JPH06256355A - 新規シラノール化合物、およびそれを用いた液晶基を有するモノマーの製造方法 - Google Patents
新規シラノール化合物、およびそれを用いた液晶基を有するモノマーの製造方法Info
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- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F30/00—Homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F30/04—Homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
- C08F30/08—Homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スぺーサー部に柔軟な化学構造を有する側鎖
型高分子液晶の前駆体となるモノマーの簡便な製造方法
を確立する。 【構成】 下記一般式(I)で表わされる重合基を有す
る新規シラノール化合物、および該化合物を合成中間体
として用いることによる、下記一般式(II)で表わさ
れる液晶基を有するモノマーの製造方法。 【化1】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アル
キル基またはフェニル基、R1〜R8は同一あるいは異な
っても良く、アルキル基またはフェニル基、Xは単結
合、酸素原子、または-COO-もしくは-OCO-で表わされる
基、Qは液晶基、pおよびqは2〜10の整数、mは0
〜5の整数である。) 【効果】 上記モノマーを重合することにより、室温あ
るいはそれ以下の温度から幅広い温度範囲で液晶相を発
現する側鎖型高分子液晶が得られる。
型高分子液晶の前駆体となるモノマーの簡便な製造方法
を確立する。 【構成】 下記一般式(I)で表わされる重合基を有す
る新規シラノール化合物、および該化合物を合成中間体
として用いることによる、下記一般式(II)で表わさ
れる液晶基を有するモノマーの製造方法。 【化1】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アル
キル基またはフェニル基、R1〜R8は同一あるいは異な
っても良く、アルキル基またはフェニル基、Xは単結
合、酸素原子、または-COO-もしくは-OCO-で表わされる
基、Qは液晶基、pおよびqは2〜10の整数、mは0
〜5の整数である。) 【効果】 上記モノマーを重合することにより、室温あ
るいはそれ以下の温度から幅広い温度範囲で液晶相を発
現する側鎖型高分子液晶が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、重合基を有する新規シ
ラノール化合物、およびそれを用いることによる、重合
基と液晶基とを繋ぐスペーサー部にシロキサン単位が3
個以上からなるポリシロキサン成分を含む化学結合を導
入した、液晶基を有するモノマーの製造方法に関するも
のである。本発明の製造方法により得られる液晶基を有
するモノマーは、主鎖と側鎖液晶基とを繋ぐスペーサー
部が柔軟なポリシロキサン結合を含む化学結合からなる
側鎖型高分子液晶を合成するための合成中間体として特
に有用である。
ラノール化合物、およびそれを用いることによる、重合
基と液晶基とを繋ぐスペーサー部にシロキサン単位が3
個以上からなるポリシロキサン成分を含む化学結合を導
入した、液晶基を有するモノマーの製造方法に関するも
のである。本発明の製造方法により得られる液晶基を有
するモノマーは、主鎖と側鎖液晶基とを繋ぐスペーサー
部が柔軟なポリシロキサン結合を含む化学結合からなる
側鎖型高分子液晶を合成するための合成中間体として特
に有用である。
【0002】
【発明の背景および従来技術】従来、側鎖に液晶基を有
する側鎖型高分子液晶はエレクトロニクス分野における
表示素子や記録材料として、また最近では非線形光学材
料や調光ガラス等に使用される機能性材料として幅広い
応用が検討されている。従来知られている側鎖型高分子
液晶は、スペーサーを介して液晶基が高分子主鎖骨格に
結合した構造を有している。その場合、主鎖骨格として
はポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリエーテ
ル、ポリオルガノシロキサンおよびポリエステル等のポ
リマーが知られており数多くの側鎖型高分子液晶が提案
されている。(例えば、小出直之編、液晶ポリマー、シ
ーエムシー(1987年); R. Zentel, "Liquid Crystalli
nePolymers", Kem. Ind., 第37巻, p.355 (1988年);
V. P. Shibaev, "Synthesis and Structure of Liquid-
crystalline side-chain polymers", Pure & Appl. Che
m., 第57巻, p.1589 (1985年); T. Chung, "The Rece
nt Developments of Thermotropic Liquid Crystalline
Polymers", Polym. Eng. Sci.、第26巻、p.901 (1986
年))また、スペーサーを介した方が主鎖骨格と液晶基
との運動性が独立になるので液晶の配向状態が容易に発
現でき、スペーサーを長くしたり、運動性の高いスペー
サーを用いる方がより安定な液晶相を発現すると言われ
ている。(小出直之、"高分子液晶の合成"、高分子、第
36巻、p.98 (1987年))従来、そのスペーサーとして
知られている化学結合としてはアルキレン基やオキシア
ルキレン基がほとんどである。ところが、上記の主鎖骨
格に対してこのようなスペーサーを用いると、一般に液
晶性を示す温度が高いために室温付近では液晶性を示さ
ずにガラス状態となる例がほとんどであった。一方、ポ
リメタクリレートを主鎖骨格とし、柔軟な化学結合とし
て知られるシロキサン成分を含むスペーサーを介して液
晶基が結合した側鎖型高分子液晶については本発明者ら
により報告されている。(特開平4-218513; Y. Nagase
and Y. Takamura, "Side-chain liquid-crystalline po
lymers containing a siloxane spacer, 1: Synthesis
ofside-chain liquid-crystalline polymers containin
g siloxane bond in thespacer unit", Makromol. Che
m., 第193巻, p.1225 (1992))
する側鎖型高分子液晶はエレクトロニクス分野における
表示素子や記録材料として、また最近では非線形光学材
料や調光ガラス等に使用される機能性材料として幅広い
応用が検討されている。従来知られている側鎖型高分子
液晶は、スペーサーを介して液晶基が高分子主鎖骨格に
結合した構造を有している。その場合、主鎖骨格として
はポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリエーテ
ル、ポリオルガノシロキサンおよびポリエステル等のポ
リマーが知られており数多くの側鎖型高分子液晶が提案
