JPH0625172A - N−フルオロピリジニウム塩の製造方法 - Google Patents
N−フルオロピリジニウム塩の製造方法Info
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Abstract
(2) で示されるピリジン化合物の存在下に反応させ、下記式
(3) に示すN−フルオロピリジニウム塩を得る。 〔式中、R1〜R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基など、X−はブレンステッド酸の共役塩素を示す〕 【効果】 取り扱いの不便なブレンステッド酸を直接使
用することなく、高収率でN−フルオロピリジニウム塩
を製造することができる。
Description
ム塩の製造方法に関するものである。とくに本発明はN
−フルオロピリジニウム塩を高収率で得ることができる
製造方法に関するものである。
素、臭素、ヨウ素と異なり、非常に激しい反応を起こす
ので、容易に有機物の炭素−炭素の切断が起こり、ひい
ては発火や爆発が起こるので、反応の制御が非常に困難
である。このため温和な条件で有機物にフッ素を導入す
ることのできるフッ素化剤が求められていた。出願人は
さきに、ピリジン化合物をブレンステッド酸またはルイ
ス酸と反応させることにより得られるN−フルオロピリ
ジニウム塩が、このような要望を充たす優れたフッ素化
剤であることを見いだした(特公平2−33707号公
報)。この化合物は種々の有機物に対して高い反応性と
選択性を有しているため、フッ素化合物の合成に非常に
有用なものである。
ような従来の製造方法においては、まだ反応収率が低い
こと、および高価で取り扱いの困難なブレンステッド酸
を扱わなければならないという問題点があり、N−フル
オロピリジニウム塩の工業的製造方法としては、さらに
改良が必要とされていた。本発明は、この問題を解決す
るため鋭意研究を重ねた結果、驚くべきことに、ピリジ
ニウム塩とフッ素とを触媒量のピリジン化合物の存在下
に反応させることにより、収率が顕著に向上すること、
さらに取り扱いの困難なブレンステッド酸を直接用いな
くても良いことをを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。
式(1)
を、触媒量の一般式(2)
させることを特徴とする、一般式(3)
製造方法を提供するものである。〔ただし、式中、R1
〜R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリー
ル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、ニトロ基、シアノ
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル
オキシ基、アシルチオ基、アミド基、アルカンスルホニ
ルオキシ基、またはアレーンスルホニルオキシ基であ
り、X- はブレンステッド酸の共役塩基(ただし、ハロ
ゲン化水素の共役塩基であるF-、Cl-、Br-および
I- は除く。)である。R1、R2、R3、R4およびR5
は種々の組み合わせでヘテロ原子を介しまたは介さない
で環状構造をとってもよい。X- はR1、R2、R3、R4
およびR5と種々の組み合わせでヘテロ原子を介しまた
は介さないで結合していてもよい。Hは水素原子、Fは
フッ素原子である。〕
(1)で表されるピリジニウム塩は、後述するピリジン
化合物とブレンステッド酸との反応により製造すること
ができる。例えばピリジンとブレンステッド酸とのほぼ
等モル量を、適当な溶媒、例えばアセトニトリル中で反
応させ、結晶析出、濾過、乾燥等の精製手段を経て、純
粋なピリジニウム塩を得ることができる。あるいはま
た、ピリジンとルイス酸とをハロゲン化水素の存在で反
応させても得ることができる。これらのピリジニウム塩
はまた市販品として入手も可能である。
レンステッド酸としては、例えばメタンスルホン酸、ブ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、ニトロベンゼンスルホン酸、ジニトロベンゼンス
ルホン酸、トリニトロベンゼンスルホン酸、トリフルオ
ロメタンスルホン酸、ペルフルオロブタンスルホン酸、
ペルフルオロオクタンスルホン酸、トリクロロメタンス
ルホン酸、ジフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ
エタンスルホン酸、フルオロスルホン酸、クロロスルホ
ン酸、モノメチル硫酸、硫酸、カンフアースルホン酸、
ブロムカンフアースルホン酸、△4 −コレステン−3−
オン−6−スルホン酸、1−ヒドロキシ−p−メタン−2
