以上のシ
リコン酸化物層とし、第２層以降に真空蒸着法により形
成されたＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少なくともいずれか
一方の物質を含む層を少なくとも一層含むように構成し
てなる反射防止膜あるいはフィルターを設けて構成し
た。
【０００７】また、請求項２のガラス製光学部品は、最
表層に撥水効果を有する層を設けてなる反射防止膜ある
いはフィルターを成膜して構成した。
表層に撥水効果を有する層を設けてなる反射防止膜ある
いはフィルターを成膜して構成した。
【０００８】さらに、請求項３のガラス製光学部品は、
真空蒸着法により形成されたＭｏＯ 3 あるいはＷＯ3 の
少なくとも一方の物質を含む層を高屈折率層とし、真空
蒸着法により形成されたＳｉＯ2 層を低屈折率層として
構成してなる反射防止膜あるいはフィルターを設けた。
真空蒸着法により形成されたＭｏＯ 3 あるいはＷＯ3 の
少なくとも一方の物質を含む層を高屈折率層とし、真空
蒸着法により形成されたＳｉＯ2 層を低屈折率層として
構成してなる反射防止膜あるいはフィルターを設けた。
【０００９】
（請求項１，３の作用）ＭｏＯ3 およびＷＯ3 は従来、
反射防止膜やフィルターの光学薄膜用材料としてはほと
んど注目されていなかった材料である。ＭｏＯ3 および
ＷＯ3 は、低いエネルギーで容易に蒸発させることがで
きる材料であり蒸発源からの輻射熱を低く抑えることが
できるため、熱によるダメージを基板に与えることがな
い。また、従来において良く用いられているＣｅＯ2 及
びＺｎＳよりも傷つきにくく、比較的耐湿性も高い。さ
らに、完全に酸化した状態であれば可視域で光の吸収も
ほとんどなく、屈折率は１．８５〜２．１程度（成膜条
件によって変化する）である。したがって、ＭｏＯ3 ，
ＷＯ3 を高屈折率物質として使用し、充分な性能を有す
る反射防止膜やフィルター（以下、両者を含めて光学薄
膜ともいう。）を形成することが可能である。
反射防止膜やフィルターの光学薄膜用材料としてはほと
んど注目されていなかった材料である。ＭｏＯ3 および
ＷＯ3 は、低いエネルギーで容易に蒸発させることがで
きる材料であり蒸発源からの輻射熱を低く抑えることが
できるため、熱によるダメージを基板に与えることがな
い。また、従来において良く用いられているＣｅＯ2 及
びＺｎＳよりも傷つきにくく、比較的耐湿性も高い。さ
らに、完全に酸化した状態であれば可視域で光の吸収も
ほとんどなく、屈折率は１．８５〜２．１程度（成膜条
件によって変化する）である。したがって、ＭｏＯ3 ，
ＷＯ3 を高屈折率物質として使用し、充分な性能を有す
る反射防止膜やフィルター（以下、両者を含めて光学薄
膜ともいう。）を形成することが可能である。
【００１０】なお、ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 を用いた光学薄膜
を構成する場合、両者ともガラス基板との密着性が悪
く、直接ガラス基板上に成膜するとテープ剥離試験で剥
離してしまう。ところが、シリコン酸化物層を２ｎｍ以
上ガラス基板表面に成膜し、この酸化物層の上にＭｏＯ
3 ，ＷＯ3 を用いた光学薄膜を設けるとテープ剥離試験
で剥離しないことを見い出した。しかし、ガラス基板表
面に成膜するシリコン酸化物層の膜厚が２ｎｍ未満で
は、その上に成膜したＭｏＯ3 ，ＷＯ3 膜が十分な密着
力を有しないことを確認した。
を構成する場合、両者ともガラス基板との密着性が悪
く、直接ガラス基板上に成膜するとテープ剥離試験で剥
離してしまう。ところが、シリコン酸化物層を２ｎｍ以
上ガラス基板表面に成膜し、この酸化物層の上にＭｏＯ
3 ，ＷＯ3 を用いた光学薄膜を設けるとテープ剥離試験
で剥離しないことを見い出した。しかし、ガラス基板表
面に成膜するシリコン酸化物層の膜厚が２ｎｍ未満で
は、その上に成膜したＭｏＯ3 ，ＷＯ3 膜が十分な密着
力を有しないことを確認した。
【００１１】また、ＭｏＯ3 ，ＷＯ3 を用いた光学薄膜
を構成する場合、他の誘電体との混合物にしても良いの
はもちろんであり、ＭｏＯ3 とＷＯ3 との混合物でも良
いし、ＭｏＯ3 と他の誘電体、ＷＯ3 と他の誘電体、あ
るいはＭｏＯ3 とＷＯ3 と他の誘電体という混合物も用
いることが可能である。この場合、特にＡｌ2 Ｏ3 との
混合により耐ヒートサイクル性や機械的強度が向上する
ことを確認した。
を構成する場合、他の誘電体との混合物にしても良いの
はもちろんであり、ＭｏＯ3 とＷＯ3 との混合物でも良
いし、ＭｏＯ3 と他の誘電体、ＷＯ3 と他の誘電体、あ
るいはＭｏＯ3 とＷＯ3 と他の誘電体という混合物も用
いることが可能である。この場合、特にＡｌ2 Ｏ3 との
混合により耐ヒートサイクル性や機械的強度が向上する
ことを確認した。
【００１２】さらに、ＭｏＯ3 やＷＯ3 を蒸着材料とし
て、電子ビームにより加熱して蒸着を行うとした場合、
電子ビームが反射してしまって、蒸着材料を加熱するこ
とが難しいが、ＭｏＯ3 やＷＯ3 に他の誘電体を少量混
合することにより電子ビームの反射を抑制することがで
きることを確認した。
て、電子ビームにより加熱して蒸着を行うとした場合、
電子ビームが反射してしまって、蒸着材料を加熱するこ
とが難しいが、ＭｏＯ3 やＷＯ3 に他の誘電体を少量混
合することにより電子ビームの反射を抑制することがで
きることを確認した。
【００１３】また、他の誘電体を混合することにより、