されている。(例えば、小出直之編、液晶ポリマー、シ
ーエムシー(1987年); R. Zentel, "Liquid Crystalli
nePolymers", Kem. Ind., 第37巻, p.355 (1988年);
V. P. Shibaev, "Synthesis and Structure of Liquid-
crystalline side-chain polymers", Pure & Appl. Che
m., 第57巻, p.1589 (1985年); T. Chung, "The Rece
nt Developments of Thermotropic Liquid Crystalline
Polymers", Polym. Eng. Sci.、第26巻、p.901 (1986
年))また、スペーサーを介した方が主鎖骨格と液晶基
との運動性が独立になるので液晶の配向状態が容易に発
現でき、スペーサーを長くしたり、運動性の高いスペー
サーを用いる方がより安定な液晶相を発現すると言われ
ている。(小出直之、"高分子液晶の合成"、高分子、第
36巻、p.98 (1987年))従来、そのスペーサーとして
知られている化学結合としてはアルキレン基やオキシア
ルキレン基がほとんどである。ところが、上記の主鎖骨
格に対してこのようなスペーサーを用いると、一般に液
晶性を示す温度が高いために室温付近では液晶性を示さ
ずにガラス状態となる例がほとんどであった。一方、ポ
リメタクリレートを主鎖骨格とし、柔軟な化学結合とし
て知られるシロキサン成分を含むスペーサーを介して液
晶基が結合した側鎖型高分子液晶については本発明者ら
により報告されている。(特開平4-218513; Y. Nagase
and Y. Takamura, "Side-chain liquid-crystalline po
lymers containing a siloxane spacer, 1: Synthesis
ofside-chain liquid-crystalline polymers containin
g siloxane bond in thespacer unit", Makromol. Che
m., 第193巻, p.1225 (1992))
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来そ
のシロキサン結合として、シロキサン単位が2個のジシ
ロキサン成分を導入した例がほとんどであり、合成の困
難さからシロキサン単位が3個以上からなるポリシロキ
サン成分を導入した例は極めて少ない。本発明者らは、
上記の公開特許公報および論文において、スペーサーに
ポリシロキサン成分を導入した側鎖型高分子液晶の合成
を報告している。そのモノマーの製造においては、原料
となる液晶基を有するシラノール化合物を強塩基と反応
させシラノレートアニオンとした後、シクロシロキサン
化合物を開環重合させ、さらに重合基を有するクロロシ
ラン化合物で反応を停止させることにより行なってい
る。しかし、この方法ではポリシロキサン成分がシクロ
シロキサンの開環重合により形成されるため、ポリシロ
キサン成分中のシロキサン単位の数を揃えることができ
ないという問題があった。その結果、そのモノマーを重
合して得られるポリマーは、スペーサー部の長さがモノ
マー単位ごとに異なるため、液晶基の配向が達成できず
に液晶性を発現しなかった。また、この従来の製造方法
では液晶基を有するシラノール化合物をまず強塩基と反
応させるので、液晶基にエステル基など加水分解を受け
易い置換基は導入できないという欠点もあった。
のシロキサン結合として、シロキサン単位が2個のジシ
ロキサン成分を導入した例がほとんどであり、合成の困
難さからシロキサン単位が3個以上からなるポリシロキ
サン成分を導入した例は極めて少ない。本発明者らは、
上記の公開特許公報および論文において、スペーサーに
ポリシロキサン成分を導入した側鎖型高分子液晶の合成
を報告している。そのモノマーの製造においては、原料
となる液晶基を有するシラノール化合物を強塩基と反応
させシラノレートアニオンとした後、シクロシロキサン
化合物を開環重合させ、さらに重合基を有するクロロシ
ラン化合物で反応を停止させることにより行なってい
る。しかし、この方法ではポリシロキサン成分がシクロ
シロキサンの開環重合により形成されるため、ポリシロ
キサン成分中のシロキサン単位の数を揃えることができ
ないという問題があった。その結果、そのモノマーを重
合して得られるポリマーは、スペーサー部の長さがモノ
マー単位ごとに異なるため、液晶基の配向が達成できず
に液晶性を発現しなかった。また、この従来の製造方法
では液晶基を有するシラノール化合物をまず強塩基と反
応させるので、液晶基にエステル基など加水分解を受け
易い置換基は導入できないという欠点もあった。
【0004】本発明の目的は、スペーサーに極めて運動
性の高いポリシロキサン成分を含む化学結合を導入する
ことにより、比較的低い温度すなわち室温あるいはそれ
以下の温度で安定な液晶性を発現する側鎖型高分子液晶
を合成する場合において、原料となるモノマー、すなわ
ち重合基と液晶基とをつなぐスペーサー部に長さの揃っ
たポリシロキサン成分を導入したモノマーの簡便な、し
かも適用範囲の広い製造方法を提供することにある。
性の高いポリシロキサン成分を含む化学結合を導入する
ことにより、比較的低い温度すなわち室温あるいはそれ
以下の温度で安定な液晶性を発現する側鎖型高分子液晶
を合成する場合において、原料となるモノマー、すなわ
ち重合基と液晶基とをつなぐスペーサー部に長さの揃っ
たポリシロキサン成分を導入したモノマーの簡便な、し
かも適用範囲の広い製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、スペーサ
ーにシロキサン単位が3個以上からなるポリシロキサン
成分を有する側鎖型高分子液晶の原料となるモノマーを
合成すべく鋭意検討を加えた。その結果、重合基を有す
る新規のシラノール化合物が合成できることを見出すと
ともに、得られたシラノール化合物を原料として用いる
ことにより、ポリシロキサン成分を含むスペーサーを介
して重合基と液晶基とが結合したモノマーが合成でき、
しかもそのモノマーを重合せしめることによりスペーサ
ーにポリシロキサン成分を有し、なおかつ比較的低い温
度にて液晶性を発現する側鎖型高分子液晶が製造できる
ことを見出し、本発明に到達した。
ーにシロキサン単位が3個以上からなるポリシロキサン
成分を有する側鎖型高分子液晶の原料となるモノマーを
合成すべく鋭意検討を加えた。その結果、重合基を有す
る新規のシラノール化合物が合成できることを見出すと
ともに、得られたシラノール化合物を原料として用いる
ことにより、ポリシロキサン成分を含むスペーサーを介
して重合基と液晶基とが結合したモノマーが合成でき、
しかもそのモノマーを重合せしめることによりスペーサ
ーにポリシロキサン成分を有し、なおかつ比較的低い温
度にて液晶性を発現する側鎖型高分子液晶が製造できる
ことを見出し、本発明に到達した。
【0006】すなわち、本発明は、下記一般式(I)
【0007】
【化6】
【0008】(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、アルキル基またはフェニル基、R1およびR2は
