JPH06306049A - 2−ハロゲノ−ピリジン誘導体類の製造方法 - Google Patents
2−ハロゲノ−ピリジン誘導体類の製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 2−ハロゲノ−ピリジン誘導体類の新規な製
造方法 【構成】 一般式(I) 【化1】 [式中、Xは、ハロゲンを表し、Yは、例えばハロゲ
ン、アルキル、を表すが、Xが塩素を表し、Yが同時に
メチルを表す化合物は除く]の2−ハロゲノ−ピリジン
誘導体類の新規な製造方法に関するものであって、次の
ことを特徴とする:第1段階においては、ピリジン1−
オキシドが、有機窒素塩基Aおよび求電子化合物と、必
要ならば希釈剤の存在下で、反応して、一般式(II
I) 【化2】 [式中、Aは、有機窒素塩基の遊離基を表し、Yは、上
記意味を有し、Z-は、求電子化合物から生じる陰イオ
ンを表す]の化合物を生成し、そして第2段階では、こ
れらの化合物が、ハロゲン化剤と、必要ならばハロゲン
化アルキルの存在下および必要ならば希釈剤の存在下
で、温度10℃〜150℃で、反応する。
造方法 【構成】 一般式(I) 【化1】 [式中、Xは、ハロゲンを表し、Yは、例えばハロゲ
ン、アルキル、を表すが、Xが塩素を表し、Yが同時に
メチルを表す化合物は除く]の2−ハロゲノ−ピリジン
誘導体類の新規な製造方法に関するものであって、次の
ことを特徴とする:第1段階においては、ピリジン1−
オキシドが、有機窒素塩基Aおよび求電子化合物と、必
要ならば希釈剤の存在下で、反応して、一般式(II
I) 【化2】 [式中、Aは、有機窒素塩基の遊離基を表し、Yは、上
記意味を有し、Z-は、求電子化合物から生じる陰イオ
ンを表す]の化合物を生成し、そして第2段階では、こ
れらの化合物が、ハロゲン化剤と、必要ならばハロゲン
化アルキルの存在下および必要ならば希釈剤の存在下
で、温度10℃〜150℃で、反応する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2−ハロゲノ−ピリジ
ン誘導体類の新規な製造方法およびこの方法のための新
規な中間生成物に関する。
ン誘導体類の新規な製造方法およびこの方法のための新
規な中間生成物に関する。
【0002】
【従来の技術】2−ハロゲノ−ピリジン誘導体類は、対
応するピリジン1−オキシドが、塩化ホスホリル(Ch
em.Pharm.Bull.36(1988),22
44−2247;および欧州特許出願第324174号
公開/LeA 25745、参照)、塩素を含むリン酸
誘導体類(欧州特許出願第370317号公開/LeA
26429、参照)、カルボン酸塩化物(欧州特許出願
第438691号公開/LeA 27429、参照)、
スルホン酸塩化物(欧州特許出願第463464号公開
/LeA 27658、参照)、もしくはその他の塩素
化剤(欧州特許出願第439745号公開/LeA 2
7472、参照)と、必要ならば、塩基性有機窒素化合
物の存在下で、反応する場合に得られることが、知られ
ている。しかしながら、これらの方法において達成され
た収率およびそれにより得られた生成物の品質は、しば
しばかなりの量の異性体を含んでいて、多くの場合に満
足されるものではない。
応するピリジン1−オキシドが、塩化ホスホリル(Ch
em.Pharm.Bull.36(1988),22
44−2247;および欧州特許出願第324174号
公開/LeA 25745、参照)、塩素を含むリン酸
誘導体類(欧州特許出願第370317号公開/LeA
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スルホン酸塩化物(欧州特許出願第463464号公開
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化剤(欧州特許出願第439745号公開/LeA 2
7472、参照)と、必要ならば、塩基性有機窒素化合
物の存在下で、反応する場合に得られることが、知られ
ている。しかしながら、これらの方法において達成され
た収率およびそれにより得られた生成物の品質は、しば
しばかなりの量の異性体を含んでいて、多くの場合に満
足されるものではない。
【0003】3−メチル−ピリジン1−オキシドが、初
めに有機窒素塩基と反応して、単離することができる
1:1付加物を生成し、後者が塩素化剤と反応する2−
クロロ−5−メチル−ピリジンの製造方法は、まだ公表
されていなかった先行特許出願の内容である(DE−P
4204920/LeA 28939、参照)。
めに有機窒素塩基と反応して、単離することができる
1:1付加物を生成し、後者が塩素化剤と反応する2−
クロロ−5−メチル−ピリジンの製造方法は、まだ公表
されていなかった先行特許出願の内容である(DE−P
4204920/LeA 28939、参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】一般式(I)
【0005】
【化5】
【0006】[式中、Xは、ハロゲンを表し、Yは、ハ
ロゲン、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシル、カ
ルバモイル、アルキル、ハロゲノアルキル、アルコキシ
アルキル、ジアルコキシアルキル、アルコキシカルボニ
ル、アルキルアミノカルボニルもしくはジアルキルアミ
ノカルボニルを表すが、Xが塩素を表し、Yが同時にメ
チルを表す化合物は除く]の2−ハロゲノ−ピリジン誘
導体類が、次の場合に、高収率、高品質で得られること
は、初めて見出だされたものであって、その場合、第1
段階においては、一般式(II)
ロゲン、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシル、カ
ルバモイル、アルキル、ハロゲノアルキル、アルコキシ
アルキル、ジアルコキシアルキル、アルコキシカルボニ
ル、アルキルアミノカルボニルもしくはジアルキルアミ
ノカルボニルを表すが、Xが塩素を表し、Yが同時にメ
チルを表す化合物は除く]の2−ハロゲノ−ピリジン誘
導体類が、次の場合に、高収率、高品質で得られること
は、初めて見出だされたものであって、その場合、第1
段階においては、一般式(II)
【0007】
【化6】
【0008】[式中、Yは、上記意味を有する]のピリ
ジン1−オキシドが、有機窒素塩基Aおよび求電子化合
物と、必要ならば希釈剤の存在下で、反応して、一般式
(III)
ジン1−オキシドが、有機窒素塩基Aおよび求電子化合
物と、必要ならば希釈剤の存在下で、反応して、一般式
(III)
【0009】
【化7】
【0010】[式中、Aは、有機窒素塩基の遊離基を表
し、Yは、上記意味を有し、Z-は、求電子化合物から
生じる陰イオンを表す]の化合物を生成し、式(II
I)の化合物は、必要ならば単離されるか、または必要
ならばさらに精製され、そして第2段階では、これらの
化合物が、ハロゲン化剤と、必要ならばハロゲン化アル
キルの存在下および必要ならば希釈剤の存在下で、温度
