JPH0625105A - 炭酸エステルの製造法 - Google Patents
炭酸エステルの製造法Info
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- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 23
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 4
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 23
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical group [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 23
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 claims description 23
- -1 carbonate ester Chemical class 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000011135 tin Substances 0.000 abstract description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 abstract description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 28
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 9
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 8
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021380 Manganese Chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L Manganese chloride Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 description 3
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I molybdenum pentachloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)(Cl)(Cl)Cl GICWIDZXWJGTCI-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005832 oxidative carbonylation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L tin(ii) bromide Chemical compound Br[Sn]Br ZSUXOVNWDZTCFN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001714 (E)-hex-2-en-1-ol Substances 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005968 1-Decanol Substances 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 2-Buten-1-ol Chemical compound C\C=C\CO WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- ZCHHRLHTBGRGOT-SNAWJCMRSA-N 2-Hexen-1-ol Natural products CCC\C=C\CO ZCHHRLHTBGRGOT-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCHHRLHTBGRGOT-UHFFFAOYSA-N 2-hexen-1-ol Chemical compound CCCC=CCO ZCHHRLHTBGRGOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021556 Chromium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021634 Rhenium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021636 Rhenium(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021637 Rhenium(VI) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021623 Tin(IV) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J Tungsten(IV) chloride Inorganic materials Cl[W](Cl)(Cl)Cl YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910021549 Vanadium(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021552 Vanadium(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N benzyl n-(2-oxopyrrolidin-3-yl)carbamate Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC(=O)NC1CCNC1=O DAMJCWMGELCIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXKAQZRUJUNDHI-UHFFFAOYSA-K bismuth tribromide Chemical compound Br[Bi](Br)Br TXKAQZRUJUNDHI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001649 bromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229960000359 