同一あるいは異なっても良く、アルキル基またはフェニ
ル基、pは2〜10の整数である。)で表わされる重合
基を有するシラノール化合物、および下記一般式(I
I)
アノ基、アルキル基またはフェニル基、R1およびR2は
同一あるいは異なっても良く、アルキル基またはフェニ
ル基、pは2〜10の整数である。)で表わされる重合
基を有するシラノール化合物、および下記一般式(I
I)
【0009】
【化7】
【0010】(式中、R3およびR4は同一あるいは異な
っても良く、アルキル基またはフェニル基、Xは単結
合、酸素原子、または-COO-もしくは-OCO-で表わされる
基、Qは液晶基、 qは2〜10の整数である。)で表
わされる液晶基を有するシラノール化合物と、下記一般
式(III)
っても良く、アルキル基またはフェニル基、Xは単結
合、酸素原子、または-COO-もしくは-OCO-で表わされる
基、Qは液晶基、 qは2〜10の整数である。)で表
わされる液晶基を有するシラノール化合物と、下記一般
式(III)
【0011】
【化8】
【0012】(式中、R5〜R8は同一あるいは異なって
も良く、アルキル基またはフェニル基、mは0〜5の整
数である。)で表わされるジクロロ化合物とを反応させ
た後、前記一般式(I)で表わされる重合基を有するシ
ラノール化合物と反応させることを特徴とする、下記一
般式(IV)
も良く、アルキル基またはフェニル基、mは0〜5の整
数である。)で表わされるジクロロ化合物とを反応させ
た後、前記一般式(I)で表わされる重合基を有するシ
ラノール化合物と反応させることを特徴とする、下記一
般式(IV)
【0013】
【化9】
【0014】(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、アルキル基またはフェニル基、R1〜R8は同一
あるいは異なっても良く、アルキル基またはフェニル
基、Xは単結合、酸素原子、または-COO-もしくは-OCO-
で表わされる基、Qは液晶基、pおよびqは2〜10の
整数、mは0〜5の整数である。)で表わされる液晶基
を有するモノマーの製造方法に関するものである。
アノ基、アルキル基またはフェニル基、R1〜R8は同一
あるいは異なっても良く、アルキル基またはフェニル
基、Xは単結合、酸素原子、または-COO-もしくは-OCO-
で表わされる基、Qは液晶基、pおよびqは2〜10の
整数、mは0〜5の整数である。)で表わされる液晶基
を有するモノマーの製造方法に関するものである。
【0015】前記一般式(I)および(IV)中Rで表
わされる置換基のうちアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の
低級アルキル基が、得られるモノマーの重合性の点で好
ましい。また、前記一般式(I)〜(IV)中R1〜R8
で表わされる置換基は同一あるいは異なっても良く、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基お
よびフェニル基等が挙げられる。しかしながら、合成の
容易さおよび、これらの化合物から誘導される、スペー
サーにポリシロキサン成分を有する側鎖型高分子液晶の
特性を活かすためには、上記の置換基のうちメチル基が
最も好ましい。また、前記一般式(I)、(II)およ
び(IV)中のメチレン鎖はある程度の長さが必要であ
り、従ってこれらの式中pおよびqで表わされるメチレ
ン基の数は2〜10の範囲である。ただし、合成の容易
さおよびこのシラノール化合物から誘導されるスペーサ
ーにポリシロキサン成分を有する側鎖型高分子液晶の特
性を活かすためには、pは3〜6の範囲にあることが好
ましい。さらに、前記一般式(III)および(IV)
中mで表わされるシロキサン単位の数は0〜5の範囲で
あり、特に0〜3の範囲にあることが、合成の容易さお
よび得られる側鎖型高分子液晶の特性を活かすためには
好ましい。
わされる置換基のうちアルキル基としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の
低級アルキル基が、得られるモノマーの重合性の点で好
ましい。また、前記一般式(I)〜(IV)中R1〜R8
で表わされる置換基は同一あるいは異なっても良く、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基お
よびフェニル基等が挙げられる。しかしながら、合成の
容易さおよび、これらの化合物から誘導される、スペー
サーにポリシロキサン成分を有する側鎖型高分子液晶の
特性を活かすためには、上記の置換基のうちメチル基が
最も好ましい。また、前記一般式(I)、(II)およ
び(IV)中のメチレン鎖はある程度の長さが必要であ
り、従ってこれらの式中pおよびqで表わされるメチレ
ン基の数は2〜10の範囲である。ただし、合成の容易
さおよびこのシラノール化合物から誘導されるスペーサ
ーにポリシロキサン成分を有する側鎖型高分子液晶の特
性を活かすためには、pは3〜6の範囲にあることが好
ましい。さらに、前記一般式(III)および(IV)
中mで表わされるシロキサン単位の数は0〜5の範囲で
あり、特に0〜3の範囲にあることが、合成の容易さお
よび得られる側鎖型高分子液晶の特性を活かすためには
好ましい。
【0016】前記一般式(II)および(IV)中Qで
表わされる液晶基としては、従来より公知の液晶性付与
基のいずれであっても良く、特にその構造に限定はな
い。液晶基として例示されるものとしては、ビフェニ
ル、ビフェニルエーテル、安息香酸フェニルエステル、
安息香酸ビフェニルエステル、ベンジリデンアニリン、
スチルベン、アゾキシベンゼン、アゾベンゼン、シッフ
塩基、シクロヘキシルフェニルエーテル、シクロヘキシ
ルベンゼン、シクロヘキシルカルボン酸フェニルエステ
ル、シクロヘキシルカルボン酸ビフェニルエステル、コ
レステリン、コレスタンおよびそれらの誘導体等の液晶
分子から水素原子を1個除去してなる基を挙げることが
できる。また、上記液晶分子に光学活性基を有するアル
キル基やアルコキシ基、フルオロアルキル基、シアノア
ルキル基、シアノアルコキシ基等の極性基を結合させる
ことにより、本発明の製造方法で得られるポリマーに強
誘電性等の特別の効果を付与することも可能である。
表わされる液晶基としては、従来より公知の液晶性付与
基のいずれであっても良く、特にその構造に限定はな
い。液晶基として例示されるものとしては、ビフェニ
ル、ビフェニルエーテル、安息香酸フェニルエステル、
安息香酸ビフェニルエステル、ベンジリデンアニリン、
スチルベン、アゾキシベンゼン、アゾベンゼン、シッフ
塩基、シクロヘキシルフェニルエーテル、シクロヘキシ
ルベンゼン、シクロヘキシルカルボン酸フェニルエステ
ル、シクロヘキシルカルボン酸ビフェニルエステル、コ
レステリン、コレスタンおよびそれらの誘導体等の液晶
分子から水素原子を1個除去してなる基を挙げることが
できる。また、上記液晶分子に光学活性基を有するアル
キル基やアルコキシ基、フルオロアルキル基、シアノア
ルキル基、シアノアルコキシ基等の極性基を結合させる
ことにより、本発明の製造方法で得られるポリマーに強
誘電性等の特別の効果を付与することも可能である。
【0017】本発明の前記一般式(I)で表わされる重
合基を有するシラノール化合物は、例えば、以下に示す