10℃〜150℃で、反応する。
し、Yは、上記意味を有し、Z-は、求電子化合物から
生じる陰イオンを表す]の化合物を生成し、式(II
I)の化合物は、必要ならば単離されるか、または必要
ならばさらに精製され、そして第2段階では、これらの
化合物が、ハロゲン化剤と、必要ならばハロゲン化アル
キルの存在下および必要ならば希釈剤の存在下で、温度
10℃〜150℃で、反応する。
【0011】驚くべきことに、式(I)の2−ハロゲノ
−ピリジン誘導体類は、高収率に、そしてかなり改善さ
れた異性体純度(既知の方法と比較して)において、得
ることができる。式(III)の未反応中間生成物は、
再びこの方法において使用される。
−ピリジン誘導体類は、高収率に、そしてかなり改善さ
れた異性体純度(既知の方法と比較して)において、得
ることができる。式(III)の未反応中間生成物は、
再びこの方法において使用される。
【0012】かくして、本発明による方法は、先行技術
に比べ評価の高い優位性を有する。
に比べ評価の高い優位性を有する。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明による方法は、好
ましくは、次の式(I)の化合物の製造に関するもので
あって、その場合、Xは、フッ素、塩素、臭素もしくは
ヨウ素を表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ニ
トロ、ホルミル、シアノ、カルボキシルもしくはカルバ
モイルを表すか、または、フッ素、塩素もしくは臭素に
より(一ないし三置換)またはC1−C4−アルコキシに
より(一ないし二置換)任意に置換されているC1−C4
−アルキルを表すか、または、C1−C4−アルコキシ−
カルボニル、C1−C4−アルキルアミノ−カルボニルも
しくはジ−(C1−C4−アルキル)−アミノ−カルボニ
ルを表す。
ましくは、次の式(I)の化合物の製造に関するもので
あって、その場合、Xは、フッ素、塩素、臭素もしくは
ヨウ素を表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ニ
トロ、ホルミル、シアノ、カルボキシルもしくはカルバ
モイルを表すか、または、フッ素、塩素もしくは臭素に
より(一ないし三置換)またはC1−C4−アルコキシに
より(一ないし二置換)任意に置換されているC1−C4
−アルキルを表すか、または、C1−C4−アルコキシ−
カルボニル、C1−C4−アルキルアミノ−カルボニルも
しくはジ−(C1−C4−アルキル)−アミノ−カルボニ
ルを表す。
【0014】本発明による方法は、特に、次の式(I)
の化合物の製造に関するものであって、その場合、X
は、フッ素、塩素、もしくは臭素を表し、Yは、フッ
素、塩素、臭素、ホルミル、シアノ、カルボキシル、カ
ルバモイル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n
−、i−、s−もしくはt−ブチル、トリフルオロメチ
ル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、ジフルオロ
メチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメ
チル、クロロメチル、ブロモメチル、メトキシメチル、
エトキシメチル、n−もしくはi−プロポキシメチル、
n−、i−、s−もしくはt−ブトキシメチル、ジメト
キシメチルもしくはジエトキシメチル、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、メチルアミノカルボニル、
エチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニルも
しくはジエチルアミノカルボニルを表す。
の化合物の製造に関するものであって、その場合、X
は、フッ素、塩素、もしくは臭素を表し、Yは、フッ
素、塩素、臭素、ホルミル、シアノ、カルボキシル、カ
ルバモイル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n
−、i−、s−もしくはt−ブチル、トリフルオロメチ
ル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、ジフルオロ
メチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメ
チル、クロロメチル、ブロモメチル、メトキシメチル、
エトキシメチル、n−もしくはi−プロポキシメチル、
n−、i−、s−もしくはt−ブトキシメチル、ジメト
キシメチルもしくはジエトキシメチル、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、メチルアミノカルボニル、
エチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニルも
しくはジエチルアミノカルボニルを表す。
【0015】もし、例えば、3−フルオロ−ピリジン1
−オキシドが、出発物質として使用され、第1操作段階
において、トリメトキシアミンが、有機窒素塩基として
使用され、ホスゲンが、求電子化合物として使用され、
そして第2操作段階において、ホスゲンが、ハロゲン化
剤として使用されるならば、本発明による方法における
反応経路は、大略、次の式によって示すことができる:
−オキシドが、出発物質として使用され、第1操作段階
において、トリメトキシアミンが、有機窒素塩基として
使用され、ホスゲンが、求電子化合物として使用され、
そして第2操作段階において、ホスゲンが、ハロゲン化
剤として使用されるならば、本発明による方法における
反応経路は、大略、次の式によって示すことができる:
【0016】
【化8】
【0017】式(II)は、式(I)の化合物の製造の
ための本発明による方法において、出発物質として使用
され得るピリジン1−オキシドの一般的定義を提供す
る。
ための本発明による方法において、出発物質として使用
され得るピリジン1−オキシドの一般的定義を提供す
る。
【0018】式(II)において、Yは、好ましくは、
または特に、本発明によって作製されるべき式(I)の
化合物の記述に関連して、好適なもしくは特に好適なも
のとして既に前述された意味を有する。
または特に、本発明によって作製されるべき式(I)の
化合物の記述に関連して、好適なもしくは特に好適なも
のとして既に前述された意味を有する。
【0019】式(II)の出発物質は、既知の有機化学
物質である(J.Chem.Soc.1959,368
0−3683,J.Med.Chem.11(196
8),1172−1176;Liebigs Ann.
Chem.618(1958),152−158,Z
Chem.10(1970),184−185、参
照)。
物質である(J.Chem.Soc.1959,368
0−3683,J.Med.Chem.11(196
8),1172−1176;Liebigs Ann.