chromic chloride Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M copper(1+);acetate Chemical compound [Cu+].CC([O-])=O RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L copper;oxalate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C([O-])=O QYCVHILLJSYYBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJYMRRJVDRJMJW-UHFFFAOYSA-L dibromomanganese Chemical compound Br[Mn]Br RJYMRRJVDRJMJW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XZGGQBBRFYZKTL-UHFFFAOYSA-L dichlorotantalum Chemical compound Cl[Ta]Cl XZGGQBBRFYZKTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UDJQAOMQLIIJIE-UHFFFAOYSA-L dichlorotungsten Chemical compound Cl[W]Cl UDJQAOMQLIIJIE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003254 gasoline additive Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical group [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J hafnium tetrachloride Chemical compound Cl[Hf](Cl)(Cl)Cl PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GSGIQJBJGSKCDZ-UHFFFAOYSA-H hexachlororhenium Chemical compound Cl[Re](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl GSGIQJBJGSKCDZ-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000086 high toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L lead(II) chloride Chemical compound Cl[Pb]Cl HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001509 metal bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001511 metal iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- OYMJNIHGVDEDFX-UHFFFAOYSA-J molybdenum tetrachloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)(Cl)Cl OYMJNIHGVDEDFX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZSSVQAGPXAAOPV-UHFFFAOYSA-K molybdenum trichloride Chemical compound Cl[Mo](Cl)Cl ZSSVQAGPXAAOPV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- BQBYSLAFGRVJME-UHFFFAOYSA-L molybdenum(2+);dichloride Chemical compound Cl[Mo]Cl BQBYSLAFGRVJME-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GMMJTCLAKDKBCZ-UHFFFAOYSA-L molybdenum(ii) bromide Chemical compound Br[Mo]Br GMMJTCLAKDKBCZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VPDYSPXEGTXWEU-UHFFFAOYSA-K niobium(3+);trichloride Chemical compound Cl[Nb](Cl)Cl VPDYSPXEGTXWEU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DSYRJFDOOSKABR-UHFFFAOYSA-I niobium(v) bromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].[Br-].[Br-].[Nb+5] DSYRJFDOOSKABR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000005547 pivalate group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- BGRYSGVIVVUJHH-UHFFFAOYSA-N prop-2-ynyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC#C BGRYSGVIVVUJHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZQYTGKSBZGQMO-UHFFFAOYSA-I rhenium pentachloride Chemical compound Cl[Re](Cl)(Cl)(Cl)Cl XZQYTGKSBZGQMO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229910052713 technetium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N technetium atom Chemical compound [Tc] GKLVYJBZJHMRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWJBJTBTXOHQAZ-UHFFFAOYSA-J