方法により製造することができる。すなわち、下記一般
式(V)
合基を有するシラノール化合物は、例えば、以下に示す
方法により製造することができる。すなわち、下記一般
式(V)
【0018】
【化10】
【0019】(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、アルキル基またはフェニル基、R1およびR2は
同一あるいは異なっても良く、アルキル基またはフェニ
ル基、pは2〜10の整数である。)で表わされる重合
基を有するクロロシラン化合物を有機溶媒に溶解し、大
過剰の水あるいは有機溶媒を含んだ水と反応させること
により、前記一般式(I)で表わされる重合基を有する
シラノール化合物を容易に合成することができる。ここ
で用いられる有機溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、
ジエチルエーテル、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、アセトン、テトラヒドロフラン等が好適に用いら
れるが、これらに限定されるものではない。また、この
反応は0℃前後に冷却して行なうことが、副反応を抑え
る点で好ましい。
アノ基、アルキル基またはフェニル基、R1およびR2は
同一あるいは異なっても良く、アルキル基またはフェニ
ル基、pは2〜10の整数である。)で表わされる重合
基を有するクロロシラン化合物を有機溶媒に溶解し、大
過剰の水あるいは有機溶媒を含んだ水と反応させること
により、前記一般式(I)で表わされる重合基を有する
シラノール化合物を容易に合成することができる。ここ
で用いられる有機溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、
ジエチルエーテル、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、アセトン、テトラヒドロフラン等が好適に用いら
れるが、これらに限定されるものではない。また、この
反応は0℃前後に冷却して行なうことが、副反応を抑え
る点で好ましい。
【0020】上記の反応において用いられる前記一般式
(V)で表わされる重合基を有するクロロシラン化合物
としては、2-(アクリロキシ)エチルジメチルクロロシ
ラン、2-(メタクリロキシ)エチルジメチルクロロシラ
ン、2-(α−エチルアクリロキシ)エチルジメチルクロ
ロシラン、2-(α−ブチルアクリロキシ)エチルジメチ
ルクロロシラン、2-(α−クロロアクリロキシ)エチル
ジメチルクロロシラン、2-(α−フルオロアクリロキ
シ)エチルジメチルクロロシラン、2-(α−シアノアク
リロキシ)エチルジメチルクロロシラン、2-(α−フェ
ニルアクリロキシ)エチルジメチルクロロシラン、3-
(アクリロキシ)プロピルジメチルクロロシラン、3-
(メタクリロキシ)プロピルジメチルクロロシラン、3-
(α−エチルアクリロキシ)プロピルジメチルクロロシ
ラン、3-(α−ブチルアクリロキシ)プロピルジメチル
クロロシラン、3-(α−クロロアクリロキシ)プロピル
ジメチルクロロシラン、3-(α−フルオロアクリロキ
シ)プロピルジメチルクロロシラン、3-(α−シアノア
クリロキシ)プロピルジメチルクロロシラン、3-(α−
フェニルアクリロキシ)プロピルジメチルクロロシラ
ン、4-(メタクリロキシ)ブチルジメチルクロロシラ
ン、5-(メタクリロキシ)ペンチルジメチルクロロシラ
ン、6-(メタクリロキシ)ヘキシルジメチルクロロシラ
ン、3-(メタクリロキシ)プロピルジエチルクロロシラ
ン、3-メタクリロキシプロピルジブチルクロロシラン、
3-(メタクリロキシ)プロピルジヘキシルクロロシラ
ン、3-(メタクリロキシ)プロピルメチルブチルクロロ
シラン、3-(メタクリロキシ)プロピルメチルヘキシル
クロロシラン、3-(メタクリロキシ)プロピルメチルフ
ェニルクロロシラン、3-(メタクリロキシ)プロピルジ
フェニルクロロシラン等を例示することができる。これ
らの一部は市販されており、また、対応するα−置換ま
たは無置換のアクリル酸のアルケニルエステルとジオル
ガノクロロシランとのヒドロシリル化反応により合成し
うる。
(V)で表わされる重合基を有するクロロシラン化合物
としては、2-(アクリロキシ)エチルジメチルクロロシ
ラン、2-(メタクリロキシ)エチルジメチルクロロシラ
ン、2-(α−エチルアクリロキシ)エチルジメチルクロ
ロシラン、2-(α−ブチルアクリロキシ)エチルジメチ
ルクロロシラン、2-(α−クロロアクリロキシ)エチル
ジメチルクロロシラン、2-(α−フルオロアクリロキ
シ)エチルジメチルクロロシラン、2-(α−シアノアク
リロキシ)エチルジメチルクロロシラン、2-(α−フェ
ニルアクリロキシ)エチルジメチルクロロシラン、3-
(アクリロキシ)プロピルジメチルクロロシラン、3-
(メタクリロキシ)プロピルジメチルクロロシラン、3-
(α−エチルアクリロキシ)プロピルジメチルクロロシ
ラン、3-(α−ブチルアクリロキシ)プロピルジメチル
クロロシラン、3-(α−クロロアクリロキシ)プロピル
ジメチルクロロシラン、3-(α−フルオロアクリロキ
シ)プロピルジメチルクロロシラン、3-(α−シアノア
クリロキシ)プロピルジメチルクロロシラン、3-(α−
フェニルアクリロキシ)プロピルジメチルクロロシラ
ン、4-(メタクリロキシ)ブチルジメチルクロロシラ
ン、5-(メタクリロキシ)ペンチルジメチルクロロシラ
ン、6-(メタクリロキシ)ヘキシルジメチルクロロシラ
ン、3-(メタクリロキシ)プロピルジエチルクロロシラ
ン、3-メタクリロキシプロピルジブチルクロロシラン、
3-(メタクリロキシ)プロピルジヘキシルクロロシラ
ン、3-(メタクリロキシ)プロピルメチルブチルクロロ
シラン、3-(メタクリロキシ)プロピルメチルヘキシル
クロロシラン、3-(メタクリロキシ)プロピルメチルフ
ェニルクロロシラン、3-(メタクリロキシ)プロピルジ
フェニルクロロシラン等を例示することができる。これ
らの一部は市販されており、また、対応するα−置換ま
たは無置換のアクリル酸のアルケニルエステルとジオル
ガノクロロシランとのヒドロシリル化反応により合成し
うる。
【0021】本発明の、前記一般式(IV)で表わされ
る液晶基を有するモノマーの製造方法において、前記一
般式(II)で表わされる液晶基を有するシラノール化
合物に対して前記一般式(III)で表わされるジクロ
ロ化合物を少なくとも2当量以上用いることが好まし
い。また、この反応では前記一般式(II)で表わされ
る化合物を有機溶媒に希釈して行なうことが好ましい。
ここで用いられる有機溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、アセトン、テトラヒドロフラン等が好適に用
いられるが、これらに限定されるものではない。また、
この反応は0℃前後に冷却して行なうことが、副反応を
押さえる点で好ましい。さらにこの反応では塩化水素が
発生するので、その捕捉剤としてトリエチルアミン、N,
N-ジメチルアニリン、ピリジン等の有機塩基存在下で行
なうことにより好適に反応が進行する。
る液晶基を有するモノマーの製造方法において、前記一
般式(II)で表わされる液晶基を有するシラノール化
合物に対して前記一般式(III)で表わされるジクロ