蒸着用ペレットの割れやスプラッシュを防止する効果も
得られる。この場合の混合物としては、前述のＡｌ2 Ｏ
3 の他に、ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2
のいずれでも効果のあることが確認できている。これら
の高融点物質との混合物を蒸着材料とした場合には、蒸
着の際の蒸気圧が大幅に異なることから、基板に成膜さ
れる膜中にはＭｏＯ3，ＷＯ3 のみしか存在しないこと
になる。混合物の添加量としては１重量％以上あれば充
分である。この蒸着材料を用いることにより、通常の蒸
着装置を用いて生産性良く反射防止膜やフィルター用の
光学薄膜を作成することが可能となった。
蒸着用ペレットの割れやスプラッシュを防止する効果も
得られる。この場合の混合物としては、前述のＡｌ2 Ｏ
3 の他に、ＳｉＯ2 ，ＺｒＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 ，ＴｉＯ2
のいずれでも効果のあることが確認できている。これら
の高融点物質との混合物を蒸着材料とした場合には、蒸
着の際の蒸気圧が大幅に異なることから、基板に成膜さ
れる膜中にはＭｏＯ3，ＷＯ3 のみしか存在しないこと
になる。混合物の添加量としては１重量％以上あれば充
分である。この蒸着材料を用いることにより、通常の蒸
着装置を用いて生産性良く反射防止膜やフィルター用の
光学薄膜を作成することが可能となった。
【００１４】（請求項２の作用）ＭｏＯ3 やＷＯ3 を用
いた光学薄膜を長期間高湿度下に放置すると密着性がや
や劣化するという問題を生じることがあるが、最表層に
撥水処理層を設けることで解決できた。これは、最表層
に撥水効果を有する層を設けているために、光学薄膜の
内部に水分が吸収されにくくなるからである。撥水効果
を有する層の材料やその形成方法としては、十分な撥水
効果及び耐久性があるものであれば特に限定するもので
はない。また、層の厚さは、光学薄膜の機能を担う程
度、例えば光学的膜厚１０〜２５０ｎｍ程度に厚くして
も良いし、光学的に影響を及ぼさない程度、例えば１０
ｎｍ以下のものでも良いことを確認した。
いた光学薄膜を長期間高湿度下に放置すると密着性がや
や劣化するという問題を生じることがあるが、最表層に
撥水処理層を設けることで解決できた。これは、最表層
に撥水効果を有する層を設けているために、光学薄膜の
内部に水分が吸収されにくくなるからである。撥水効果
を有する層の材料やその形成方法としては、十分な撥水
効果及び耐久性があるものであれば特に限定するもので
はない。また、層の厚さは、光学薄膜の機能を担う程
度、例えば光学的膜厚１０〜２５０ｎｍ程度に厚くして
も良いし、光学的に影響を及ぼさない程度、例えば１０
ｎｍ以下のものでも良いことを確認した。
【００１５】本発明に用いられる基板とは、光学ガラス
はもちろん、アクリル，ポリカーボネイト，アモルファ
スポリオレフィン，ＣＲ−３９（商品名），エネルギー
硬化型樹脂等の合成樹脂や、高温にさらされないことが
要求されるＣＣＤ等の光学デバイスや光学部材、あるい
は接合品等を含む。また、膜の形成には、真空蒸着法を
用いると良い。
はもちろん、アクリル，ポリカーボネイト，アモルファ
スポリオレフィン，ＣＲ−３９（商品名），エネルギー
硬化型樹脂等の合成樹脂や、高温にさらされないことが
要求されるＣＣＤ等の光学デバイスや光学部材、あるい
は接合品等を含む。また、膜の形成には、真空蒸着法を
用いると良い。
【００１６】
【実施例１】本発明の実施例１では、ガラス基板にＦＫ
５を用い、このガラス基板の表面に表１で示す５層構成
の反射防止膜を形成して構成した。波長５４６．０７ｎ
ｍの屈折率ｎe ＝１．４９のガラスＦＫ５よりなる基板
の表面に、ＳｉＯ2 とＭｏＯ3 とを基板側から交互にＳ
ｉＯ2 をｎｄ（光学的膜厚）＝２ｎｍ、ＭｏＯ3 をｎｄ
＝６５ｎｍ、ＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、ＭｏＯ3 をｎ
ｄ＝１１０ｎｍ、ＳｉＯ2 をｎｄ＝１３５ｎｍの５層に
積層したものである。
５を用い、このガラス基板の表面に表１で示す５層構成
の反射防止膜を形成して構成した。波長５４６．０７ｎ
ｍの屈折率ｎe ＝１．４９のガラスＦＫ５よりなる基板
の表面に、ＳｉＯ2 とＭｏＯ3 とを基板側から交互にＳ
ｉＯ2 をｎｄ（光学的膜厚）＝２ｎｍ、ＭｏＯ3 をｎｄ
＝６５ｎｍ、ＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、ＭｏＯ3 をｎ
ｄ＝１１０ｎｍ、ＳｉＯ2 をｎｄ＝１３５ｎｍの５層に
積層したものである。
【００１７】
【表１】
【００１８】上記構成の反射防止膜は、図１に示す真空
蒸着装置を用いて成膜した。１０は真空チャンバーで、
真空チャンバー１０内の下方位置には、抵抗加熱蒸発源
１１および電子銃蒸着源１２がそれぞれ配列されてい
る。１３は抵抗加熱装置に取り付けた抵抗加熱用溶融ボ
ートで、１４は電子銃蒸発源のハースライナである。真
空チャンバー１０内の上方位置には、基板１を取付可能
にし軸中心に回転自在の回転ドーム１５が配列されてい
る。１６は図示を省略した真空ポンプに接続された真空
排気管である。蒸着源から基板１までの距離は５２０ｍ
ｍである。上記の説明からも分かるように本装置は従来
の反射防止膜を形成する装置と何ら異なる点はない。