tetrabromomolybdenum Chemical compound Br[Mo](Br)(Br)Br WWJBJTBTXOHQAZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OYFUIMQYZOLBMZ-UHFFFAOYSA-J tetrachloromanganese Chemical compound Cl[Mn](Cl)(Cl)Cl OYFUIMQYZOLBMZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- PJYXVICYYHGLSW-UHFFFAOYSA-J tetrachloroplumbane Chemical compound Cl[Pb](Cl)(Cl)Cl PJYXVICYYHGLSW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UXMRNSHDSCDMLG-UHFFFAOYSA-J tetrachlororhenium Chemical compound Cl[Re](Cl)(Cl)Cl UXMRNSHDSCDMLG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- JYIFRKSFEGQVTG-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotantalum Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)Cl JYIFRKSFEGQVTG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTSUHJWLSNQKIP-UHFFFAOYSA-J tin(iv) bromide Chemical compound Br[Sn](Br)(Br)Br LTSUHJWLSNQKIP-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrabromide Chemical compound Br[Ti](Br)(Br)Br UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- AUZMWGNTACEWDV-UHFFFAOYSA-L titanium(2+);dibromide Chemical compound Br[Ti]Br AUZMWGNTACEWDV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MTAYDNKNMILFOK-UHFFFAOYSA-K titanium(3+);tribromide Chemical compound Br[Ti](Br)Br MTAYDNKNMILFOK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YPFBRNLUIFQCQL-UHFFFAOYSA-K tribromomolybdenum Chemical compound Br[Mo](Br)Br YPFBRNLUIFQCQL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QLPZBVLCIQDRKH-UHFFFAOYSA-K tribromoniobium Chemical compound Br[Nb](Br)Br QLPZBVLCIQDRKH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UDBAOKKMUMKEGZ-UHFFFAOYSA-K trichloromanganese Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Mn+3] UDBAOKKMUMKEGZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- UDKRLEXYBPHRQF-UHFFFAOYSA-K trichlorotantalum Chemical compound Cl[Ta](Cl)Cl UDKRLEXYBPHRQF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOIHSHVELSAXQN-UHFFFAOYSA-K trirhenium nonachloride Chemical compound Cl[Re](Cl)Cl LOIHSHVELSAXQN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- WIDQNNDDTXUPAN-UHFFFAOYSA-I tungsten(v) chloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)Cl WIDQNNDDTXUPAN-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J vanadium tetrachloride Chemical compound Cl[V](Cl)(Cl)Cl JTJFQBNJBPPZRI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ITAKKORXEUJTBC-UHFFFAOYSA-L vanadium(ii) chloride Chemical compound Cl[V]Cl ITAKKORXEUJTBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K vanadium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+3] HQYCOEXWFMFWLR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L zirconium(2+);dichloride Chemical compound Cl[Zr]Cl VPGLGRNSAYHXPY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 アルコール類、一酸化炭素及び酸素から、高
い収率及び選択率で炭酸エステルを製造する。 【構成】 アルコール類、一酸化炭素及び酸素を、ハロ
ゲン化第一銅などの銅触媒の存在下、1〜100atm
程度の圧力、80〜200℃程度の温度で反応させる。
反応系に周期表4族〜7族のd軌道を有する金属のハロ
ゲン化物を添加すると、銅触媒が析出しないため、少量
で高い触媒活性を示す。前記金属のハロゲン化物とし