ロ化合物を少なくとも2当量以上用いることが好まし
い。また、この反応では前記一般式(II)で表わされ
る化合物を有機溶媒に希釈して行なうことが好ましい。
ここで用いられる有機溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、アセトン、テトラヒドロフラン等が好適に用
いられるが、これらに限定されるものではない。また、
この反応は0℃前後に冷却して行なうことが、副反応を
押さえる点で好ましい。さらにこの反応では塩化水素が
発生するので、その捕捉剤としてトリエチルアミン、N,
N-ジメチルアニリン、ピリジン等の有機塩基存在下で行
なうことにより好適に反応が進行する。
【0022】本発明の製造方法において、上記の反応に
続いて前記一般式(I)で表わされる重合基を有するシ
ラノール化合物を反応させて前記一般式(IV)で表わ
される液晶基を有するモノマーを合成する際には、前記
一般式(III)で表わされるジクロロ化合物をあらか
じめ反応系外へ留去して行なうことが好ましい。また、
この反応も有機溶媒中で行なうことが好ましく、好適に
用いられる有機溶媒は上記と同様である。さらにこの反
応においても同様に塩化水素が発生するので、その捕捉
剤としてトリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ピ
リジン等の有機塩基存在下で行なうことにより好適に反
応が進行する。
続いて前記一般式(I)で表わされる重合基を有するシ
ラノール化合物を反応させて前記一般式(IV)で表わ
される液晶基を有するモノマーを合成する際には、前記
一般式(III)で表わされるジクロロ化合物をあらか
じめ反応系外へ留去して行なうことが好ましい。また、
この反応も有機溶媒中で行なうことが好ましく、好適に
用いられる有機溶媒は上記と同様である。さらにこの反
応においても同様に塩化水素が発生するので、その捕捉
剤としてトリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ピ
リジン等の有機塩基存在下で行なうことにより好適に反
応が進行する。
【0023】本発明の製造方法において用いられる前記
一般式(II)で表わされる液晶基を有するシラノール
化合物は、例えば、以下に示す方法により製造すること
ができる。すなわち、下記一般式(VI)
一般式(II)で表わされる液晶基を有するシラノール
化合物は、例えば、以下に示す方法により製造すること
ができる。すなわち、下記一般式(VI)
【0024】
【化11】
【0025】(式中、Xは単結合、酸素原子、または-C
OO-もしくは-OCO-で表わされる基、Qは液晶基、 qは
2〜10の整数である。)で表わされる液晶基を有する
アルケニル化合物と、下記一般式(VII)
OO-もしくは-OCO-で表わされる基、Qは液晶基、 qは
2〜10の整数である。)で表わされる液晶基を有する
アルケニル化合物と、下記一般式(VII)
【0026】
【化12】
【0027】(式中、R3およびR4は同一あるいは異な
っても良く、アルキル基またはフェニル基、R'はアル
キル基である。)で表わされるアルコキシシラン化合物
とを、ヒドロシリル化触媒存在下反応させることによ
り、下記一般式(VIII)
っても良く、アルキル基またはフェニル基、R'はアル
キル基である。)で表わされるアルコキシシラン化合物
とを、ヒドロシリル化触媒存在下反応させることによ
り、下記一般式(VIII)
【0028】
【化13】
【0029】(式中、R3およびR4は同一あるいは異な
っても良く、アルキル基またはフェニル基、Rはアルキ
ル基、Xは単結合、酸素原子、または-COO-もしくは-OC
O-で表わされる基、Qは液晶基、qは2〜10の整数で
ある。)で表わされる化合物を合成し、さらに前記一般
式(VIII)で表わされる化合物を加水分解すること
により、前記一般式(II)で表わされる液晶基を有す
るシラノール化合物を製造できる。
っても良く、アルキル基またはフェニル基、Rはアルキ
ル基、Xは単結合、酸素原子、または-COO-もしくは-OC
O-で表わされる基、Qは液晶基、qは2〜10の整数で
ある。)で表わされる化合物を合成し、さらに前記一般
式(VIII)で表わされる化合物を加水分解すること
により、前記一般式(II)で表わされる液晶基を有す
るシラノール化合物を製造できる。
【0030】上記の製造方法において、前記一般式(V
I)で表わされるアルケニル化合物と前記一般式(VI
I)で表わされるアルコキシシランとを反応させ、前記
一般式(VIII)で表わされる化合物を製造する際に
用いるヒドロシリル化触媒としては、白金、白金炭素、
塩化白金酸およびジシクロペンタジエニルプラチナムジ
クロリドなどの白金系触媒を用いるのが最も一般的であ
るが、その他にもパラジウムやロジウムを含む金属錯体
が使用可能である。例えば、(Ph3P)4Pd、,(P
h3P)2PdCl2,(PhCN)2PdCl2,(Ph
3P)3RhCl,(Ph2PH)2RhCl,(Ph
3P)2(CO)RhCl, [(C2H5)3P]2(CO)Rh
Clなどを触媒として用いることができる。用いる触媒
の量は、前記一般式(VI)で表わされるアルケニル化
合物に対して通常1/100〜1/1000当量程度で
充分である。またこの反応を完結させるためには、前記
一般式(VII)で表わされる化合物が前記一般式(V
I)で表わされる化合物に対して等モル以上になるよう
に混合する必要がある。この反応は溶媒中で行うのが好
ましく、溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、アセトン、トリクロロエチレン、四塩化炭素、テト
ラヒドロフランなどを用いることができる。反応温度は
通常40℃〜100℃の温度範囲で行い、またアルゴン
や窒素等の不活性気体雰囲気下で行うのが好ましい。
I)で表わされるアルケニル化合物と前記一般式(VI
I)で表わされるアルコキシシランとを反応させ、前記
一般式(VIII)で表わされる化合物を製造する際に
用いるヒドロシリル化触媒としては、白金、白金炭素、
塩化白金酸およびジシクロペンタジエニルプラチナムジ
クロリドなどの白金系触媒を用いるのが最も一般的であ
るが、その他にもパラジウムやロジウムを含む金属錯体
が使用可能である。例えば、(Ph3P)4Pd、,(P
h3P)2PdCl2,(PhCN)2PdCl2,(Ph
3P)3RhCl,(Ph2PH)2RhCl,(Ph
3P)2(CO)RhCl, [(C2H5)3P]2(CO)Rh
Clなどを触媒として用いることができる。用いる触媒
の量は、前記一般式(VI)で表わされるアルケニル化
合物に対して通常1/100〜1/1000当量程度で
充分である。またこの反応を完結させるためには、前記
一般式(VII)で表わされる化合物が前記一般式(V
I)で表わされる化合物に対して等モル以上になるよう
に混合する必要がある。この反応は溶媒中で行うのが好
ましく、溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、アセトン、トリクロロエチレン、四塩化炭素、テト
ラヒドロフランなどを用いることができる。反応温度は
通常40℃〜100℃の温度範囲で行い、またアルゴン
や窒素等の不活性気体雰囲気下で行うのが好ましい。