Chem.618(1958),152−158,Z
Chem.10(1970),184−185、参
照)。
【0020】式(III)は、本発明による方法の第1
段階において形成される付加物の一般的定義を提供す
る。
段階において形成される付加物の一般的定義を提供す
る。
【0021】好ましくは、式(III)において、A
は、トリ−(C1−C4−アルキル)−アミン、N,N−
ジ−(C1−C4−アルキル)−ベンジルアミン、N,N
−ジ−(C1−C4−アルキル)−シクロヘキシルアミン
を含んでなる群から選ばれる有機窒素塩基を表すか、ま
たは任意に、C1−C4−アルキルによって一ないし三置
換されているピリジンを表し、Z-は、塩素イオンもし
くはC1−C4−アルキル−カルボン酸イオンを表し、Y
は、好ましくは、本発明によって作製されるべき式
(I)の化合物の記述に関連して、好適なものとして既
に前述された意味を有する。
は、トリ−(C1−C4−アルキル)−アミン、N,N−
ジ−(C1−C4−アルキル)−ベンジルアミン、N,N
−ジ−(C1−C4−アルキル)−シクロヘキシルアミン
を含んでなる群から選ばれる有機窒素塩基を表すか、ま
たは任意に、C1−C4−アルキルによって一ないし三置
換されているピリジンを表し、Z-は、塩素イオンもし
くはC1−C4−アルキル−カルボン酸イオンを表し、Y
は、好ましくは、本発明によって作製されるべき式
(I)の化合物の記述に関連して、好適なものとして既
に前述された意味を有する。
【0022】特に、式(III)において、Aは、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン、N,N−ジメチル−ベンジルア
ミン、N,N−ジエチルベンジルアミン、N,N−ジメチ
ル−シクロヘキシルアミン、N,N−ジエチル−シクロ
ヘキシルアミンまたは任意に、メチルもしくはエチルに
よって一ないし二置換されているピリジンを表し、Z-
は、塩素イオンもしくは酢酸イオンを表し、Yは、特
に、本発明によって作製されるべき式(I)の化合物の
記述に関連して、特に好適なものとして既に前述された
意味を有する。式(III)の付加物は、塩化トリメチ
ル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アンモニウ
ムおよび塩化トリエチル−(5−メチル−ピリジン−2
−イル)−アンモニウム(先行出願、DE−P 420
4920、参照)を除いて、まだ文献からは知られてい
ないものであり、新規な化学化合物として、本特許出願
の主題とされる。
メチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン、N,N−ジメチル−ベンジルア
ミン、N,N−ジエチルベンジルアミン、N,N−ジメチ
ル−シクロヘキシルアミン、N,N−ジエチル−シクロ
ヘキシルアミンまたは任意に、メチルもしくはエチルに
よって一ないし二置換されているピリジンを表し、Z-
は、塩素イオンもしくは酢酸イオンを表し、Yは、特
に、本発明によって作製されるべき式(I)の化合物の
記述に関連して、特に好適なものとして既に前述された
意味を有する。式(III)の付加物は、塩化トリメチ
ル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アンモニウ
ムおよび塩化トリエチル−(5−メチル−ピリジン−2
−イル)−アンモニウム(先行出願、DE−P 420
4920、参照)を除いて、まだ文献からは知られてい
ないものであり、新規な化学化合物として、本特許出願
の主題とされる。
【0023】本発明による方法は、第1段階では、有機
窒素塩基Aを用いて実施される。好適なもしくは特に好
適なAの意味は、式(III)の化合物の定義から理解
することができる。
窒素塩基Aを用いて実施される。好適なもしくは特に好
適なAの意味は、式(III)の化合物の定義から理解
することができる。
【0024】トリメチルアミンは、特別に、本発明によ
る方法のための有機窒素塩基として好適なものである。
る方法のための有機窒素塩基として好適なものである。
【0025】さらに、求電子化合物が、本発明による方
法の第1段階において使用される。本発明による方法の
ために好適な求電子化合物は、酸塩化物および酸無水物
であり、例えば、塩化アセチル、塩化プロピオニル、無
水酢酸、無水プロピオン酸、塩化ベンゾイル、ベンゾト
リクロリド、ホスゲン、塩化オキサリル、塩化ベンゼン
スルホニル、塩化p−トルエンスルホニル、三塩化リ
ン、塩化ホスホリル、五塩化リン、塩化チオニル、塩化
スルフリル、塩化ジクロロメチレン−ジメチルアンモニ
ウム、シアヌル酸塩化物およびクロロトリメチルシラン
である。
法の第1段階において使用される。本発明による方法の
ために好適な求電子化合物は、酸塩化物および酸無水物
であり、例えば、塩化アセチル、塩化プロピオニル、無
水酢酸、無水プロピオン酸、塩化ベンゾイル、ベンゾト
リクロリド、ホスゲン、塩化オキサリル、塩化ベンゼン
スルホニル、塩化p−トルエンスルホニル、三塩化リ
ン、塩化ホスホリル、五塩化リン、塩化チオニル、塩化
スルフリル、塩化ジクロロメチレン−ジメチルアンモニ
ウム、シアヌル酸塩化物およびクロロトリメチルシラン
である。
【0026】ホスゲン、塩化チオニル、塩化スルフリ
ル、塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化p−トルエンス
ルホニルが、本発明による方法のために使用される特に
好適な求電子物質である。
ル、塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化p−トルエンス
ルホニルが、本発明による方法のために使用される特に
好適な求電子物質である。
【0027】本発明による方法は、第2段階で、ハロゲ
ン化剤を用いて実施される。本発明による方法における
好適なハロゲン化剤は、他の反応パートナーに対してハ
ロゲンイオンを供与できる化合物であり、例えば、塩化
アセチル、塩化ベンゾイル、ホスゲン、塩化オキサリ
ル、塩化ベンゼンスルホニル、三塩化リン、三臭化リ
ン、塩化ホスホリル、五塩化リン、塩化チオニル、塩化
スルフリル、塩化水素、フッ化水素、臭化水素、塩化テ
トラエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウ
ムおよび塩化ベンジル−トリエチルアンモニウムであ
る。
ン化剤を用いて実施される。本発明による方法における
好適なハロゲン化剤は、他の反応パートナーに対してハ
ロゲンイオンを供与できる化合物であり、例えば、塩化
アセチル、塩化ベンゾイル、ホスゲン、塩化オキサリ
ル、塩化ベンゼンスルホニル、三塩化リン、三臭化リ
ン、塩化ホスホリル、五塩化リン、塩化チオニル、塩化
スルフリル、塩化水素、フッ化水素、臭化水素、塩化テ
トラエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウ
ムおよび塩化ベンジル−トリエチルアンモニウムであ
る。
【0028】ホスゲン、フッ化水素、塩化水素および臭
化水素が、本発明による方法の第2段階において特に好
適なハロゲン化剤である。
化水素が、本発明による方法の第2段階において特に好
適なハロゲン化剤である。
【0029】本発明による方法は、第2段階で、必要な
らば、ハロゲン化アルキルの存在で実施される。好適な
ハロゲン化アルキルは、塩化メチル、臭化メチル、塩化
エチル、塩化プロピルおよび塩化ブチル、特に塩化メチ
ルである。
らば、ハロゲン化アルキルの存在で実施される。好適な
ハロゲン化アルキルは、塩化メチル、臭化メチル、塩化
エチル、塩化プロピルおよび塩化ブチル、特に塩化メチ
ルである。
【0030】第1段階において、本発明による方法は、
好ましくは、希釈剤を用いて実施される。使用できる希
釈剤は、実用的にすべての不活性有機溶媒である。これ
らは、好ましくは、脂肪族および芳香族の、任意にハロ
ゲン化されている炭化水素類、例えばペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジ
ン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化
メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
クロロベンゼンおよびo−ジクロロベンゼン、エーテル
類、例えばジエチルおよびジブチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテルおよびジグリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフランおよびジオキサン、ケトン類、
例えばアセトンおよびメチルエチル、メチルイソプロピ
ルおよびメチルイソブチルケトン、エステル類、例えば
酢酸メチルおよびエチル、ニトリル類、例えばアセトニ
トリルおよびプロピオニトリル、アミド類、例えばジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびN−メ
チルピロリドン、およびジメチルスルホキシド、テトラ
メチレンスルホンおよびヘキサメチルリン酸トリアミド
である。
好ましくは、希釈剤を用いて実施される。使用できる希
釈剤は、実用的にすべての不活性有機溶媒である。これ
らは、好ましくは、脂肪族および芳香族の、任意にハロ
ゲン化されている炭化水素類、例えばペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジ
ン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化
メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
クロロベンゼンおよびo−ジクロロベンゼン、エーテル
類、例えばジエチルおよびジブチルエーテル、グリコー
ルジメチルエーテルおよびジグリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフランおよびジオキサン、ケトン類、
例えばアセトンおよびメチルエチル、メチルイソプロピ
ルおよびメチルイソブチルケトン、エステル類、例えば
酢酸メチルおよびエチル、ニトリル類、例えばアセトニ
トリルおよびプロピオニトリル、アミド類、例えばジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびN−メ
チルピロリドン、およびジメチルスルホキシド、テトラ
メチレンスルホンおよびヘキサメチルリン酸トリアミド
である。
【0031】必要ならば、本発明による方法は、また第
2段階においても希釈剤の存在で実施される。この場合
使用できる希釈剤は、水に加えて、実用的にすべての不
活性溶媒である。これらは、好ましくは、アルコール
類、例えばメタノール、エタノールおよびn−およびi
−プロパノール、カルボン酸類、例えばギ酸、酢酸およ
びプロピオン酸、および本発明による方法の第1段階の
ための前記溶媒類である。
2段階においても希釈剤の存在で実施される。この場合
使用できる希釈剤は、水に加えて、実用的にすべての不
活性溶媒である。これらは、好ましくは、アルコール
類、例えばメタノール、エタノールおよびn−およびi
−プロパノール、カルボン酸類、例えばギ酸、酢酸およ
びプロピオン酸、および本発明による方法の第1段階の
ための前記溶媒類である。
【0032】もし、トリメチルアミンが、有機窒素塩基
として使用される場合には、本発明による方法の第1段
階は、一般に、温度範囲−50℃〜+120℃、好まし
くは、−30℃〜+80℃において実施される。もし、
トリメチルアミン以外の他の有機窒素塩基が使用される
場合には、その第1段階は、一般に、温度範囲−30℃
〜+100℃、好ましくは、−15℃〜+10℃におい
て実施される。
として使用される場合には、本発明による方法の第1段
階は、一般に、温度範囲−50℃〜+120℃、好まし
くは、−30℃〜+80℃において実施される。もし、
トリメチルアミン以外の他の有機窒素塩基が使用される
場合には、その第1段階は、一般に、温度範囲−30℃
〜+100℃、好ましくは、−15℃〜+10℃におい
て実施される。
【0033】本発明による方法の第1段階は、一般に、
常圧で実施される。しかしながら、第1段階を加圧下も
しくは減圧下、一般に0.1〜100barにおいて実
施することも可能である。
常圧で実施される。しかしながら、第1段階を加圧下も
しくは減圧下、一般に0.1〜100barにおいて実
施することも可能である。
【0034】本発明による方法の第1段階を実施するた
めに、一般に、有機窒素塩基の1〜10mol、好まし
くは、1〜5mol、および求電子化合物の1〜10m
ol、好ましくは、1〜5molが、式(II)の出発
化合物のモル量当たり使用される。
めに、一般に、有機窒素塩基の1〜10mol、好まし
くは、1〜5mol、および求電子化合物の1〜10m
ol、好ましくは、1〜5molが、式(II)の出発
化合物のモル量当たり使用される。
【0035】本発明による方法の第1段階の好適な実施
態様においては、式(II)の出発化合物は、最初に希
釈剤中に添加され、冷却後、まず有機窒素塩基が、次
に、求電子化合物が、連続的に撹拌されながら、徐々に
計量添加される。
態様においては、式(II)の出発化合物は、最初に希
釈剤中に添加され、冷却後、まず有機窒素塩基が、次
に、求電子化合物が、連続的に撹拌されながら、徐々に
計量添加される。
【0036】反応の終了後、必要ならば、比較的揮発性
の成分が、減圧下で溜去される。実質的に式(III)
の付加物を含む粗中間生成物は、常法、例えばカラムク
ロマトグラフィーによって精製されるか、または粗製物
の状態で第2段階において使用されてもよい。
の成分が、減圧下で溜去される。実質的に式(III)
の付加物を含む粗中間生成物は、常法、例えばカラムク
ロマトグラフィーによって精製されるか、または粗製物
の状態で第2段階において使用されてもよい。
【0037】好ましくは、そのような粗中間生成物は、
場合により、希釈剤を除去することなしに、第2段階に
おいて使用される。
場合により、希釈剤を除去することなしに、第2段階に
おいて使用される。
【0038】本発明による方法の第2段階は、一般に、
温度範囲10℃〜150℃、好ましくは、20℃〜12
0℃、特に30℃〜110℃において実施される。
温度範囲10℃〜150℃、好ましくは、20℃〜12
0℃、特に30℃〜110℃において実施される。
【0039】本発明による方法の第2段階は、一般に、
常圧で実施される。しかしながら、第2段階を加圧下も
しくは減圧下、一般に0.01〜200barにおいて
実施することも可能である。
常圧で実施される。しかしながら、第2段階を加圧下も
しくは減圧下、一般に0.01〜200barにおいて
実施することも可能である。
【0040】後処理は、常法において実施することがで
きる。例えば、粗生成物は、事実上、水と混合しない有
機溶媒に溶かされ、水で洗浄され、乾燥される。減圧蒸
留によって有機溶媒を注意深く除去した後には、実質的
に式(I)の生成物を含む残留物が残る。
きる。例えば、粗生成物は、事実上、水と混合しない有
機溶媒に溶かされ、水で洗浄され、乾燥される。減圧蒸
留によって有機溶媒を注意深く除去した後には、実質的
に式(I)の生成物を含む残留物が残る。
【0041】本発明による方法によって作製される2−
ハロゲノ−ピリジン誘導体類は、医薬品(DE−A 2
812585、参照)もしくは植物処理剤(DE−A
2630046、欧州特許出願第192060号公開、
DE−A 3726993、DE−A 392468
2、参照)の製造のための中間産物として使用すること
ができる。
ハロゲノ−ピリジン誘導体類は、医薬品(DE−A 2
812585、参照)もしくは植物処理剤(DE−A
2630046、欧州特許出願第192060号公開、
DE−A 3726993、DE−A 392468
2、参照)の製造のための中間産物として使用すること