て、チタン、スズ、ニオブ、ビスマス、モリブデン又は
マンガンの塩化物などを用いる。
い収率及び選択率で炭酸エステルを製造する。 【構成】 アルコール類、一酸化炭素及び酸素を、ハロ
ゲン化第一銅などの銅触媒の存在下、1〜100atm
程度の圧力、80〜200℃程度の温度で反応させる。
反応系に周期表4族〜7族のd軌道を有する金属のハロ
ゲン化物を添加すると、銅触媒が析出しないため、少量
で高い触媒活性を示す。前記金属のハロゲン化物とし
て、チタン、スズ、ニオブ、ビスマス、モリブデン又は
マンガンの塩化物などを用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銅触媒の存在下、アル
コール類と一酸化炭素と酸素とを反応させて炭酸エステ
ルを製造する方法に関する。
コール類と一酸化炭素と酸素とを反応させて炭酸エステ
ルを製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】炭酸
エステルは、ガソリンの添加剤、有機溶剤として、ま
た、各種カーボネート類、カーバメート類、ウレタン
類、医薬・農薬等の精密化学品の製造における、ホスゲ
ンに代わる反応剤として有用な化合物である。
エステルは、ガソリンの添加剤、有機溶剤として、ま
た、各種カーボネート類、カーバメート類、ウレタン
類、医薬・農薬等の精密化学品の製造における、ホスゲ
ンに代わる反応剤として有用な化合物である。
【0003】炭酸エステルの製造法として、アルコール
類にホスゲンを反応させる方法が工業的に行われてい
る。しかし、この方法では、毒性の高いホスゲンを使用
するだけでなく、反応過程で腐蝕性の強い塩化水素が副
生する。そこで、このようなホスゲンを用いることな
く、液相法や気相法により炭酸エステルを製造する方法
がいくつか提案されている。
類にホスゲンを反応させる方法が工業的に行われてい
る。しかし、この方法では、毒性の高いホスゲンを使用
するだけでなく、反応過程で腐蝕性の強い塩化水素が副
生する。そこで、このようなホスゲンを用いることな
く、液相法や気相法により炭酸エステルを製造する方法
がいくつか提案されている。
【0004】液相法による炭酸エステルの製造法とし
て、白金族金属−銅系触媒の存在下、アルコール類を一
酸化炭素及び酸素と反応させて炭酸エステルを得る方法
が知られている。例えば、特公昭61−8816号公報
には、パラジウム化合物などの白金族金属化合物、塩化
銅などの銅化合物及びアルカリ金属塩等の共存下で、ア
ルコール類と一酸化炭素及び酸素とを反応させる方法が
開示されている。
て、白金族金属−銅系触媒の存在下、アルコール類を一
酸化炭素及び酸素と反応させて炭酸エステルを得る方法
が知られている。例えば、特公昭61−8816号公報
には、パラジウム化合物などの白金族金属化合物、塩化
銅などの銅化合物及びアルカリ金属塩等の共存下で、ア
ルコール類と一酸化炭素及び酸素とを反応させる方法が
開示されている。
【0005】この方法によれば、触媒にパラジウムなど
の白金族金属が少量含まれるだけでも高い活性を示すた
め、反応系における一酸化炭素の分圧を低くすることが
できる。しかし、この触媒系では、助触媒である銅化合
物が、酸化銅として析出したり、炭酸エステルが生成す
る際に副生する水により塩基性塩化銅などに変化して不
溶化したり、副生するシュウ酸との反応によりシュウ酸
銅として析出したりする。そのため、触媒を失活させる
ことなく長期間連続的に炭酸エステルを製造することは
困難である。特にシュウ酸塩は、炭酸エステルが生成す
る際の中間体と同じく白金族金属錯体を経由して生成す
る。そのため、シュウ酸塩の生成は、パラジウム等の白
金族金属を主触媒とする限り避けられない問題である。
の白金族金属が少量含まれるだけでも高い活性を示すた
め、反応系における一酸化炭素の分圧を低くすることが
できる。しかし、この触媒系では、助触媒である銅化合
物が、酸化銅として析出したり、炭酸エステルが生成す
る際に副生する水により塩基性塩化銅などに変化して不
溶化したり、副生するシュウ酸との反応によりシュウ酸
銅として析出したりする。そのため、触媒を失活させる
ことなく長期間連続的に炭酸エステルを製造することは
困難である。特にシュウ酸塩は、炭酸エステルが生成す
る際の中間体と同じく白金族金属錯体を経由して生成す
る。そのため、シュウ酸塩の生成は、パラジウム等の白
金族金属を主触媒とする限り避けられない問題である。
【0006】液相で炭酸エステルを製造する他の方法と
して、ハロゲン化第一銅やハロゲン化第二銅等の酸化的
カルボニル化触媒の存在下に、アルコールと一酸化炭素
及び酸素とを反応させる方法が知られている。例えば、
特公昭56−8020号公報には、塩化第一銅などのハ
ロゲン化第一銅及びアルカリ金属又はアルカリ土類金属
のハロゲン化物からなる触媒を用いる方法が開示されて
いる。
して、ハロゲン化第一銅やハロゲン化第二銅等の酸化的
カルボニル化触媒の存在下に、アルコールと一酸化炭素
及び酸素とを反応させる方法が知られている。例えば、
特公昭56−8020号公報には、塩化第一銅などのハ
ロゲン化第一銅及びアルカリ金属又はアルカリ土類金属
のハロゲン化物からなる触媒を用いる方法が開示されて
いる。
【0007】しかし、前記ハロゲン化第一銅系触媒は、
上記のパラジウム−銅系触媒に比べて活性が低いことか
ら、多量の触媒を必要とし、しかも高い一酸化炭素分圧
を要するため、副生する炭酸ガスのパージに伴う一酸化
炭素のパージロスが多くなる。また、塩化第一銅などの
ハロゲン化第一銅は一般に有機溶媒に溶解しにくいた
め、反応混合液のスラリー濃度がさらに高くなり、作業
性が悪くなりやすい。
上記のパラジウム−銅系触媒に比べて活性が低いことか
ら、多量の触媒を必要とし、しかも高い一酸化炭素分圧
を要するため、副生する炭酸ガスのパージに伴う一酸化
炭素のパージロスが多くなる。また、塩化第一銅などの
ハロゲン化第一銅は一般に有機溶媒に溶解しにくいた
め、反応混合液のスラリー濃度がさらに高くなり、作業
性が悪くなりやすい。
【0008】また、前記ハロゲン化第二銅を触媒とする
方法では、有機溶媒に対する溶解度は高いものの、ハロ
ゲン化第一銅と比較して銅に結合しているハロゲン原子
の数が多いため、反応系内に遊離するハロゲンの量も多
くなる。また、反応過程で、銅が二価の状態から、塩素
などのハロゲン原子がアルコキシ基によって置換され炭
酸エステル生成中間体が形成されるため、必ず塩素等の
ハロゲンが遊離する。従って、ハロゲン化第一銅系触媒
と比較して、装置材料の腐蝕を起こしやすい。さらに、
遊離したハロゲンが、系中のアルコールや反応生成物と
反応して、ハロゲン化物を形成し、反応系から排出され
るため、触媒が不安定となり、循環使用する間に活性が
低下したり、溶解性が低下し、連続反応が困難となりや
すい。
方法では、有機溶媒に対する溶解度は高いものの、ハロ