−スルホン酸、p−スチレンスルホン酸、β−スチレン
スルホン酸、ポリ(p−スチレンスルホン酸)、ビニル
スルホン酸、ポリ(ビニルスルホン酸)、ポリ(2−アク
リルアミド−2−メチル−1−プロパンスルホン酸)お
よびスチレンとの共重合体、ペルフルオロ−3,6 −ジオ
キサ−4−メチル−7−オクテンスルホン酸、ポリ(ペル
フルオロ−3,6−ジオキサ−4−メチル−7−オクテンス
ルホン酸)およびテトラフルオロエチレンとの共重合体
等のスルホン酸、リン酸、硝酸、過塩素酸、過臭素酸、
過ヨウ素酸、塩素酸、臭素酸等のハロゲン酸、酢酸、ギ
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ペンタフルオ
ロプロピオン酸、ジクロロ酢酸、アクリル酸、ポリアク
リル酸、ポリ(ペルフルオロ−3,6 −ジオキサ−4−メ
チル−7−オクテン酸)、テトラフルオロエチレンとの
共重合体等のカルボン酸、HBF4、HPF6、HSb
F4、HSbF6、HAsF6およびHBCl3F等を例示す
ることができる。
ン化水素は除外される。本発明のN−フルオロピリジニ
ウム塩においてX- がハロゲン化水素の共役塩基である
F-の場合、すなわちビリジン・F2 錯体は不安定であ
り、−2℃以上では爆発を起こすという重大な欠点を有
している。またCl-、Br-、およびI-の場合は、相
当するN−フルオロピリジニウム塩の合成は困難であ
る。
リジニウム塩とフッ素とを反応させる際に、触媒量の一
般式(2)で表されるピリジン化合物を加えることが必
要である。前記した特公平2−23707号公報の、1
0欄、10〜13行に「反応を収率よく行うためには、
ブレンステッド酸化合物の使用量は基質(出願人注:ピ
リジン化合物)に対して等モル又は等モル以上であるが
経済性を考慮に入れると等モルが好ましい。」と記載さ
れている。しかしこの先行技術においては、ピリジンの
方を過剰に使用することは開示されていない。また、本
発明のように、ピリジンを触媒量添加することは全く示
唆していいない。例えば上記特公平2−23707号公
報の実施例7においては、ピリジンをブレンステッド酸
に対して等モル使用しているが、N−フルオロピリジニ
ウム塩の収率は僅か44%である。本発明においては、
ピリジニウム塩に対して、ピリジン化合物を触媒量添加
する。ここで触媒量とは特に量を限定するものではない
が、経済性、収率を考慮にいれると0.001倍から0.
2倍が好ましく、0.02倍から0.08倍が更に好まし
い。
合物としては例えば、ピリジン、(トリフルオロメチ
ル)ピリジン、ビス(トリフルオロメチル)ピリジン、
トリス(トリフルオロメチル)ピリジン、(トリクロロ
メチル)ピリジン、(ペンタフルオロエチル)ピリジ
ン、(ペンタフルオロオクチル)ピリジン、(メトキシ
メチル)ピリジン、ピリジン酢酸エチル、ピリジルアセ
トニトリル、ピリジルアセトン等の鎖状、分枝状または
環状のアルキルピリジン、クロロピリジン、ブロモピリ
ジン、フルオロピリジン、ジクロロピリジン、トリクロ
ロピリジン、テトラクロロピリジン、ペンタクロロピリ
ジン、ジフルオロピリジン、トリフルオロピリジン、ペ
ンタフルオロピリジン、クロロフルオロピリジン、ジク
ロロフルオロピリジン等のハロピリジン、(トリフルオ
ロメチル)クロロピリジン、(トリフルオロメチル)ジ
クロロピリジン、(トリフルオロメチル)トリクロロピ
リジン、(トリフルオロメチル)フルオロピリジン、メ
チルクロロピリジン、フェニルピリジン、ジフェニルピ
リジン、トリフェニルピリジン、ジピリジル、アセチル
ピリジン、ビスアセチルピリジン、(メトキシカルボニ
ル)ピリジン、(エトキシカルボニル)ピリジン、(ブ
トキシカルボニル)ピリジン、ビス(エトキシカルボニ
ル)ピリジン、ビス(トリフルオロエトキシカルボニ
ル)ピリジン、トリス(メトキシカルボニル)ピリジ
ン、(フェノキシカルボニル)ピリジン等の(アルコキ
シカルボニル)または(アリールオキシカルボニル)ピ
リジン、2,3−ピリジンカルボン酸無水物、ニトロピリ
ジン、シアノピリジン、ジシアノピリジン、トリシアノ
ピリジン、ベンゼンスルホニルピリジン、メチルスルホ
ニルピリジン、クロロシアノピリジン、ホルミルピリジ
ン、(ハロホルミル)ピリジン、ニコチンアミド、ピコ
リンアミド、(ジメチルアミノカルボニル)ピリジン、
メトキシピリジン、ジメトキシピリジン、プロピルオキ
シピリジン、ブチルオキシピリジン、メントキシピリジ
ン、トリフルオロメトキシピリジン、アセチルオキシピ
リジン、トリフルオロアセチルオキシピリジン、フェノ
キシピリジン、アセチルチオピリジン、メタンスルホニ
ルオキシピリジン、ベンゼンスルホニルオキシピリジ