ができる。
【0042】
【実施例】作製実施例 : (実施例1)第1段階 :
【0043】
【化9】
【0044】トリメチルアミン47.2g(0.8mo
l)が、−25℃において、1,2−ジクロロエタン2
50mlに溶かされた3−クロロピリジンN−オキシド
32.4g(0.25mol)溶液に濃厚に添加される。
塩化ベンゼンスルホニル52.95g(0.31mol)
を、0℃において40分掛けて滴下する。その混合液を
0℃で2時間撹拌し、その後、一夜放置する。それを5
0℃以下の温浴で真空濃縮し、その残留物をカラムクロ
マトグラフィーの繰り返しによって精製する。
l)が、−25℃において、1,2−ジクロロエタン2
50mlに溶かされた3−クロロピリジンN−オキシド
32.4g(0.25mol)溶液に濃厚に添加される。
塩化ベンゼンスルホニル52.95g(0.31mol)
を、0℃において40分掛けて滴下する。その混合液を
0℃で2時間撹拌し、その後、一夜放置する。それを5
0℃以下の温浴で真空濃縮し、その残留物をカラムクロ
マトグラフィーの繰り返しによって精製する。
【0045】塩化トリメチル−2−(5−クロロピリジ
ル)−アンモニウム24.3g(理論量の47%)を得
る。
ル)−アンモニウム24.3g(理論量の47%)を得
る。
【0046】1H―NMR(300MHz、D6―DMS
O:δ/ppm=3.63(9H,一重線)、8.25
(IH,二重線,j=8.7Hz)、8.42(IH,二
重線の二重線,J1=9Hz,J2=2.4Hz,8.77
(IH,二重線,J=2.4Hz)。
O:δ/ppm=3.63(9H,一重線)、8.25
(IH,二重線,j=8.7Hz)、8.42(IH,二
重線の二重線,J1=9Hz,J2=2.4Hz,8.77
(IH,二重線,J=2.4Hz)。
【0047】第2段階:
【0048】
【化10】
【0049】塩化トリメチル−2−(5−クロロピリジ
ル)−アンモニウムが、3−クロロピリジンN−オキシ
ド32.4g(0.25mol)から出発する上記明細と
同様にして作製されるが、カラムクロマトグラフィーに
よるその粗生成物の精製を行わない。粗生成物は、1,
2−ジクロロエタン500ml中に添加され、塩化水素
ガスを50℃で30時間添加する。次いで、その混合液
を濃縮し、残留物を水に溶かしてとり、その混合液を希
水酸化ナトリウム溶液でpH9−10にして、塩化メチ
レンで3回抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮す
る。次いで、その粗生成物をカラムクロマトグラフィー
で精製する。
ル)−アンモニウムが、3−クロロピリジンN−オキシ
ド32.4g(0.25mol)から出発する上記明細と
同様にして作製されるが、カラムクロマトグラフィーに
よるその粗生成物の精製を行わない。粗生成物は、1,
2−ジクロロエタン500ml中に添加され、塩化水素
ガスを50℃で30時間添加する。次いで、その混合液
を濃縮し、残留物を水に溶かしてとり、その混合液を希
水酸化ナトリウム溶液でpH9−10にして、塩化メチ
レンで3回抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮す
る。次いで、その粗生成物をカラムクロマトグラフィー
で精製する。
【0050】2,5−ジクロロピリジン19.7g(使用
された3−クロロピリジンN−オキシドに対する理論量
の53%)を得る。
された3−クロロピリジンN−オキシドに対する理論量
の53%)を得る。
【0051】(実施例2)第1段階 :
【0052】
【化11】
【0053】トリメチルアミン41.9g(0.71mo
l)が、−25℃において、1,2−ジクロロエタン2
50mlに溶かされた3−ブロモピリジンN−オキシド
37.4g(0.215mol)溶液に濃厚に添加され
る。塩化ベンゼンスルホニル45.6g(0.258mo
l)を、0℃において1時間掛けて滴下する。その混合
液を0℃で2時間連続撹拌し、その後、一夜放置する。
それを50℃以下の温浴で真空濃縮し、その残留物を数
回のカラムクロマトグラフィー操作によって精製する。
l)が、−25℃において、1,2−ジクロロエタン2
50mlに溶かされた3−ブロモピリジンN−オキシド
37.4g(0.215mol)溶液に濃厚に添加され
る。塩化ベンゼンスルホニル45.6g(0.258mo
l)を、0℃において1時間掛けて滴下する。その混合
液を0℃で2時間連続撹拌し、その後、一夜放置する。
それを50℃以下の温浴で真空濃縮し、その残留物を数
回のカラムクロマトグラフィー操作によって精製する。
【0054】塩化トリメチル−2−(5−ブロモピリジ
ル)−アンモニウム27.4g(理論量の50.7%)を
得る。
ル)−アンモニウム27.4g(理論量の50.7%)を
得る。
【0055】1H―NMR(300MHz、D6―DMS
O:δ/ppm=3.61(9H,一重線)、8.145
(IH,二重線,J=8.7Hz)、8.54(IH,二
重線の二重線,J1=9Hz,J2=2.4HZ)、8.8
5(IH,二重線,J=2.4Hz)。
O:δ/ppm=3.61(9H,一重線)、8.145
(IH,二重線,J=8.7Hz)、8.54(IH,二
重線の二重線,J1=9Hz,J2=2.4HZ)、8.8
5(IH,二重線,J=2.4Hz)。
【0056】第2段階:
【0057】
【化12】
【0058】塩化トリメチル−2−(5−ブロモピリジ
ル)−アンモニウムが、3−ブロモピリジンN−オキシ
ド52.2g(0.3mol)から出発する上記明細と同
様にして作製されるが、カラムクロマトグラフィーによ
るその粗生成物の精製を行わない。粗生成物は、1,2
−ジクロロエタン500ml中に添加され、塩化水素ガ
スを50℃で30時間添加する。次いで、その混合液を
濃縮し、残留物を水に溶かしてとり、その混合液を希水
酸化ナトリウム溶液でアルカリ性(pH9−10)にし
て、塩化メチレンで3回抽出する。合わせた有機相を硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターで濃縮する。その粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィーで精製する。
ル)−アンモニウムが、3−ブロモピリジンN−オキシ
ド52.2g(0.3mol)から出発する上記明細と同
様にして作製されるが、カラムクロマトグラフィーによ
るその粗生成物の精製を行わない。粗生成物は、1,2
−ジクロロエタン500ml中に添加され、塩化水素ガ
スを50℃で30時間添加する。次いで、その混合液を
濃縮し、残留物を水に溶かしてとり、その混合液を希水
酸化ナトリウム溶液でアルカリ性(pH9−10)にし
て、塩化メチレンで3回抽出する。合わせた有機相を硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、ロータリーエバポレー
ターで濃縮する。その粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィーで精製する。
【0059】5−ブロモ−2−クロロピリジン32.7
g(使用された3−ブロモピリジンN−オキシドに対す
る理論量の56.6%)を得る。
g(使用された3−ブロモピリジンN−オキシドに対す
る理論量の56.6%)を得る。
【0060】(実施例3)
【0061】
【化13】
【0062】塩化トリメチル−2−(5−シアノピリジ
ル)−アンモニウム6g(0.03mol)が、1,2−
ジクロロエタン80ml中に添加され、塩化水素ガスを
50℃で5時間添加する。次いで、その混合液を濃縮
し、残留物を水に溶かしてとり、その混合液を水酸化ナ
トリウム溶液でpH9−10にして、塩化メチレンで3
回抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮する。
ル)−アンモニウム6g(0.03mol)が、1,2−
ジクロロエタン80ml中に添加され、塩化水素ガスを