ゲン化第一銅と比較して銅に結合しているハロゲン原子
の数が多いため、反応系内に遊離するハロゲンの量も多
くなる。また、反応過程で、銅が二価の状態から、塩素
などのハロゲン原子がアルコキシ基によって置換され炭
酸エステル生成中間体が形成されるため、必ず塩素等の
ハロゲンが遊離する。従って、ハロゲン化第一銅系触媒
と比較して、装置材料の腐蝕を起こしやすい。さらに、
遊離したハロゲンが、系中のアルコールや反応生成物と
反応して、ハロゲン化物を形成し、反応系から排出され
るため、触媒が不安定となり、循環使用する間に活性が
低下したり、溶解性が低下し、連続反応が困難となりや
すい。
【0009】従って、本発明の目的は、触媒が析出せ
ず、高い触媒活性を示し、高い収率及び選択率で、しか
も装置が腐蝕せず、長期間安定して製造できる炭酸エス
テルの製造法を提供することにある。
ず、高い触媒活性を示し、高い収率及び選択率で、しか
も装置が腐蝕せず、長期間安定して製造できる炭酸エス
テルの製造法を提供することにある。
【0010】
【発明の構成】本発明者は、前記目的を達成するため、
鋭意検討した結果、銅触媒の存在下、アルコール類と一
酸化炭素と酸素とを反応させて炭酸エステルを製造する
際、周期表4族、5族、6族又は7族のd軌道を有する
金属のハロゲン化物を添加すると、銅触媒が析出せず、
高い触媒活性を示すこと、従って、銅触媒が低濃度であ
っても、高い収率及び選択率で炭酸エステルが製造でき
ることを見出だし、本発明を完成した。
鋭意検討した結果、銅触媒の存在下、アルコール類と一
酸化炭素と酸素とを反応させて炭酸エステルを製造する
際、周期表4族、5族、6族又は7族のd軌道を有する
金属のハロゲン化物を添加すると、銅触媒が析出せず、
高い触媒活性を示すこと、従って、銅触媒が低濃度であ
っても、高い収率及び選択率で炭酸エステルが製造でき
ることを見出だし、本発明を完成した。
【0011】すなわち、本発明は、アルコール類を、銅
触媒の存在下、一酸化炭素及び酸素と反応させ、炭酸エ
ステルを製造する方法であって、周期表4族、5族、6
族又は7族のd軌道を有する金属のハロゲン化物を添加
して反応させる炭酸エステルの製造法を提供する。
触媒の存在下、一酸化炭素及び酸素と反応させ、炭酸エ
ステルを製造する方法であって、周期表4族、5族、6
族又は7族のd軌道を有する金属のハロゲン化物を添加
して反応させる炭酸エステルの製造法を提供する。
【0012】本発明において、アルコール類としては、
ヒドロキシル基を有する広範囲の化合物が使用でき、例
えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2
−プロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、
1−ヘキサノール、1−オクタノール、1−デカノー
ル、1−オクタデカノール、アリルアルコール、2−ブ
テン−1−オール、2−ヘキセン−1−オールなどの炭
素数1〜20の飽和又は不飽和脂肪族アルコール;シク
ロヘキサノール、シクロペンタノールなどの炭素数3〜
7の脂環族アルコール;ベンジルアルコール、フェネチ
ルアルコールなどの芳香族アルコール等が例示される。
また、前記アルコールには、一価アルコールのみなら
ず、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコールなどの二価アルコール;グリセリンなど
の多価アルコールの外、フェノール、クレゾール等のフ
ェノール性ヒドロキシル基を有する化合物も含まれる。
ヒドロキシル基を有する広範囲の化合物が使用でき、例
えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2
−プロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、
1−ヘキサノール、1−オクタノール、1−デカノー
ル、1−オクタデカノール、アリルアルコール、2−ブ
テン−1−オール、2−ヘキセン−1−オールなどの炭
素数1〜20の飽和又は不飽和脂肪族アルコール;シク
ロヘキサノール、シクロペンタノールなどの炭素数3〜
7の脂環族アルコール;ベンジルアルコール、フェネチ
ルアルコールなどの芳香族アルコール等が例示される。
また、前記アルコールには、一価アルコールのみなら
ず、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピ
レングリコールなどの二価アルコール;グリセリンなど
の多価アルコールの外、フェノール、クレゾール等のフ
ェノール性ヒドロキシル基を有する化合物も含まれる。
【0013】これらのアルコールのうち、特にメタノー
ル、エタノール、1−プロパノール、1−ブタノール等
の炭素数1〜4の脂肪族アルコールが好適に用いられ、
なかでもメタノールなどが繁用される。
ル、エタノール、1−プロパノール、1−ブタノール等
の炭素数1〜4の脂肪族アルコールが好適に用いられ、
なかでもメタノールなどが繁用される。
【0014】前記銅触媒としては、酸化的カルボニル化
触媒として用いられる銅化合物であれば特に限定され
ず、例えば、銅のハロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、ピバ
リン酸塩、炭酸塩等の強酸又は弱酸の塩等が挙げられ
る。
触媒として用いられる銅化合物であれば特に限定され
ず、例えば、銅のハロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、ピバ
リン酸塩、炭酸塩等の強酸又は弱酸の塩等が挙げられ
る。
【0015】これらの銅化合物のうち、第一銅化合物、
例えば、ハロゲン化第一銅、硝酸第一銅、酢酸第一銅等
が好ましい。特に好ましい銅化合物には、塩化第一銅、
臭化第一銅、ヨウ化第一銅等のハロゲン化第一銅が含ま
れ、なかでも塩化第一銅が繁用される。
例えば、ハロゲン化第一銅、硝酸第一銅、酢酸第一銅等
が好ましい。特に好ましい銅化合物には、塩化第一銅、
臭化第一銅、ヨウ化第一銅等のハロゲン化第一銅が含ま
れ、なかでも塩化第一銅が繁用される。
【0016】これらの第一銅化合物は前記のように溶解
性は低いが、特定の金属ハロゲン化物を添加すると、溶
解度が高くなり、高い触媒活性を示す。そのため、少量
の銅触媒により高収率で炭酸エステルを製造することが
できる。
性は低いが、特定の金属ハロゲン化物を添加すると、溶
解度が高くなり、高い触媒活性を示す。そのため、少量
の銅触媒により高収率で炭酸エステルを製造することが
できる。
【0017】前記銅触媒の反応混合液中の濃度は、反応
速度、後処理の操作性、経済性等を考慮して適宜選択で
きるが、通常1〜3000ミリモル/リットル、好まし
くは10〜1000ミリモル/リットルである。