ン、アセチルアミノピリジン、2,3−テトラメチレンピ
リジン、3−ヒドロキシピリジン、1,2,3,4,5,6,7,8−オ
クタヒドロアクリジン等を例示することができる。
活性ガスを用いて不活性ガスの容量が99.9%から5
0%の希釈したフッ素ガスを使用するのが好ましい。不
活性ガスとしては窒素、ヘリウム、アルゴン、テトラフ
ルオロメタン、六フッ化イオウ等を例示することができ
る。反応を収率よく行うためには、フッ素の使用量はピ
リジニウム塩に対し等モルまたは等モル以上であるが、
フッ素の導入方法、反応温度、反応溶媒、反応装置等に
より変化するので、ピリジニウム塩がフッ素と反応して
消失するのに必要なフッ素の量を適宜選択することがで
きる。
いることが好ましい。反応溶媒としては、例えばアセト
ニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
トリクロロフルオロメタン、トリクロロトリフルオロエ
タン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等、またはこれらの混合物を選択することができ
る。反応温度としては、−100℃〜+40℃ の範囲
を選ぶことができるが、−20〜0℃の範囲が収率を良
好にする上で好ましい。
る。実施例 1 ピリジン16.06g(203.0mmol)とフッ化水素酸
(46%フッ酸含有)8.86g(フッ酸モル数:204
mmol)を200mlのアセトニトリル中へ加え、さらに氷
冷下ボロントリフルオライド・ジエチルエーテルコンプ
レックスを28.812g(203.0mmol)を滴下し、
室温で10分間撹拌した。その後アセトニトリルを溜
去、結晶が析出した後、1000mlのジエチルエーテル
を加え、結晶を濾過、乾燥することにより、ピリジニウ
ム テトラフルオロボレート31.18g(収率:92
%)を得た。上記の様にして合成したピリジニウム テ
トラフルオロボレート3.339g(20.0mmol)とピ
リジン0.079g(1.0mmol)とを25mlのアセトニ
トリル中に加え、−20℃に冷却した。その後撹拌しな
がら、フッ素と窒素の混合ガス(1:10)を100ml
/分の流量で導入した。導入したフッ素ガスのモル数は
40.0mmolであった。反応終了後、溶媒を溜去し、酢
酸エチルで結晶化しN−フルオロピリジニウム テトラ
フルオロボレート3.476g(収率:94.0%)を得
た。得られたN−フルオロピリジニウム テトラフルオ
ロボレートの物性は以下のとおりであった。 融点:193−196℃19 F−NMR(ppm、CD3CN中CFCl3内部標準) −48.7(1F、NF) 150(4F、BF4)
3.336g(20.0mmol)をピリジンを加えずに25m
lのアセトニトリル中へ加え、後は実施例1と同様の操
作をした。得られたものは原料のピリジニウム テトラ
フルオロボレート2.966g(回収率:88.9%)で
あった(19F−NMRでNFに相当するシグナル検知せ
ず)。
ジエチルエーテル溶液10.33g(テトラフルオロホウ
酸99.9mmol)を加え、氷冷下、ピリジン7.85g
(99.2mmol)を滴下し、その後室温で10分間撹拌
した。その後、ジエチルエーテル150mlを加え、析出
した白色固体を濾過、乾燥してピリジニウムテトラフル
オロボレート9.77g(収率:58.5%)を得た。上
記のようにして得たピリジニウム テトラフルオロボレ
ート1.068g(6.40mmol)とピリジン0.025g
(0.32mmol)をアセトニトリル10ml中に加え、−
20℃に冷却した。その後、撹拌しながら、フッ素と窒
素の混合ガス(1:4)を50ml/分の流速で導入し
た。導入したフッ素ガスのモル数は12.8mmolであっ
た。反応後溶媒を溜去し、酢酸エチルで結晶化し、N−
フルオロピリジニウム テトラフルオロボレート1.76
0g(収率:79.7%)を得た。得られたN−フルオロ
ピリジニウム テトラフルオロボレートの物性は次のと
おりであった。 融点:195−197℃(アセトニトリルより再結晶)19 F−NMR(ppm、CD3CN中CFCl3内部標準) −48.7(1F、NF) 150(4F、BF4)
ート1.070g(6.4mmol)をアセトニトリル10ml
中に加え、ピリジンを加えない他は実施例3と同様の操
作をした。得られたものは原料のピリジニウム テトラ
フルオロボレート1.055g(回収率:98.6%)で
あった(19F−NMRよりNFに相当するシグナル検知
せず)。
22.50g(150mmol)とフッ化水素酸(46%フッ
酸含有)6.52g(フッ酸150mmol)を加え、さらに
ボロントリフルオライド・ジエチルエーテル錯体21.