蒸着装置を用いて成膜した。１０は真空チャンバーで、
真空チャンバー１０内の下方位置には、抵抗加熱蒸発源
１１および電子銃蒸着源１２がそれぞれ配列されてい
る。１３は抵抗加熱装置に取り付けた抵抗加熱用溶融ボ
ートで、１４は電子銃蒸発源のハースライナである。真
空チャンバー１０内の上方位置には、基板１を取付可能
にし軸中心に回転自在の回転ドーム１５が配列されてい
る。１６は図示を省略した真空ポンプに接続された真空
排気管である。蒸着源から基板１までの距離は５２０ｍ
ｍである。上記の説明からも分かるように本装置は従来
の反射防止膜を形成する装置と何ら異なる点はない。
【００１９】次に、図１の真空蒸着装置を用い、表１に
示す膜構成の反射防止膜をガラス基板上に形成する方法
を説明する。回転ドーム１５にＦＫ５からなるガラス基
板１を取り付けるとともに第２層及び第４層のＭｏＯ3
層はＭｏＯ3 を顆粒状にしたものをＭｏ製ボート１３に
入れて真空チャンバー１０内を２×１０-4Ｐａまで減圧
した後、酸素ガスの分圧を全圧が２×１０-2Ｐａになる
まで導入しながら抵抗加熱法により形成した。また、第
１層、第３層及び第５層のＳｉＯ2 層は、ＳｉＯ2 を顆
粒状にしたものをハースライナ１４に入れて電子ビーム
法により形成した。ここで第１層のＳｉＯ2 層は光学的
膜厚が２ｎｍであり光学特性に影響を与えない。
示す膜構成の反射防止膜をガラス基板上に形成する方法
を説明する。回転ドーム１５にＦＫ５からなるガラス基
板１を取り付けるとともに第２層及び第４層のＭｏＯ3
層はＭｏＯ3 を顆粒状にしたものをＭｏ製ボート１３に
入れて真空チャンバー１０内を２×１０-4Ｐａまで減圧
した後、酸素ガスの分圧を全圧が２×１０-2Ｐａになる
まで導入しながら抵抗加熱法により形成した。また、第
１層、第３層及び第５層のＳｉＯ2 層は、ＳｉＯ2 を顆
粒状にしたものをハースライナ１４に入れて電子ビーム
法により形成した。ここで第１層のＳｉＯ2 層は光学的
膜厚が２ｎｍであり光学特性に影響を与えない。
【００２０】こうして形成した反射防止膜表面に、抵抗
加熱用溶融ボート１３にフッ素系シリコンオイルを含浸
させた多孔質物質を入れ加熱する事により、含浸させた
オイル成分のみを蒸発させ撥水処理層を設けた。この撥
水処理層の光学的膜厚は３ｎｍ度であり光学特性には全
く影響を及ぼさない。
加熱用溶融ボート１３にフッ素系シリコンオイルを含浸
させた多孔質物質を入れ加熱する事により、含浸させた
オイル成分のみを蒸発させ撥水処理層を設けた。この撥
水処理層の光学的膜厚は３ｎｍ度であり光学特性には全
く影響を及ぼさない。
【００２１】本実施例の反射防止膜および撥水処理層を
設けたガラス製光学部品の分光反射率を図２に示す。図
２に示すように、本実施例の分光反射率は十分な特性を
有していた。また、セロハンテープによる剥離試験によ
って膜の密着性を評価したところ、その結果は良好であ
った。さらに、ガラス基板の面積度の変化もなかった。
設けたガラス製光学部品の分光反射率を図２に示す。図
２に示すように、本実施例の分光反射率は十分な特性を
有していた。また、セロハンテープによる剥離試験によ
って膜の密着性を評価したところ、その結果は良好であ
った。さらに、ガラス基板の面積度の変化もなかった。
【００２２】さらに、温度４５℃、湿度９５％の環境下
で３００時間放置した後に膜の密着性や光学特性を調べ
たが、放置前と比較して変化はなく、十分な耐湿性を有
していることが確認された。比較のために、最表層に撥
水処理を設けない以外は全く本実施例のガラス製光学部
品と同様にして作成したサンプルを、湿度９５％の環境
下で３００時間放置したセロハンテープによる密着製試
験を行ったところ、反射防止膜は剥離してしまった。こ
れにより、本実施例のように撥水処理層を設けることで
耐湿性が向上することが分かる。
で３００時間放置した後に膜の密着性や光学特性を調べ
たが、放置前と比較して変化はなく、十分な耐湿性を有
していることが確認された。比較のために、最表層に撥
水処理を設けない以外は全く本実施例のガラス製光学部
品と同様にして作成したサンプルを、湿度９５％の環境
下で３００時間放置したセロハンテープによる密着製試
験を行ったところ、反射防止膜は剥離してしまった。こ
れにより、本実施例のように撥水処理層を設けることで
耐湿性が向上することが分かる。
【００２３】なお、本実施例においては、ＭｏＯ3 が解
離して酸素欠乏状態になり可視光を吸収するようになる
事を防ぐため成膜中に酸素ガスを導入したが、酸素ガス
に加えて酸素プラズマを用いたりしても同様の効果が得
られた。
離して酸素欠乏状態になり可視光を吸収するようになる
事を防ぐため成膜中に酸素ガスを導入したが、酸素ガス
に加えて酸素プラズマを用いたりしても同様の効果が得
られた。
【００２４】
【実施例２】本発明の実施例２では、実施例１と同様に
ガラス基板としてＦＫ５を用い、そのガラス基板の表面
に表２で示す５層構成の反射防止膜を形成して構成し
た。すなわち、本実施例においては、波長５４６．０７
ｎｍで屈折率ｎe ＝１．４９のガラスＦＫ５よりなる基
板の表面に、基板側から第１層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝
３５ｎｍ、第２層としてＷＯ3 をｎｄ＝６０ｎｍ，第３
層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、第４層としてＷＯ