速度、後処理の操作性、経済性等を考慮して適宜選択で
きるが、通常1〜3000ミリモル/リットル、好まし
くは10〜1000ミリモル/リットルである。
【0018】本発明の主たる特徴は、反応系に、周期表
4族、5族、6族又は7族のd軌道を有する金属のハロ
ゲン化物を添加する点にある。
4族、5族、6族又は7族のd軌道を有する金属のハロ
ゲン化物を添加する点にある。
【0019】前記金属のハロゲン化物を添加することに
より、触媒である銅化合物と錯塩を形成するためか、銅
化合物の原料アルコールや有機溶媒に対する溶解度が向
上し、そのため活性が高く、少量の触媒でも高い収率で
目的化合物である炭酸エステルを得ることができる。特
に、銅触媒として、前記第一銅化合物、特に塩化第一銅
等のハロゲン化第一銅と組合せると、その効果が著し
い。
より、触媒である銅化合物と錯塩を形成するためか、銅
化合物の原料アルコールや有機溶媒に対する溶解度が向
上し、そのため活性が高く、少量の触媒でも高い収率で
目的化合物である炭酸エステルを得ることができる。特
に、銅触媒として、前記第一銅化合物、特に塩化第一銅
等のハロゲン化第一銅と組合せると、その効果が著し
い。
【0020】また、前記銅触媒が特にハロゲン化銅の場
合には、一般に反応過程でハロゲンが遊離しやすいとこ
ろ、反応系内に前記金属のハロゲン化物を添加すると、
この化合物がd軌道を有するため、遊離したハロゲンが
配位し得る。そのため、触媒が安定化されると共に、ハ
ロゲンによる装置の腐蝕を防止することができる。
合には、一般に反応過程でハロゲンが遊離しやすいとこ
ろ、反応系内に前記金属のハロゲン化物を添加すると、
この化合物がd軌道を有するため、遊離したハロゲンが
配位し得る。そのため、触媒が安定化されると共に、ハ
ロゲンによる装置の腐蝕を防止することができる。
【0021】前記周期表4族、5族、6族又は7族のd
軌道を有する金属には、チタン、ジルコニウム、ハフニ
ウム、スズ、鉛の4族の金属;バナジウム、ニオブ、タ
ンタル、アンチモン、ビスマスの5族の金属;クロム、
モリブデン、タングステンの6族の金属;マンガン、テ
クネチウム、レニウムの7族の金属が含まれる。
軌道を有する金属には、チタン、ジルコニウム、ハフニ
ウム、スズ、鉛の4族の金属;バナジウム、ニオブ、タ
ンタル、アンチモン、ビスマスの5族の金属;クロム、
モリブデン、タングステンの6族の金属;マンガン、テ
クネチウム、レニウムの7族の金属が含まれる。
【0022】これらのうち、特にチタン、スズ、ニオ
ブ、ビスマス、モリブデン、マンガン等の金属が好適に
用いられる。
ブ、ビスマス、モリブデン、マンガン等の金属が好適に
用いられる。
【0023】前記ハロゲン化物には、上記した金属のフ
ッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物が含まれる。これ
らのうち、特に塩化物が繁用される。
ッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物が含まれる。これ
らのうち、特に塩化物が繁用される。
【0024】周期表4族、5族、6族又は7族のd軌道
を有する金属のハロゲン化物として、例えば、二塩化チ
タン、三塩化チタン、四塩化チタン、二臭化チタン、三
臭化チタン、四臭化チタン、二塩化ジルコニウム、四塩
化ジルコニウム、四塩化ハフニウム、二塩化スズ、四塩
化スズ、二臭化スズ、四臭化スズ、二塩化鉛、四塩化
鉛、二塩化バナジウム、三塩化バナジウム、四塩化バナ
ジウム、三塩化ニオブ、五塩化ニオブ、三臭化ニオブ、
五臭化ニオブ、二塩化タンタル、三塩化タンタル、四塩
化タンタル、五塩化タンタル、三塩化アンチモン、五塩
化アンチモン、三塩化ビスマス、三臭化ビスマス、三塩
化クロム、二塩化モリブデン、三塩化モリブデン、四塩
化モリブデン、五塩化モリブデン、二臭化モリブデン、
三臭化モリブデン、四臭化モリブデン、二塩化タングス
テン、四塩化タングステン、五塩化タングステン、六塩
化タングステン、二塩化マンガン、三塩化マンガン、四
塩化マンガン、二臭化マンガン、三塩化レニウム、四塩
化レニウム、五塩化レニウム、六塩化レニウムなどが挙
げられる。
を有する金属のハロゲン化物として、例えば、二塩化チ
タン、三塩化チタン、四塩化チタン、二臭化チタン、三
臭化チタン、四臭化チタン、二塩化ジルコニウム、四塩
化ジルコニウム、四塩化ハフニウム、二塩化スズ、四塩
化スズ、二臭化スズ、四臭化スズ、二塩化鉛、四塩化
鉛、二塩化バナジウム、三塩化バナジウム、四塩化バナ
ジウム、三塩化ニオブ、五塩化ニオブ、三臭化ニオブ、
五臭化ニオブ、二塩化タンタル、三塩化タンタル、四塩
化タンタル、五塩化タンタル、三塩化アンチモン、五塩
化アンチモン、三塩化ビスマス、三臭化ビスマス、三塩
化クロム、二塩化モリブデン、三塩化モリブデン、四塩
化モリブデン、五塩化モリブデン、二臭化モリブデン、
三臭化モリブデン、四臭化モリブデン、二塩化タングス
テン、四塩化タングステン、五塩化タングステン、六塩
化タングステン、二塩化マンガン、三塩化マンガン、四
塩化マンガン、二臭化マンガン、三塩化レニウム、四塩
化レニウム、五塩化レニウム、六塩化レニウムなどが挙
げられる。
【0025】これらのうち、特に、三塩化チタン、四塩
化チタン、二塩化スズ、四塩化スズ、五塩化ニオブ、三
塩化ビスマス、五塩化モリブデン、二塩化マンガンなど
が好適に用いられる。
化チタン、二塩化スズ、四塩化スズ、五塩化ニオブ、三
塩化ビスマス、五塩化モリブデン、二塩化マンガンなど
が好適に用いられる。
【0026】前記金属のハロゲン化物は、一種又は二種
以上組合せて用いることができる。
以上組合せて用いることができる。
【0027】前記金属のハロゲン化物の使用量は、触媒
として用いる銅化合物1モルに対して、通常0.01〜
20モル、好ましくは0.05〜15モル、さらに好ま
しくは0.1〜10モル程度である。0.01モル未満
の場合は添加効果が少なく、20モルを越えても添加量
に見合うだけのより大きな効果は得られにくい。
として用いる銅化合物1モルに対して、通常0.01〜
20モル、好ましくは0.05〜15モル、さらに好ま
しくは0.1〜10モル程度である。0.01モル未満
の場合は添加効果が少なく、20モルを越えても添加量
に見合うだけのより大きな効果は得られにくい。
【0028】アルコール類と一酸化炭素及び酸素との反
応は、溶媒不存在下で行ってもよく、また、反応に不活
性な溶媒中で行ってもよい。前記溶媒としては、例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、
ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どのエーテル;ギ酸、酢酸、プロピオン酸などのカルボ