50℃で5時間添加する。次いで、その混合液を濃縮
し、残留物を水に溶かしてとり、その混合液を水酸化ナ
トリウム溶液でpH9−10にして、塩化メチレンで3
回抽出する。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮する。
【0063】2−クロロ−5−シアノピリジン3.8g
(理論量の91%)を得る。
(理論量の91%)を得る。
【0064】(実施例4)
【0065】
【化14】
【0066】3−メチルピリジン1−オキシド54.5
g(0.5mol)を、最初に塩化メチレン350ml
中に添加し、その混合液を0℃に冷却する。この混合液
に、トリメチルアミン202g(2mol)を、この温
度で濃厚に溶解させる。次に、ホスゲン148.5g
(1.6mol)を流入し、その間、温度を強い冷却に
よって0℃に保つ。その反応を終了後、過剰のホスゲン
を20℃で水流ポンプ真空下で除去する。その残留物を
1,2−ジクロロエタン350mlに溶解し、無水フッ
化水素30g(1.5mol)を添加する。その装置を
密封し、窒素圧を10barに適用し、その混合液を1
20℃に加熱する。この温度で20時間撹拌する。次い
で、冷却し、過剰のフッ化水素を水流ポンプ減圧で除去
し、残留物を氷上に注ぐ。混合液を固形水酸化カリウム
でアルカリ性にして、塩化メチレンで抽出する。その有
機相を乾燥後、濃縮し、残留物を乾固する。
g(0.5mol)を、最初に塩化メチレン350ml
中に添加し、その混合液を0℃に冷却する。この混合液
に、トリメチルアミン202g(2mol)を、この温
度で濃厚に溶解させる。次に、ホスゲン148.5g
(1.6mol)を流入し、その間、温度を強い冷却に
よって0℃に保つ。その反応を終了後、過剰のホスゲン
を20℃で水流ポンプ真空下で除去する。その残留物を
1,2−ジクロロエタン350mlに溶解し、無水フッ
化水素30g(1.5mol)を添加する。その装置を
密封し、窒素圧を10barに適用し、その混合液を1
20℃に加熱する。この温度で20時間撹拌する。次い
で、冷却し、過剰のフッ化水素を水流ポンプ減圧で除去
し、残留物を氷上に注ぐ。混合液を固形水酸化カリウム
でアルカリ性にして、塩化メチレンで抽出する。その有
機相を乾燥後、濃縮し、残留物を乾固する。
【0067】2−フルオロ−5−メチルピリジン(沸点
48-45=65−75℃)38g(理論量の68.5%)を
得る。
48-45=65−75℃)38g(理論量の68.5%)を
得る。
【0068】本発明の特徴および態様は以下のとおりで
ある。
ある。
【0069】1.一般式(I)
【0070】
【化15】
【0071】[式中、Xは、ハロゲンを表し、Yは、ハ
ロゲン、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシル、カ
ルバモイル、アルキル、ハロゲノアルキル、アルコキシ
アルキル、ジアルコキシアルキル、アルコキシカルボニ
ル、アルキルアミノカルボニルもしくはジアルキルアミ
ノカルボニルを表すが、Xが塩素を表し、Yが同時にメ
チルを表す化合物は除く]の2−ハロゲノ−ピリジン誘
導体類の製造方法であって、次のことを特徴とする:第
1段階においては、一般式(II)
ロゲン、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシル、カ
ルバモイル、アルキル、ハロゲノアルキル、アルコキシ
アルキル、ジアルコキシアルキル、アルコキシカルボニ
ル、アルキルアミノカルボニルもしくはジアルキルアミ
ノカルボニルを表すが、Xが塩素を表し、Yが同時にメ
チルを表す化合物は除く]の2−ハロゲノ−ピリジン誘
導体類の製造方法であって、次のことを特徴とする:第
1段階においては、一般式(II)
【0072】
【化16】
【0073】[式中、Yは、上記意味を有する]のピリ
ジン1−オキシドが、有機窒素塩基Aおよび求電子化合
物と、必要ならば希釈剤の存在下で、反応して、一般式
(III)
ジン1−オキシドが、有機窒素塩基Aおよび求電子化合
物と、必要ならば希釈剤の存在下で、反応して、一般式
(III)
【0074】
【化17】
【0075】[式中、Aは、有機窒素塩基の遊離基を表
し、Yは、上記意味を有し、Z-は、求電子化合物から
生じる陰イオンを表す]の化合物を生成し、式(II
I)の化合物は、必要ならば単離されるか、または必要
ならばさらに精製され、そして第2段階では、これらの
化合物が、ハロゲン化剤と、必要ならばハロゲン化アル
キルの存在下および必要ならば希釈剤の存在下で、温度
10℃〜150℃で、反応する。
し、Yは、上記意味を有し、Z-は、求電子化合物から
生じる陰イオンを表す]の化合物を生成し、式(II
I)の化合物は、必要ならば単離されるか、または必要
ならばさらに精製され、そして第2段階では、これらの
化合物が、ハロゲン化剤と、必要ならばハロゲン化アル
キルの存在下および必要ならば希釈剤の存在下で、温度
10℃〜150℃で、反応する。
【0076】2.上記1記載の方法であって、次のこと
を特徴とする:すなわち、Xは、フッ素、塩素、臭素も
しくはヨウ素を表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシルもしくは
カルバモイルを表すか、または、フッ素、塩素もしくは
臭素により(一ないし三置換)またはC1−C4−アルコ
キシにより(一ないし二置換)任意に置換されているC
1−C4−アルキルを表すか、または、C1−C4−アルコ
キシ−カルボニル、C1−C4−アルキルアミノ−カルボ
ニルもしくはジ−(C1−C4−アルキル)−アミノ−カ
ルボニルを表すが、Xが塩素を表し、Yが同時にメチル
を表す化合物は除く。
を特徴とする:すなわち、Xは、フッ素、塩素、臭素も
しくはヨウ素を表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシルもしくは
カルバモイルを表すか、または、フッ素、塩素もしくは
臭素により(一ないし三置換)またはC1−C4−アルコ
キシにより(一ないし二置換)任意に置換されているC
1−C4−アルキルを表すか、または、C1−C4−アルコ
キシ−カルボニル、C1−C4−アルキルアミノ−カルボ
ニルもしくはジ−(C1−C4−アルキル)−アミノ−カ
ルボニルを表すが、Xが塩素を表し、Yが同時にメチル
を表す化合物は除く。
【0077】3.上記1記載の方法であって、次のこと
を特徴とする:すなわち、Xは、フッ素、塩素、もしく
は臭素を表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ホルミル、
シアノ、カルボキシル、カルバモイル、エチル、n−も
しくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブ
ロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブ
ロモメチル、フルオロメチル、クロロメチル、ブロモメ
チル、メトキシメチル、エトキシメチル、n−もしくは
i−プロポキシメチル、n−、i−、s−もしくはt−
ブトキシメチル、ジメトキシメチルもしくはジエトキシ
メチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メ
チルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、ジメ
チルアミノカルボニルもしくはジエチルアミノカルボニ
ルを表す。
を特徴とする:すなわち、Xは、フッ素、塩素、もしく
は臭素を表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ホルミル、
シアノ、カルボキシル、カルバモイル、エチル、n−も
しくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt−ブ
チル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、トリブ
ロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブ
ロモメチル、フルオロメチル、クロロメチル、ブロモメ
チル、メトキシメチル、エトキシメチル、n−もしくは
i−プロポキシメチル、n−、i−、s−もしくはt−
ブトキシメチル、ジメトキシメチルもしくはジエトキシ
メチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メ
チルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、ジメ
チルアミノカルボニルもしくはジエチルアミノカルボニ
ルを表す。
【0078】4.式(III)の化合物
【0079】
【化18】
【0080】[式中、Aは、有機窒素塩基の陽イオン基
を表し、Zは、求電子化合物において形成される陰イオ
ンを表し、そしてYは、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、
シアノ、カルボキシル、カルバモイル、アルキル、ハロ
ゲノアルキル、アルコキシアルキル、ジアルコキシアル
キル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニ
ルもしくはジアルキルアミノカルボニルを表す]であっ
て、塩化トリメチル−(5−メチル−ピリジン−2−イ
ル)−アンモニウムおよび塩化トリエチル−(5−メチ
ル−ピリジン−2−イル)−アンモニウムは除く。
を表し、Zは、求電子化合物において形成される陰イオ
ンを表し、そしてYは、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、
シアノ、カルボキシル、カルバモイル、アルキル、ハロ
ゲノアルキル、アルコキシアルキル、ジアルコキシアル
キル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニ
ルもしくはジアルキルアミノカルボニルを表す]であっ
て、塩化トリメチル−(5−メチル−ピリジン−2−イ
ル)−アンモニウムおよび塩化トリエチル−(5−メチ
ル−ピリジン−2−イル)−アンモニウムは除く。
【0081】5.上記4記載の式(III)の化合物で
あって、この場合、Aは、トリ−(C1−C4−アルキ
ル)−アミン、N,N−ジ−(C1−C4−アルキル)−
ベンジルアミン、N,N−ジ−(C1−C4−アルキル)
−シクロヘキシルアミンを含んでなる群から選ばれる有
機窒素塩基を表すか、または任意に、C1−C4−アルキ
ルによって一ないし三置換されているピリジンを表し、
Z-は、塩素イオンもしくはC1−C4−アルキル−カル
ボン酸イオンを表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシルもしくは
カルバモイルを表すか、または、フッ素、塩素もしくは
臭素により(一ないし三置換)またはC1−C4−アルコ
キシにより(一ないし二置換)任意に置換されているC
1−C4−アルキルを表すか、または、C1−C4−アルコ
キシ−カルボニル、C1−C4−アルキルアミノ−カルボ
ニルもしくはジ−(C1−C4−アルキル)−アミノ−カ
ルボニルを表すが、塩化トリメチル−(5−メチル−ピ
リジン−2−イル)−アンモニウムおよび塩化トリエチ
ル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アンモニウ
ムは除く。
あって、この場合、Aは、トリ−(C1−C4−アルキ
ル)−アミン、N,N−ジ−(C1−C4−アルキル)−
ベンジルアミン、N,N−ジ−(C1−C4−アルキル)
−シクロヘキシルアミンを含んでなる群から選ばれる有
機窒素塩基を表すか、または任意に、C1−C4−アルキ
ルによって一ないし三置換されているピリジンを表し、
Z-は、塩素イオンもしくはC1−C4−アルキル−カル
ボン酸イオンを表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素、ニトロ、ホルミル、シアノ、カルボキシルもしくは
カルバモイルを表すか、または、フッ素、塩素もしくは
臭素により(一ないし三置換)またはC1−C4−アルコ
キシにより(一ないし二置換)任意に置換されているC
1−C4−アルキルを表すか、または、C1−C4−アルコ
キシ−カルボニル、C1−C4−アルキルアミノ−カルボ
ニルもしくはジ−(C1−C4−アルキル)−アミノ−カ
ルボニルを表すが、塩化トリメチル−(5−メチル−ピ
リジン−2−イル)−アンモニウムおよび塩化トリエチ
ル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アンモニウ
ムは除く。
【0082】6.上記4記載の式(III)の化合物で
あって、この場合、Aは、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、
N,N−ジメチル−ベンジルアミン、N,N−ジエチルベ
ンジルアミン、N,N−ジメチル−シクロヘキシルアミ
ン、N,N−ジエチル−シクロヘキシルアミンまたは任
意に、メチルもしくはエチルによって一ないし二置換さ
れているピリジンを表し、Z-は、塩素イオンもしくは
酢酸イオンを表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ホルミ
ル、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、エチル、n
−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt
−ブチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ト
リブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、
ジブロモメチル、フルオロメチル、クロロメチル、ブロ
モメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、n−もし
くはi−プロポキシメチル、n−、i−、s−もしくは
t−ブトキシメチル、ジメトキシメチルもしくはジエト
キシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニ
ル、ジメチルアミノカルボニルもしくはジエチルアミノ
カルボニルを表すが、塩化トリメチル−(5−メチル−
ピリジン−2−イル)−アンモニウムおよび塩化トリエ
チル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アンモニ
ウムは除く。
あって、この場合、Aは、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、
N,N−ジメチル−ベンジルアミン、N,N−ジエチルベ
ンジルアミン、N,N−ジメチル−シクロヘキシルアミ
ン、N,N−ジエチル−シクロヘキシルアミンまたは任
意に、メチルもしくはエチルによって一ないし二置換さ
れているピリジンを表し、Z-は、塩素イオンもしくは
酢酸イオンを表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ホルミ
ル、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、エチル、n
−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt
−ブチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ト
リブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、
ジブロモメチル、フルオロメチル、クロロメチル、ブロ
モメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、n−もし
くはi−プロポキシメチル、n−、i−、s−もしくは