3 をｎｄ＝１２０ｎｍ、第５層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝
１４０ｎｍを交互に積層した。
ガラス基板としてＦＫ５を用い、そのガラス基板の表面
に表２で示す５層構成の反射防止膜を形成して構成し
た。すなわち、本実施例においては、波長５４６．０７
ｎｍで屈折率ｎe ＝１．４９のガラスＦＫ５よりなる基
板の表面に、基板側から第１層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝
３５ｎｍ、第２層としてＷＯ3 をｎｄ＝６０ｎｍ，第３
層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、第４層としてＷＯ
3 をｎｄ＝１２０ｎｍ、第５層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝
１４０ｎｍを交互に積層した。
【００２５】
【表２】
【００２６】本実施例における上記反射防止膜は、図１
に示す真空蒸着装置を用い、ＷＯ3を原料としてＷ製の
ボートを用いて形成した。それ以外は上記実施例１と全
く同様にして形成した。こうして形成した反射防止膜の
分光反射率は、図３に示すように十分な特性を有してお
り、また密着性も良好であった。
に示す真空蒸着装置を用い、ＷＯ3を原料としてＷ製の
ボートを用いて形成した。それ以外は上記実施例１と全
く同様にして形成した。こうして形成した反射防止膜の
分光反射率は、図３に示すように十分な特性を有してお
り、また密着性も良好であった。
【００２７】
【実施例３】本発明の実施例３では、上記実施例と同様
にガラス基板としてＦＫ５を用い、このガラス基板の表
面に表３で示す５層構成の反射防止膜を形成して構成し
た。
にガラス基板としてＦＫ５を用い、このガラス基板の表
面に表３で示す５層構成の反射防止膜を形成して構成し
た。
【００２８】
【表３】
【００２９】上記反射防止膜は、図１に示す真空蒸着装
置を用いて形成した。第２層および第４層のＭｏＯ3 ＋
ＷＯ3 は、ＭｏＯ3 とＷＯ3 粉末を２：１の重量比で混
合した顆粒を用いて形成した。すなわち、上記混合した
顆粒をＭｏ製ボート１３に入れ、真空チャンバー１０内
に酸素ガスが８×１０-3Ｐａになるまで導入しながら抵
抗加熱法により、波長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎe
＝１．４９のガラスＦＫ５よりなる基板の表面に、基板
側から第１層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝２０ｎｍ、第２層
としてＭｏＯ3 ＋ＷＯ3 をｎｄ＝３０ｎｍ、第３層とし
てＳｉＯ2 をｎｄ＝５０ｎｍ、第４層としてＭｏＯ3 ＋
ＷＯ3 をｎｄ＝２６０ｎｍ、第５層としてＳｉＯ2 をｎ
ｄ＝１２０ｎｍを交互に積層した。それ以外は実施例１
と同様にして形成した。
置を用いて形成した。第２層および第４層のＭｏＯ3 ＋
ＷＯ3 は、ＭｏＯ3 とＷＯ3 粉末を２：１の重量比で混
合した顆粒を用いて形成した。すなわち、上記混合した
顆粒をＭｏ製ボート１３に入れ、真空チャンバー１０内
に酸素ガスが８×１０-3Ｐａになるまで導入しながら抵
抗加熱法により、波長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎe
＝１．４９のガラスＦＫ５よりなる基板の表面に、基板
側から第１層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝２０ｎｍ、第２層
としてＭｏＯ3 ＋ＷＯ3 をｎｄ＝３０ｎｍ、第３層とし
てＳｉＯ2 をｎｄ＝５０ｎｍ、第４層としてＭｏＯ3 ＋
ＷＯ3 をｎｄ＝２６０ｎｍ、第５層としてＳｉＯ2 をｎ
ｄ＝１２０ｎｍを交互に積層した。それ以外は実施例１
と同様にして形成した。
【００３０】こうして形成した反射防止膜の表面に抵抗
加熱用溶融ボート１３にフッ素系シリコンオイルを含浸
させた多孔質物質を入れ加熱することにより含浸させた
オイル成分のみを蒸発させた撥水処理層を設けた。この
撥水処理層の光学的膜厚（ｎｄ）は３ｎｍ程度であり光
学的特性にはまったく影響を及ぼさない。
加熱用溶融ボート１３にフッ素系シリコンオイルを含浸
させた多孔質物質を入れ加熱することにより含浸させた
オイル成分のみを蒸発させた撥水処理層を設けた。この
撥水処理層の光学的膜厚（ｎｄ）は３ｎｍ程度であり光
学的特性にはまったく影響を及ぼさない。
【００３１】本実施例における反射防止膜の分光反射率
は、図４に示すように十分な特性を有しており、また密
着性も良好であった。こうして反射防止膜を成膜した基
板を温度４５℃、湿度９５％の環境下で３００時間放置
した後に膜の密着性や光学特性を調べたが、放置前と比
較して変化はなく十分な耐湿性を有していることが確認
された。比較のために、最表層に撥水層を設けない以外
はまったく本実施例のガラス製光学部品と同様にして作
成したサンプルを、湿度９０％の環境下で３００時間放
置した後、セロハンテープによる密着性試験を行ったと
ころ反射防止膜は剥離してしまった。これにより、本実
施例のようにフッ素系物質より成る撥水処理層を設ける
ことで耐湿性が向上することが分かる。
は、図４に示すように十分な特性を有しており、また密
着性も良好であった。こうして反射防止膜を成膜した基