ン酸;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、酢酸セロソルブ、プロピオン酸
エチルなどのカルボン酸エステル;N,N−ジメチルホ
ルムアミドなどのカルボン酸アミド;アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル;ヘ
キサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサ
ンなどの脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素;四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素;目的化合物である炭
酸エステル等が挙げられる。これらの溶媒は、一種又は
二種以上混合して使用できる。
応は、溶媒不存在下で行ってもよく、また、反応に不活
性な溶媒中で行ってもよい。前記溶媒としては、例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、
ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフランな
どのエーテル;ギ酸、酢酸、プロピオン酸などのカルボ
ン酸;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、酢酸セロソルブ、プロピオン酸
エチルなどのカルボン酸エステル;N,N−ジメチルホ
ルムアミドなどのカルボン酸アミド;アセトニトリル、
プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル;ヘ
キサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサ
ンなどの脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素;四塩化炭
素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタンなどのハロゲン化炭化水素;目的化合物である炭
酸エステル等が挙げられる。これらの溶媒は、一種又は
二種以上混合して使用できる。
【0029】反応成分である一酸化炭素及び酸素は、反
応に不活性なガス、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウ
ム、二酸化炭素等で希釈されていてもよい。
応に不活性なガス、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウ
ム、二酸化炭素等で希釈されていてもよい。
【0030】一酸化炭素と酸素の比率(CO/O2 )
は、通常1/1〜100/1(モル比)程度である。
は、通常1/1〜100/1(モル比)程度である。
【0031】反応温度は、通常80〜200℃、好まし
くは100〜150℃程度である。80℃未満では反応
速度が遅く、200℃を越える場合は蒸気圧が高くなり
反応操作性が低下し易い。
くは100〜150℃程度である。80℃未満では反応
速度が遅く、200℃を越える場合は蒸気圧が高くなり
反応操作性が低下し易い。
【0032】反応圧力は、通常1〜100atm、好ま
しくは5〜50atm程度である。
しくは5〜50atm程度である。
【0033】反応は、連続式又はバッチ式で行うことが
できる。
できる。
【0034】反応生成物を常法に従って処理することに
より、原料アルコールに対応する炭酸エステルを得るこ
とができる。
より、原料アルコールに対応する炭酸エステルを得るこ
とができる。
【0035】
【発明の効果】本発明の方法によれば、銅触媒の析出が
著しく抑制され、触媒活性が高いため、少量の触媒であ
っても、高い収率及び選択率で、長期間安定して炭酸エ
ステルを製造することができる。
著しく抑制され、触媒活性が高いため、少量の触媒であ
っても、高い収率及び選択率で、長期間安定して炭酸エ
ステルを製造することができる。
【0036】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。
【0037】実施例1 内容積300mlのグラスライニング加工した撹拌機付
きオートクレーブに、塩化第一銅200ミリモル/リッ
トル及び四塩化チタン200ミリモル/リットルを含有
するメタノール50mlを仕込み、気相部を一酸化炭素
で置換した。次いで、一酸化炭素を23Kg/cm2 、
酸素を2.0Kg/cm2 で圧入した後、反応温度13
5℃で45分反応させた。その後、室温まで冷却して、
反応生成ガス及び反応生成液をガスクロマトグラフィー
により分析した。
きオートクレーブに、塩化第一銅200ミリモル/リッ
トル及び四塩化チタン200ミリモル/リットルを含有
するメタノール50mlを仕込み、気相部を一酸化炭素
で置換した。次いで、一酸化炭素を23Kg/cm2 、
酸素を2.0Kg/cm2 で圧入した後、反応温度13
5℃で45分反応させた。その後、室温まで冷却して、
反応生成ガス及び反応生成液をガスクロマトグラフィー
により分析した。
【0038】その結果、ジメチルカーボネート63.4
ミリモルが生成し、炭酸ガス5.2ミリモルが副生し
た。なお、反応終了後、塩化第一銅は反応混合液に完全
に溶解していた。
ミリモルが生成し、炭酸ガス5.2ミリモルが副生し
た。なお、反応終了後、塩化第一銅は反応混合液に完全
に溶解していた。
【0039】比較例1 塩化第一銅及び四塩化チタンを含有するメタノールに代
えて、塩化第一銅を600ミリモル/リットル含有する
メタノール50mlを用いた外は、実施例1と同様の操
作を行った。
えて、塩化第一銅を600ミリモル/リットル含有する
メタノール50mlを用いた外は、実施例1と同様の操
作を行った。
【0040】その結果、ジメチルカーボネート42.9
ミリモルが生成し、炭酸ガス2.4ミリモルが副生し
た。なお、反応終了後、塩化第一銅が析出しており、反
応混合液はスラリー状であった。
ミリモルが生成し、炭酸ガス2.4ミリモルが副生し
た。なお、反応終了後、塩化第一銅が析出しており、反
応混合液はスラリー状であった。
【0041】比較例2 塩化第一銅及び四塩化チタンを含有するメタノールに代
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び塩化リ
チウム200ミリモル/リットルを含有するメタノール
50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行っ
た。
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び塩化リ
チウム200ミリモル/リットルを含有するメタノール
50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行っ