【0031】前記一般式(VI)で表わされる液晶基を
有するアルケニル化合物の合成は、後に参考例で示すよ
うに、前述の液晶基に直接アルケニル基を導入するか、
または前述の液晶基を合成する際の一工程においてアル
ケニル基を導入せしめることにより容易に達成すること
ができる。
有するアルケニル化合物の合成は、後に参考例で示すよ
うに、前述の液晶基に直接アルケニル基を導入するか、
または前述の液晶基を合成する際の一工程においてアル
ケニル基を導入せしめることにより容易に達成すること
ができる。
【0032】前記一般式(VII)で表わされるアルコ
キシシラン化合物としては、ジメチルメトキシシラン、
ジメチルエトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルイソプロポキシシラン、ジエチルエトキシシラ
ン、ジプロピルエトキシシラン、ジブチルエトキシシラ
ン、ジヘキシルエトキシシラン、メチルエチルエトキシ
シラン、メチルフェニルエトキシシラン、ジフェニルエ
トキシシラン等を例示することができる。これらの一部
は市販されており、また、対応する市販のクロロシラン
化合物とアルコール類との縮合反応により容易に合成し
うる。
キシシラン化合物としては、ジメチルメトキシシラン、
ジメチルエトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルイソプロポキシシラン、ジエチルエトキシシラ
ン、ジプロピルエトキシシラン、ジブチルエトキシシラ
ン、ジヘキシルエトキシシラン、メチルエチルエトキシ
シラン、メチルフェニルエトキシシラン、ジフェニルエ
トキシシラン等を例示することができる。これらの一部
は市販されており、また、対応する市販のクロロシラン
化合物とアルコール類との縮合反応により容易に合成し
うる。
【0033】前記一般式(VIII)で表わされる化合
物から前記一般式(II)で表わされるシラノール化合
物を製造する際に行なう加水分解反応は、通常、塩基性
または酸性物質の存在下で行なうことにより反応が円滑
に進行する。ここで用いる塩基性または酸性物質として
は、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化アルミニウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム等の塩基性物質また
は塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、硫酸カルシウム、硝酸カル
シウム、硫酸マグネシウム等の酸性物質が好適に用いら
れる。特に、前記一般式(VIII)中の液晶基Qにエ
ステル結合などの加水分解を受け易い結合が存在する場
合には、上記の塩基性または酸性物質のうち弱塩基性ま
たは弱酸性物質を用いる方が好ましい。これらの塩基性
または酸性物質は前記一般式(VIII)で表わされる
化合物に対して0.1〜5.0当量の範囲で用いること
が好ましい。また、この反応は水存在下で行なうことが
必須であるが、前記一般式(VIII)で表わされる化
合物が水に不溶な場合には、メタノール、エタノール、
プロパノール、アセトン、テトラヒドロフラン、アセト
ニトリル等の水に可溶な有機溶媒を併用することにより
反応が好適に進行する。反応温度は通常室温付近で充分
であるが、温度が高いと目的物であるシラノールの2量
体であるジシロキサン化合物が副生成物として得られる
ことがある。また、この2量化反応が進行し易い場合に
は、副生成物の生成量を最小限に抑えるため、反応温度
を−100℃から室温の範囲でコントロールする必要が
ある。
物から前記一般式(II)で表わされるシラノール化合
物を製造する際に行なう加水分解反応は、通常、塩基性
または酸性物質の存在下で行なうことにより反応が円滑
に進行する。ここで用いる塩基性または酸性物質として
は、水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化アルミニウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム等の塩基性物質また
は塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、硫酸カルシウム、硝酸カル
シウム、硫酸マグネシウム等の酸性物質が好適に用いら
れる。特に、前記一般式(VIII)中の液晶基Qにエ
ステル結合などの加水分解を受け易い結合が存在する場
合には、上記の塩基性または酸性物質のうち弱塩基性ま
たは弱酸性物質を用いる方が好ましい。これらの塩基性
または酸性物質は前記一般式(VIII)で表わされる
化合物に対して0.1〜5.0当量の範囲で用いること
が好ましい。また、この反応は水存在下で行なうことが
必須であるが、前記一般式(VIII)で表わされる化
合物が水に不溶な場合には、メタノール、エタノール、
プロパノール、アセトン、テトラヒドロフラン、アセト
ニトリル等の水に可溶な有機溶媒を併用することにより
反応が好適に進行する。反応温度は通常室温付近で充分
であるが、温度が高いと目的物であるシラノールの2量
体であるジシロキサン化合物が副生成物として得られる
ことがある。また、この2量化反応が進行し易い場合に
は、副生成物の生成量を最小限に抑えるため、反応温度
を−100℃から室温の範囲でコントロールする必要が
ある。
【0034】本発明の製造方法において用いられる前記
一般式(III)で表わされるジクロロ化合物として
は、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラ
ン、ジクロロジプロピルシラン、ジクロロジブチルシラ
ン、ジクロロジイソプロピルシラン、ジクロロジヘキシ
ルシラン、ジクロロメチルエチルシラン、ジクロロメチ
ルフェニルシラン、ジクロロジフェニルシラン、1,3-ジ
クロロテトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラ
エチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラフェニルジシ
ロキサン、1,5-ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、
1,7-ジクロロオクタメチルテトラシロキサン、1,9-ジク
ロロデカメチルペンタシロキサン、1,11-ジクロロドデ
カメチルヘキサシロキサン等を例示することができ、こ
れらは市販されている。
一般式(III)で表わされるジクロロ化合物として
は、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラ
ン、ジクロロジプロピルシラン、ジクロロジブチルシラ
ン、ジクロロジイソプロピルシラン、ジクロロジヘキシ
ルシラン、ジクロロメチルエチルシラン、ジクロロメチ
ルフェニルシラン、ジクロロジフェニルシラン、1,3-ジ
クロロテトラメチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラ
エチルジシロキサン、1,3-ジクロロテトラフェニルジシ
ロキサン、1,5-ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、
1,7-ジクロロオクタメチルテトラシロキサン、1,9-ジク