t−ブトキシメチル、ジメトキシメチルもしくはジエト
キシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニ
ル、ジメチルアミノカルボニルもしくはジエチルアミノ
カルボニルを表すが、塩化トリメチル−(5−メチル−
ピリジン−2−イル)−アンモニウムおよび塩化トリエ
チル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アンモニ
ウムは除く。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中、Xは、ハロゲンを表し、Yは、ハロゲン、ニト
ロ、ホルミル、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、
アルキル、ハロゲノアルキル、アルコキシアルキル、ジ
アルコキシアルキル、アルコキシカルボニル、アルキル
アミノカルボニルもしくはジアルキルアミノカルボニル
を表すが、Xが塩素を表し、Yが同時にメチルを表す化
合物は除く]の2−ハロゲノ−ピリジン誘導体類の製造
方法であって、次のことを特徴とする:第1段階におい
ては、一般式(II) 【化2】 [式中、Yは、上記意味を有する]のピリジン1−オキ
シドが、有機窒素塩基Aおよび求電子化合物と、必要な
らば希釈剤の存在下で、反応して、一般式(III) 【化3】 [式中、Aは、有機窒素塩基の遊離基を表し、Yは、上
記意味を有し、Z-は、求電子化合物から生じる陰イオ
ンを表す]の化合物を生成し、式(III)の化合物
は、必要ならば単離されるか、または必要ならばさらに
精製され、そして第2段階では、これらの化合物が、ハ
ロゲン化剤と、必要ならばハロゲン化アルキルの存在下
および必要ならば希釈剤の存在下で、温度10℃〜15
0℃で、反応する。 - 【請求項2】 式(III)の化合物 【化4】 [式中、Aは、有機窒素塩基の陽イオン基を表し、Z
は、求電子化合物において形成される陰イオンを表し、
そしてYは、ハロゲン、ニトロ、ホルミル、シアノ、カ
ルボキシル、カルバモイル、アルキル、ハロゲノアルキ
ル、アルコキシアルキル、ジアルコキシアルキル、アル
コキシカルボニル、アルキルアミノカルボニルもしくは
ジアルキルアミノカルボニルを表す]であって、塩化ト
リメチル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アン
モニウムおよび塩化トリエチル−(5−メチル−ピリジ
ン−2−イル)−アンモニウムは除く。 - 【請求項3】 請求項2記載の式(III)の化合物で
あって、この場合、Aは、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、
N,N−ジメチル−ベンジルアミン、N,N−ジエチルベ
ンジルアミン、N,N−ジメチル−シクロヘキシルアミ
ン、N,N−ジエチル−シクロヘキシルアミンまたは任
意に、メチルもしくはエチルによって一ないし二置換さ
れているピリジンを表し、Z-は、塩素イオンもしくは
酢酸イオンを表し、Yは、フッ素、塩素、臭素、ホルミ
ル、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、エチル、n
−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしくはt
−ブチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ト
リブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、
ジブロモメチル、フルオロメチル、クロロメチル、ブロ
モメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、n−もし
くはi−プロポキシメチル、n−、i−、s−もしくは
t−ブトキシメチル、ジメトキシメチルもしくはジエト
キシメチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニ
ル、ジメチルアミノカルボニルもしくはジエチルアミノ
カルボニルを表すが、塩化トリメチル−(5−メチル−
ピリジン−2−イル)−アンモニウムおよび塩化トリエ
チル−(5−メチル−ピリジン−2−イル)−アンモニ
ウムは除く。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934311247 DE4311247A1 (de) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | Verfahren zur Herstellung von 2-Halogen-pyridin-derivaten |
| DE4311247.1 | 1993-04-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06306049A true JPH06306049A (ja) | 1994-11-01 |
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ID=6484851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8373794A Pending JPH06306049A (ja) | 1993-04-06 | 1994-03-31 | 2−ハロゲノ−ピリジン誘導体類の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0619307A1 (ja) |
| JP (1) | JPH06306049A (ja) |
| CN (1) | CN1101036A (ja) |
| BR (1) | BR9401396A (ja) |
| DE (1) | DE4311247A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| TW201605852A (zh) * | 2013-09-26 | 2016-02-16 | 美國禮來大藥廠 | 新穎化合物及其製備tau造影劑及tau造影調配物之用途 |
| CN113235116B (zh) * | 2021-05-12 | 2022-08-16 | 齐鲁工业大学 | 一种溴代吡啶衍生物的电化学合成方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4020055A1 (de) * | 1990-01-18 | 1991-07-25 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von substituierten 2-chlor-pyridinen |
| DE4020053A1 (de) * | 1990-01-31 | 1991-08-01 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 2-chlor-5-methyl-pyridin |
| DE4020052A1 (de) * | 1990-06-23 | 1992-01-02 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 2-chlor-5-methyl-pyridin |
| DE4212595A1 (de) * | 1992-02-19 | 1993-08-26 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 2-chlor-5-methyl-pyridin |
-
1993
- 1993-04-06 DE DE19934311247 patent/DE4311247A1/de not_active Withdrawn
-
1994
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