た。
【0042】その結果、ジメチルカーボネート48.7
ミリモルが生成し、炭酸ガス3.5ミリモルが副生し
た。
ミリモルが生成し、炭酸ガス3.5ミリモルが副生し
た。
【0043】なお、反応終了後、塩化第一銅が析出して
おり、反応混合液はスラリー状であった。
おり、反応混合液はスラリー状であった。
【0044】比較例3 塩化第一銅及び四塩化チタンを含有するメタノールに代
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び塩化マ
グネシウム200ミリモル/リットルを含有するメタノ
ール50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行
った。
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び塩化マ
グネシウム200ミリモル/リットルを含有するメタノ
ール50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行
った。
【0045】その結果、ジメチルカーボネート46.2
ミリモルが生成し、炭酸ガス2.8ミリモルが副生し
た。
ミリモルが生成し、炭酸ガス2.8ミリモルが副生し
た。
【0046】なお、反応終了後、塩化第一銅が析出して
おり、反応混合液はスラリー状であった。
おり、反応混合液はスラリー状であった。
【0047】実施例2 塩化第一銅及び四塩化チタンを含有するメタノールに代
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び塩化第
一スズ200ミリモル/リットルを含有するメタノール
50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行っ
た。
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び塩化第
一スズ200ミリモル/リットルを含有するメタノール
50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行っ
た。
【0048】その結果、ジメチルカーボネート65.0
ミリモルが生成し、炭酸ガス8.7ミリモルが副生し
た。
ミリモルが生成し、炭酸ガス8.7ミリモルが副生し
た。
【0049】なお、反応終了後、塩化第一銅は反応混合
液に完全に溶解していた。
液に完全に溶解していた。
【0050】実施例3 塩化第一銅及び四塩化チタンを含有するメタノールに代
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び二塩化
マンガン200ミリモル/リットルを含有するメタノー
ル50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行っ
た。
えて、塩化第一銅200ミリモル/リットル及び二塩化
マンガン200ミリモル/リットルを含有するメタノー
ル50mlを用いた外は、実施例1と同様の操作を行っ
た。
【0051】その結果、ジメチルカーボネート76.0
ミリモルが生成し、炭酸ガス1.3ミリモルが副生し
た。なお、反応終了後、塩化第一銅は反応混合液に完全
に溶解していた。
ミリモルが生成し、炭酸ガス1.3ミリモルが副生し
た。なお、反応終了後、塩化第一銅は反応混合液に完全
に溶解していた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300
Claims (5)
- 【請求項1】 アルコール類を、銅触媒の存在下、一酸
化炭素及び酸素と反応させ、炭酸エステルを製造する方
法であって、周期表4族、5族、6族又は7族のd軌道
を有する金属のハロゲン化物を添加して反応させる炭酸
エステルの製造法。 - 【請求項2】 d軌道を有する金属が、チタン、スズ、
ニオブ、ビスマス、モリブデン又はマンガンである請求
項1記載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項3】 銅触媒が第一銅化合物である請求項1記
載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項4】 銅触媒がハロゲン化第一銅である請求項
1記載の炭酸エステルの製造法。 - 【請求項5】 銅触媒が塩化第一銅である請求項1記載
の炭酸エステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4200464A JPH0625105A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 炭酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4200464A JPH0625105A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 炭酸エステルの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625105A true JPH0625105A (ja) | 1994-02-01 |
Family
ID=16424752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4200464A Pending JPH0625105A (ja) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | 炭酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0625105A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5607216A (en) * | 1994-06-24 | 1997-03-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Projection display apparatus |
-
1992
- 1992-07-03 JP JP4200464A patent/JPH0625105A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5607216A (en) * | 1994-06-24 | 1997-03-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Projection display apparatus |
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