ロロデカメチルペンタシロキサン、1,11-ジクロロドデ
カメチルヘキサシロキサン等を例示することができ、こ
れらは市販されている。
【0035】また、本発明の製造方法により得られる前
記一般式(IV)で表わされる液晶基を有するモノマー
を重合する際には、2種以上のモノマーを混合して行な
っても良く、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重
合など公知の重合法を用いることができる。しかしなが
ら、この場合にはラジカル重合法が最も簡便な重合法と
して好適に用いられる。ラジカル重合法で行なう場合
は、バルク重合、溶液重合、乳化重合等の公知の方法を
用いることができる。ラジカル重合反応は、単に熱、紫
外線の照射またはラジカル開始剤の添加により開始され
る。反応に好適に用いられるラジカル開始剤としては、
ジラウロイルペルオキシド、ジ-t-ブチルペルオキシ
ド、ベンゾイルペルオキシド、 t-ブチルヒドロペルオ
キシド、クメンヒドロペルオキシド等の有機過酸化物あ
るいはα,α',−アゾ ビスイソブチロニトリルやアゾビ
スシクロヘキサンカルボニトリル等のアゾ化合物などを
例示することができる。また、重合反応中に連鎖移動剤
を添加することにより、得られる重合体の分子量をある
程度制御することができる。ここで用いる連鎖移動剤と
しては、四塩化炭素、ブロモトリクロロメタン、p−ベ
ンゾキノン、クロロアニル、n−ブタンチオール、n−
ドデカンチオール等を例示できる。この場合のラジカル
重合反応に利用できる有機溶媒は、たとえば、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、
クロロホルム、メチルエチルケトン、フルオロベンゼ
ン、メタノール、エタノール、n−あるいはi−プロパ
ノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド等を用いることができるが、これらに
限定されるものではない。反応は、通常40℃〜100
℃の範囲で円滑に進行する。
記一般式(IV)で表わされる液晶基を有するモノマー
を重合する際には、2種以上のモノマーを混合して行な
っても良く、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重
合など公知の重合法を用いることができる。しかしなが
ら、この場合にはラジカル重合法が最も簡便な重合法と
して好適に用いられる。ラジカル重合法で行なう場合
は、バルク重合、溶液重合、乳化重合等の公知の方法を
用いることができる。ラジカル重合反応は、単に熱、紫
外線の照射またはラジカル開始剤の添加により開始され
る。反応に好適に用いられるラジカル開始剤としては、
ジラウロイルペルオキシド、ジ-t-ブチルペルオキシ
ド、ベンゾイルペルオキシド、 t-ブチルヒドロペルオ
キシド、クメンヒドロペルオキシド等の有機過酸化物あ
るいはα,α',−アゾ ビスイソブチロニトリルやアゾビ
スシクロヘキサンカルボニトリル等のアゾ化合物などを
例示することができる。また、重合反応中に連鎖移動剤
を添加することにより、得られる重合体の分子量をある
程度制御することができる。ここで用いる連鎖移動剤と
しては、四塩化炭素、ブロモトリクロロメタン、p−ベ
ンゾキノン、クロロアニル、n−ブタンチオール、n−
ドデカンチオール等を例示できる。この場合のラジカル
重合反応に利用できる有機溶媒は、たとえば、ベンゼ
ン、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒドロフラン、
クロロホルム、メチルエチルケトン、フルオロベンゼ
ン、メタノール、エタノール、n−あるいはi−プロパ
ノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド等を用いることができるが、これらに
限定されるものではない。反応は、通常40℃〜100
℃の範囲で円滑に進行する。
【0036】以上述べたように、本発明の前記一般式
(I)で表わされる重合基を有するシラノール化合物を
用いることにより、前記一般式(IV)で表わされる、
シロキサン単位が3個以上からなるポリシロキサン成分
を含む化学結合を介して重合基と液晶基とが結合してい
る、液晶基を有するモノマーを容易に製造することがで
きる。また、このモノマーを重合して得られるポリマー
は運動性の高いポリシロキサン成分をスペーサーに有す
るため、ガラス転移温度が室温あるいはそれ以下と低
く、また後に使用例として示すように比較的低い温度す
なわち室温あるいはそれ以下の温度から幅広い温度範囲
で安定な液晶性を示すことが判った。したがって、本発
明の製造方法により得られるモノマーを重合して得られ
るポリマーは、エレクトロニクス分野における表示材
料、記録材料、非線形光学材料、調光ガラス用材料等の
様々な用途に応用が可能である。
(I)で表わされる重合基を有するシラノール化合物を
用いることにより、前記一般式(IV)で表わされる、
シロキサン単位が3個以上からなるポリシロキサン成分
を含む化学結合を介して重合基と液晶基とが結合してい
る、液晶基を有するモノマーを容易に製造することがで
きる。また、このモノマーを重合して得られるポリマー
は運動性の高いポリシロキサン成分をスペーサーに有す
るため、ガラス転移温度が室温あるいはそれ以下と低
く、また後に使用例として示すように比較的低い温度す
なわち室温あるいはそれ以下の温度から幅広い温度範囲
で安定な液晶性を示すことが判った。したがって、本発
明の製造方法により得られるモノマーを重合して得られ
るポリマーは、エレクトロニクス分野における表示材
料、記録材料、非線形光学材料、調光ガラス用材料等の
様々な用途に応用が可能である。
【0037】以下に、参考例、実施例および使用例によ
り本発明をさらに詳しく説明する。ただし、本発明がこ
れらに限定されるものでないことはもちろんである。
り本発明をさらに詳しく説明する。ただし、本発明がこ
れらに限定されるものでないことはもちろんである。
【0038】
実施例1 重合基を有するシラノール化合物の合成
【0039】
【化14】
【0040】3-メタクリロキシプロピルジメチルクロロ
シラン10.0g(45.3mmol)を無水テトラヒドロフラン50ml
に溶解し、その溶液を、氷浴上で0℃に冷却した水100m
lとジエチルエーテル200mlとの混合液中にゆっくりと滴
下した。滴下終了後、さらに0℃にて1時間攪拌した。
有機相をジエチルエーテルにて抽出し、溶媒を留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し4.
27gの無色透明液体を得た。得られた生成物について、
1H−NMR、IRおよびMassスペクトル分析を行
ない、上記化学式(1)で表わされる3-メタクリロキシ
プロピルジメチルシラノールであることを確認した。
(収率; 46.6%)
シラン10.0g(45.3mmol)を無水テトラヒドロフラン50ml
に溶解し、その溶液を、氷浴上で0℃に冷却した水100m
lとジエチルエーテル200mlとの混合液中にゆっくりと滴
下した。滴下終了後、さらに0℃にて1時間攪拌した。
有機相をジエチルエーテルにて抽出し、溶媒を留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し4.