板を温度４５℃、湿度９５％の環境下で３００時間放置
した後に膜の密着性や光学特性を調べたが、放置前と比
較して変化はなく十分な耐湿性を有していることが確認
された。比較のために、最表層に撥水層を設けない以外
はまったく本実施例のガラス製光学部品と同様にして作
成したサンプルを、湿度９０％の環境下で３００時間放
置した後、セロハンテープによる密着性試験を行ったと
ころ反射防止膜は剥離してしまった。これにより、本実
施例のようにフッ素系物質より成る撥水処理層を設ける
ことで耐湿性が向上することが分かる。
【００３２】
【実施例４】本発明の実施例４では、上記実施例と同様
にガラス基板としてＦＫ５を用い、このガラス基板の表
面に表４で示す３層構成の反射防止膜を形成して構成し
た。
にガラス基板としてＦＫ５を用い、このガラス基板の表
面に表４で示す３層構成の反射防止膜を形成して構成し
た。
【００３３】
【表４】
【００３４】上記反射防止膜は、図１に示す真空蒸着装
置を用いて形成した。第１層のＳｉＯ2 層はＳｉＯ2 原
料をＭｏ製ボート１３に入れて酸素ガスを導入しながら
抵抗加熱法により形成した。第２層のＭｏＯ3 層はＭｏ
Ｏ3 粉末９７〜９８重量％とＡｌ2 Ｏ3 粉末３〜２重量
％とを混合してペレット状に固めたものを原料としてハ
ースライナ１４に載置し電子ビーム法により形成した。
成膜内容は波長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎe ＝１．
４９のガラスＦＫ５よりなる基板の表面に、ＭｏＯ3 と
ＳｉＯ2 とを基板側から交互に第１層のＳｉＯX （１≦
X ≦２）をｎｄ＝１２０ｎｍ、第２層のＭｏＯ3 をｎｄ
＝２４０ｎｍ、第３層のＳｉＯ2 をｎｄ＝１２０ｎｍの
第３層に積層したものである。それ以外は、第１実施例
と全く同様にして形成した。
置を用いて形成した。第１層のＳｉＯ2 層はＳｉＯ2 原
料をＭｏ製ボート１３に入れて酸素ガスを導入しながら
抵抗加熱法により形成した。第２層のＭｏＯ3 層はＭｏ
Ｏ3 粉末９７〜９８重量％とＡｌ2 Ｏ3 粉末３〜２重量
％とを混合してペレット状に固めたものを原料としてハ
ースライナ１４に載置し電子ビーム法により形成した。
成膜内容は波長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎe ＝１．
４９のガラスＦＫ５よりなる基板の表面に、ＭｏＯ3 と
ＳｉＯ2 とを基板側から交互に第１層のＳｉＯX （１≦
X ≦２）をｎｄ＝１２０ｎｍ、第２層のＭｏＯ3 をｎｄ
＝２４０ｎｍ、第３層のＳｉＯ2 をｎｄ＝１２０ｎｍの
第３層に積層したものである。それ以外は、第１実施例
と全く同様にして形成した。
【００３５】上記のようにして形成した反射防止膜の分
光反射率は図５に示すような特性を有しており密着性も
良好であった。
光反射率は図５に示すような特性を有しており密着性も
良好であった。
【００３６】本実施例においては、ＭｏＯ3 にＡｌ2 Ｏ
3 を少量添加したものを蒸着材料として用いたために電
子ビームが反射すること無く蒸着材料を電子ビームで容
易に加熱することができた。なお、Ａｌ2 Ｏ3 の代わり
にＺｒＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＴｉＯ2 を混合しても同様の
効果が得られた。
3 を少量添加したものを蒸着材料として用いたために電
子ビームが反射すること無く蒸着材料を電子ビームで容
易に加熱することができた。なお、Ａｌ2 Ｏ3 の代わり
にＺｒＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＴｉＯ2 を混合しても同様の
効果が得られた。
【００３７】
【実施例５】本実施例の実施例５では、ガラス基板に波
長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎeが１．５８のガラス
ＢａＬＦ４を用い、このガラス基板の表面に表５で示す
５層構成の反射防止膜を形成して構成した。反射防止膜
は、基板側からＳｉＯ2 、ＭｏＯ3 ＋ＳｉＯ2 を交互に
積層して構成した。
長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎeが１．５８のガラス
ＢａＬＦ４を用い、このガラス基板の表面に表５で示す
５層構成の反射防止膜を形成して構成した。反射防止膜
は、基板側からＳｉＯ2 、ＭｏＯ3 ＋ＳｉＯ2 を交互に
積層して構成した。
【００３８】
【表５】
【００３９】上記反射防止膜は、図１に示す真空蒸着装
置を用いて形成した。ＭｏＯ3 とＳｉＯ2 との混合物層
は、ＭｏＯ3 顆粒とＳｉＯ2 顆粒とを重量比で４：１と
なるように混合したものを蒸着材料とし、これをハース
ライナ１４に入れて酸素ガスを全圧が１×１０-2Ｐａに
なるまで導入しながら電子ビーム法により蒸着した。成
膜内容は波長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎe ＝１．５
８のガラスＢａＬＦ４よりなる基板の表面に、ＭｏＯ3
とＳｉＯ2 の混合物とＳｉＯ2とを基板側から交互に第
１層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、第２層としてＭ
ｏＯ3 ＋ＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、第３層としてＳｉ