29g(150mmol)を加え、その後室温で10分間撹
拌した。溶媒を溜去後ジエチルエーテル300mlを加え
結晶を濾過、乾燥することにより3,5−ジクロロピリ
ジニウムテトラフルオロボレート31.75g(収率:8
9.1%)を得た。上記のようにして得た3,5−ジクロ
ロピリジニウム テトラフルオロボレート11.89g
(50mmol)と3,5ジクロロピリジン0.225g(1.
5mmol)を50mlのアセトニトリル中へ加え、−20℃
に冷却した。その後、撹拌しながらフッ素と窒素の混合
ガス(1:4)を50ml/分の流速で導入した。導入し
たフッ素ガスのモル数は100mmolであった。反応後溶
媒を溜去し、酢酸エチル−ジエチルエーテルの1:1混
合溶媒200mlで結晶化し、N−フルオロ−3,5−ジ
クロロピリジニウム テトラフルオロボレート11.73
g(収率:91.7%)を得た。このものの物性は次のと
おりであった。 融点:193−195℃19 F−NMR(ppm、CD3CN中CFCl3内部標準) −52.6(1F、NF) 150(4F、BF4)
り扱いの不便なブレステッド酸を直接使用することな
く、高収率でN−フルオロピリジニウム塩を製造するこ
とができる。また副生するHFが弗化水素という低沸点
化合物(沸点19.5℃)であるから、濾別や再結晶操
作を必要としない。そのため従来の製造工程を大幅に短
縮することができ、N−フルオロピリジニウム塩の工業
的製造方法として画期的な製造方法である。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 で表されるピリジニウム塩と、フッ素とを、触媒量の一
般式(2) 【化2】 で表されるピリジン化合物の存在下に反応させることを
特徴とする、一般式(3) 【化3】 で表されるN−フルオロピリジニウム塩の製造方法。
〔ただし、式中、R1〜R5は水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アミド
基、アルカンスルホニルオキシ基、またはアレーンスル
ホニルオキシ基であり、X- はブレンステッド酸の共役
塩基(ただし、ハロゲン化水素の共役塩基であるF-、
Cl-、Br-およびI- は除く。)である。R1、R2、
R3、R4およびR5は種々の組み合わせでヘテロ原子を
介しまたは介さないで環状構造をとってもよい。X- は
R1、R2、R3、R4およびR5と種々の組み合わせでヘ
テロ原子を介しまたは介さないで結合していてもよい。
Hは水素原子、Fはフッ素原子である。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18214492A JP3207521B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | N−フルオロピリジニウム塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18214492A JP3207521B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | N−フルオロピリジニウム塩の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625172A true JPH0625172A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3207521B2 JP3207521B2 (ja) | 2001-09-10 |
Family
ID=16113130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18214492A Expired - Fee Related JP3207521B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | N−フルオロピリジニウム塩の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3207521B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07233097A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Chichibu Onoda Cement Corp | 親電子型フッ素化剤の製造方法 |
| JP2010083845A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Tosoh F-Tech Inc | N−フルオロピリジニウム塩の製造方法 |
-
1992
- 1992-07-09 JP JP18214492A patent/JP3207521B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07233097A (ja) * | 1994-02-23 | 1995-09-05 | Chichibu Onoda Cement Corp | 親電子型フッ素化剤の製造方法 |
| JP2010083845A (ja) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Tosoh F-Tech Inc | N−フルオロピリジニウム塩の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3207521B2 (ja) | 2001-09-10 |
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