Ｏ2 をｎｄ＝５０ｎｍ、第４層としてＭｏＯ3 ＋ＳｉＯ
2 をｎｄ＝２７０ｎｍ、第５層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝
１２０に積層したものである。
置を用いて形成した。ＭｏＯ3 とＳｉＯ2 との混合物層
は、ＭｏＯ3 顆粒とＳｉＯ2 顆粒とを重量比で４：１と
なるように混合したものを蒸着材料とし、これをハース
ライナ１４に入れて酸素ガスを全圧が１×１０-2Ｐａに
なるまで導入しながら電子ビーム法により蒸着した。成
膜内容は波長５４６．０７ｎｍでの屈折率ｎe ＝１．５
８のガラスＢａＬＦ４よりなる基板の表面に、ＭｏＯ3
とＳｉＯ2 の混合物とＳｉＯ2とを基板側から交互に第
１層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、第２層としてＭ
ｏＯ3 ＋ＳｉＯ2 をｎｄ＝４０ｎｍ、第３層としてＳｉ
Ｏ2 をｎｄ＝５０ｎｍ、第４層としてＭｏＯ3 ＋ＳｉＯ
2 をｎｄ＝２７０ｎｍ、第５層としてＳｉＯ2 をｎｄ＝
１２０に積層したものである。
【００４０】上記のようにして反射防止膜の分光反射率
は図５に示すように十分な特性を有しており密着性も良
好であった。また、本実施例における反射防止膜はＭｏ
Ｏ3にＳｉＯ2 を混合しているために特にヒートサイク
ルに強く「２０℃、１時間→４０℃、１時間→２０℃、
１時間→７０℃、１時間保持」を１サイクルとして２０
サイクルを繰り返した後でも密着性の低下やクラックの
発生等問題は一切生じなかった。
は図５に示すように十分な特性を有しており密着性も良
好であった。また、本実施例における反射防止膜はＭｏ
Ｏ3にＳｉＯ2 を混合しているために特にヒートサイク
ルに強く「２０℃、１時間→４０℃、１時間→２０℃、
１時間→７０℃、１時間保持」を１サイクルとして２０
サイクルを繰り返した後でも密着性の低下やクラックの
発生等問題は一切生じなかった。
【００４１】ＳｉＯ2 の混合量は１０重量％以上で上記
と同様の効果が得られる。混合量を変化させることで屈
折率を変化させることも可能である。また、ＷＯ3 とＳ
ｉＯ2 との混合膜でも同様に耐ヒートサイクル性等の耐
久性に優れていることを確認した。
と同様の効果が得られる。混合量を変化させることで屈
折率を変化させることも可能である。また、ＷＯ3 とＳ
ｉＯ2 との混合膜でも同様に耐ヒートサイクル性等の耐
久性に優れていることを確認した。
【００４２】
【実施例６】本発明の実施例６では、波長５４６．０７
ｎｍでの屈折率ｎe が１．４９のガラスＦＫ５よりなる
ガラス基板の表面にＳｉＯ2 とＷＯ3 とを交互に積層し
て表６に示すように構成した７８０ｎｍの赤外線カット
フィルターを形成して構成した。
ｎｍでの屈折率ｎe が１．４９のガラスＦＫ５よりなる
ガラス基板の表面にＳｉＯ2 とＷＯ3 とを交互に積層し
て表６に示すように構成した７８０ｎｍの赤外線カット
フィルターを形成して構成した。
【００４３】
【表６】
【００４４】上記赤外線カットフィルターは、図１に示
す真空蒸着装置を用いて形成し、真空チャンバー１０内
を２×１０-4Ｐａまで減圧した状態で酸素ガスは導入し
ない状態で成膜した。成膜内容は、基板表面側からＳｉ
Ｏ2 をｎｄ＝９８ｎｍ蒸着した後、ＳｉＯ2上にＷＯ3
を１９５ｎｍ蒸着し、更にこの上にＳｉＯ2 をｎｄ＝１
９５ｎｍ蒸着した後、ＳｉＯ2 上にＷＯ3 を１９５ｎｍ
蒸着し、表６に示すような１４層の膜を成膜した。その
他の工程は実施例２と同様にして行った。
す真空蒸着装置を用いて形成し、真空チャンバー１０内
を２×１０-4Ｐａまで減圧した状態で酸素ガスは導入し
ない状態で成膜した。成膜内容は、基板表面側からＳｉ
Ｏ2 をｎｄ＝９８ｎｍ蒸着した後、ＳｉＯ2上にＷＯ3
を１９５ｎｍ蒸着し、更にこの上にＳｉＯ2 をｎｄ＝１
９５ｎｍ蒸着した後、ＳｉＯ2 上にＷＯ3 を１９５ｎｍ
蒸着し、表６に示すような１４層の膜を成膜した。その
他の工程は実施例２と同様にして行った。
【００４５】こうして形成した赤外線カットフィルター
の表面に、実施例３と同様に抵抗加熱用溶融ボート１３
にフッ素系シリコーンオイルを含浸させた多孔物質を入
れ加熱する事により、含浸させたオイル成分のみを蒸発
させ撥水処理層を設けた。この撥水処理層の光学的膜厚
は３ｎｍ程度であり光学特性には全く影響を及ぼさな
い。
の表面に、実施例３と同様に抵抗加熱用溶融ボート１３
にフッ素系シリコーンオイルを含浸させた多孔物質を入
れ加熱する事により、含浸させたオイル成分のみを蒸発
させ撥水処理層を設けた。この撥水処理層の光学的膜厚
は３ｎｍ程度であり光学特性には全く影響を及ぼさな
い。
【００４６】上記のように形成した赤外線カットフィル
ターの分光透過率を測定したところ図７のようになって
おり、７８０ｎｍの赤外線カットフィルターとして十分
な特性を有していた。また、セロハンテープによる剥離
試験による密着性評価の結果は良好であった。また基板
の面精度の変化もなかった。さらに、温度４５℃、湿度
９５％の環境下で３００時間放置した後に膜の密着性や
光学特性を調べたが、放置前と比較して変化はなく十分
な耐湿性を有していることが確認された。比較のため
に、最表層に撥水層を設けない以外はまったく本実施例
のガラス製光学部品と同様にして作成したサンプルを、
温度１５℃、湿度４０％の環境下で２０分放置した後、
温度３５℃、湿度７０％の環境下にさらした場合、表面
にくもりを生じたが、本実施例のサンプルにおいては最
表層に設けたフッ素系物質より成る撥水処理層の効果に
より同様の試験をしても表面にくもりを生じることは無
く、防曇性が向上した。
ターの分光透過率を測定したところ図７のようになって
おり、７８０ｎｍの赤外線カットフィルターとして十分
な特性を有していた。また、セロハンテープによる剥離
試験による密着性評価の結果は良好であった。また基板
の面精度の変化もなかった。さらに、温度４５℃、湿度
９５％の環境下で３００時間放置した後に膜の密着性や
光学特性を調べたが、放置前と比較して変化はなく十分
な耐湿性を有していることが確認された。比較のため
に、最表層に撥水層を設けない以外はまったく本実施例
のガラス製光学部品と同様にして作成したサンプルを、
温度１５℃、湿度４０％の環境下で２０分放置した後、
温度３５℃、湿度７０％の環境下にさらした場合、表面
にくもりを生じたが、本実施例のサンプルにおいては最
表層に設けたフッ素系物質より成る撥水処理層の効果に
より同様の試験をしても表面にくもりを生じることは無
く、防曇性が向上した。
【００４７】なお、本発明は、真空蒸着をする際に基板
（ガラス製光学部品）を無加熱の状態とし、生産性良く
十分な耐久性と光学特性を有する多層膜よりなる反射防
止膜あるいはフィルターを成膜したガラス製光学部品を
提供することを目的として、以下のように構成すること
ができる。第１に、基板側から第１層目を光学的膜厚が
２ｎｍ以上のシリコン酸化物層とし、第２層以降に真空
蒸着法により形成されたＭｏＯ3 ＋ＷＯ3 層を少なくと
も一層含むように構成してなる反射防止膜を設けてガラ
ス製光学部品を形成する。第２に、基板側から第１層目
を光学的膜厚が２ｎｍ以上のシリコン酸化物層とし、第
２層以降に真空蒸着法により形成されたＭｏＯ3 ＋Ｓｉ
Ｏ2 層を少なくとも一層含むように構成してなる反射防
止膜を設けてガラス製光学部品を形成する。
（ガラス製光学部品）を無加熱の状態とし、生産性良く
十分な耐久性と光学特性を有する多層膜よりなる反射防
止膜あるいはフィルターを成膜したガラス製光学部品を
提供することを目的として、以下のように構成すること
ができる。第１に、基板側から第１層目を光学的膜厚が
２ｎｍ以上のシリコン酸化物層とし、第２層以降に真空
蒸着法により形成されたＭｏＯ3 ＋ＷＯ3 層を少なくと
も一層含むように構成してなる反射防止膜を設けてガラ
ス製光学部品を形成する。第２に、基板側から第１層目
を光学的膜厚が２ｎｍ以上のシリコン酸化物層とし、第
２層以降に真空蒸着法により形成されたＭｏＯ3 ＋Ｓｉ
Ｏ2 層を少なくとも一層含むように構成してなる反射防
止膜を設けてガラス製光学部品を形成する。
【００４８】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明のガラス
製光学部品において、請求項１の発明にあっては、基板
上に、ＰＶＤ法（物理的蒸着法）により形成された、Ｍ
ｏＯ3あるいはＷＯ3 の少なくともいずれか一方を含む
物質からなる層を少なくとも一層含む構成とすることに
より、従来の成膜装置に何ら改造を加えることなく蒸発
源からの輻射熱を低く抑えることができ、ガラス基板の
加熱及び冷却を必要とせずに十分な耐久性と密着性を有
する光学薄膜をガラス基板上に形成する事が可能とな
る。更に、ガラス基板とＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少な
くともいずれか一方を含む物質からなる層の間にシリコ
ン酸化物層を設けたので、ＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少
なくともいずれか一方を含む物質からなる層の密着力が
向上した。
製光学部品において、請求項１の発明にあっては、基板
上に、ＰＶＤ法（物理的蒸着法）により形成された、Ｍ
ｏＯ3あるいはＷＯ3 の少なくともいずれか一方を含む
物質からなる層を少なくとも一層含む構成とすることに
より、従来の成膜装置に何ら改造を加えることなく蒸発
源からの輻射熱を低く抑えることができ、ガラス基板の
加熱及び冷却を必要とせずに十分な耐久性と密着性を有
する光学薄膜をガラス基板上に形成する事が可能とな
る。更に、ガラス基板とＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少な
くともいずれか一方を含む物質からなる層の間にシリコ
ン酸化物層を設けたので、ＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の少
なくともいずれか一方を含む物質からなる層の密着力が
向上した。
【００４９】請求項２の発明にあっては、反射防止膜の
最表層に撥水効果を有する層を設けた構成とすることに
より、反射防止膜の内部に水分が供給されにくくなり、
ＭｏＯ3 やＷＯ3 を用いた場合の弱点である耐湿性を大
幅に向上させることができる。また、反射防止膜が曇る
不具合が減少する。
最表層に撥水効果を有する層を設けた構成とすることに
より、反射防止膜の内部に水分が供給されにくくなり、
ＭｏＯ3 やＷＯ3 を用いた場合の弱点である耐湿性を大
幅に向上させることができる。また、反射防止膜が曇る
不具合が減少する。
【００５０】請求項３の発明にあっては、基板から第１
層目の低屈折材料には光学的膜厚が２ｎｍ以上のシリコ
ン酸化物を、高屈折率材料はＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の
少なくともいずれか一方を含む物質からなる層とするこ
とにより、特に耐ヒートサイクル性の高い光学膜を構成
することができる。
層目の低屈折材料には光学的膜厚が２ｎｍ以上のシリコ
ン酸化物を、高屈折率材料はＭｏＯ3 あるいはＷＯ3 の
少なくともいずれか一方を含む物質からなる層とするこ
とにより、特に耐ヒートサイクル性の高い光学膜を構成
することができる。
【図１】本発明の各実施例における反射防止膜、フィル
ターを形成する真空蒸着装置を示す説明図である。
ターを形成する真空蒸着装置を示す説明図である。
【図２】本発明の実施例１における反射防止膜の分光反
射率を示す図である。
射率を示す図である。
【図３】本発明の実施例２における反射防止膜の分光反
射率を示す図である。
射率を示す図である。
【図４】本発明の実施例３における反射防止膜の分光反
射率を示す図である。
射率を示す図である。
【図５】本発明の実施例４における反射防止膜の分光反
射率を示す図である。
射率を示す図である。
【図６】本発明の実施例５における反射防止膜の分光反
射率を示す図である。
射率を示す図である。
【図７】本発明の実施例６における赤外線カットフィル
ターの分光透過率を示す図である。
ターの分光透過率を示す図である。
フロントページの続き (72)発明者 三田村 宣明 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 新田 佳樹 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 生水 利明 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 基板側から第１層目を光学的膜厚が２ｎ
ｍ以上のシリコン酸化物層とし、第２層以降に真空蒸着
法により形成されたＭｏＯ3 あるいはＷＯ3の少なくと
もいずれか一方の物質を含む層を少なくとも一層含むよ
うに構成してなる反射防止膜あるいはフィルターを設け
たことを特徴とするガラス製光学部品。 - 【請求項２】 反射防止膜あるいはフィルターは、その
最表層に撥水効果を有する層を設けてなることを特徴と
する請求項１記載のガラス製光学部品。 - 【請求項３】 真空蒸着法により形成されたＭｏＯ3 あ
るいはＷＯ3 の少なくとも一方の物質を含む層を高屈折
率層とし、真空蒸着法により形成されたＳｉＯ2 層を低
屈折率層として構成してなる反射防止膜あるいはフィル
ターを設けたことを特徴とするガラス製光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6104854A JPH07287103A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | ガラス製光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6104854A JPH07287103A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | ガラス製光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07287103A true JPH07287103A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=14391869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6104854A Pending JPH07287103A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | ガラス製光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07287103A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006311321A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撮像装置及びそれを用いた携帯端末装置 |
| JP2012113045A (ja) * | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Seiko Epson Corp | 光学多層膜、光学素子、撮像アッセンブリー、デジタルカメラ及び光学多層膜の製造方法 |
-
1994
- 1994-04-19 JP JP6104854A patent/JPH07287103A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006311321A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撮像装置及びそれを用いた携帯端末装置 |
| JP2012113045A (ja) * | 2010-11-22 | 2012-06-14 | Seiko Epson Corp | 光学多層膜、光学素子、撮像アッセンブリー、デジタルカメラ及び光学多層膜の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20031104 |