27gの無色透明液体を得た。得られた生成物について、
1H−NMR、IRおよびMassスペクトル分析を行
ない、上記化学式(1)で表わされる3-メタクリロキシ
プロピルジメチルシラノールであることを確認した。
(収率; 46.6%)
【0041】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.05 (s, 6H),
0.89-0.98 (m, 2H), 2.19-2.28 (m,2H), 2.29 (s, 3
H), 3.27 (bs, 1H), 4.48 (t, 2H, J=7.0Hz), 5.90 (m,
1H), 6.45 (m, 1H). IR (cm-1); 3450 (-OH), 2980, 2910, 1730 (C=O), 164
0, 1455, 1410, 1330, 1300, 1260 (Si-C), 1200, 1170
(Si-O), 1145, 1110, 980, 940, 870, 840, 780. Mass (m/e); 187 (M+-Me), 143, 75 (HOMe2Si+), 69 (C
H2=C(CH3)CO+), 41 (CH2=C(CH3)+).
0.89-0.98 (m, 2H), 2.19-2.28 (m,2H), 2.29 (s, 3
H), 3.27 (bs, 1H), 4.48 (t, 2H, J=7.0Hz), 5.90 (m,
1H), 6.45 (m, 1H). IR (cm-1); 3450 (-OH), 2980, 2910, 1730 (C=O), 164
0, 1455, 1410, 1330, 1300, 1260 (Si-C), 1200, 1170
(Si-O), 1145, 1110, 980, 940, 870, 840, 780. Mass (m/e); 187 (M+-Me), 143, 75 (HOMe2Si+), 69 (C
H2=C(CH3)CO+), 41 (CH2=C(CH3)+).
【0042】 参考例1 液晶基を有するシラノール化合物の合成1
【0043】
【化15】
【0044】p-ヒドロキシ安息香酸メチル15.0g(98.6m
mol)、炭酸カリウム13.0g(94.1mmol)をアセトン150ml
中に混合した溶液に、臭化アリル13ml(150mmol)を加え
アルゴンガス雰囲気下80℃で2時間攪拌した。この溶液
に水を加え酢酸エチルにて抽出した後、有機相を5%水酸
化ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄した。溶媒
を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し18.6gの無色透明液体を得た。得られた生成物
について、1H−NMR、IRおよびMassスペクト
ル分析を行ない、上記化学式(2)で表わされるp-アリ
ルオキシ安息香酸メチルであることを確認した。(収率;
96.6%)
mol)、炭酸カリウム13.0g(94.1mmol)をアセトン150ml
中に混合した溶液に、臭化アリル13ml(150mmol)を加え
アルゴンガス雰囲気下80℃で2時間攪拌した。この溶液
に水を加え酢酸エチルにて抽出した後、有機相を5%水酸
化ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄した。溶媒
を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し18.6gの無色透明液体を得た。得られた生成物
について、1H−NMR、IRおよびMassスペクト
ル分析を行ない、上記化学式(2)で表わされるp-アリ
ルオキシ安息香酸メチルであることを確認した。(収率;
96.6%)
【0045】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 3.88 (s, 3H),
4.58 (d, 2H, J=5.0Hz), 5.32 (m, 1H), 5.43 (m, 1
H), 5.86〜6.22 (m, 1H), 6.92 (d, 2H, J=6.9Hz), 7.9
8 (d, 2H, J=6.8Hz). IR (cm-1); 2960, 1720 (C=O), 1610, 1510, 1435, 128
0, 1255, 1170, 1110, 1020, 845, 770. Mass (m/e); 192 (M+), 161, 41 (CH2=CHCH2 +).
4.58 (d, 2H, J=5.0Hz), 5.32 (m, 1H), 5.43 (m, 1
H), 5.86〜6.22 (m, 1H), 6.92 (d, 2H, J=6.9Hz), 7.9
8 (d, 2H, J=6.8Hz). IR (cm-1); 2960, 1720 (C=O), 1610, 1510, 1435, 128
0, 1255, 1170, 1110, 1020, 845, 770. Mass (m/e); 192 (M+), 161, 41 (CH2=CHCH2 +).
【0046】ここで得られたp-アリルオキシ安息香酸メ
チル18.0g(93.6mmol)をエタノール600mlに溶解し、こ
の溶液を水酸化ナトリウム12.0g(300mmol)を水80mlお
よびメタノール100mlに溶かした溶液に注ぎ込み、さら
に80℃にて2時間還流させた。溶媒を留去し得られた白
色固体を水に溶解し、酸性になるまで塩酸を加えると白
色沈澱を生じた。これを塩化メチレンにて抽出し、有機
相を飽和食塩水で洗浄した後無水硫酸マグネシウムにて
乾燥した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて精製し14.7gの白色固体を得た。得られた
生成物について、1H−NMR、IRおよびMassス
ペクトル分析を行ない、上記化学式(3)で表わされる
p-アリルオキシ安息香酸であることを確認した。(収率;
88.1%)
チル18.0g(93.6mmol)をエタノール600mlに溶解し、こ
の溶液を水酸化ナトリウム12.0g(300mmol)を水80mlお
よびメタノール100mlに溶かした溶液に注ぎ込み、さら
に80℃にて2時間還流させた。溶媒を留去し得られた白
色固体を水に溶解し、酸性になるまで塩酸を加えると白
色沈澱を生じた。これを塩化メチレンにて抽出し、有機
相を飽和食塩水で洗浄した後無水硫酸マグネシウムにて
乾燥した。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにて精製し14.7gの白色固体を得た。得られた
生成物について、1H−NMR、IRおよびMassス
ペクトル分析を行ない、上記化学式(3)で表わされる
p-アリルオキシ安息香酸であることを確認した。(収率;
88.1%)
【0047】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 4.61 (d, 2H,
J=5.0Hz), 5.44 (m, 1H), 5.51 (m, 1H), 5.77〜6.23
(m, 1H), 6.97 (d, 2H, J=7.0Hz), 8.07 (d, 2H, J=6.9
Hz). IR (cm-1); 2450〜3000(-OH), 1680 (C=O), 1600, 155
0, 1430, 1350, 1250, 1180, 1010, 1000, 930, 850, 7
70. Mass (m/e); 178 (M+), 41 (CH2=CHCH2 +).
J=5.0Hz), 5.44 (m, 1H), 5.51 (m, 1H), 5.77〜6.23
(m, 1H), 6.97 (d, 2H, J=7.0Hz), 8.07 (d, 2H, J=6.9
Hz). IR (cm-1); 2450〜3000(-OH), 1680 (C=O), 1600, 155
0, 1430, 1350, 1250, 1180, 1010, 1000, 930, 850, 7
70. Mass (m/e); 178 (M+), 41 (CH2=CHCH2 +).
【0048】五酸化リン90gにクロロホルム100mlおよ
びジエチルエーテル200mlを加え、アルゴンガス雰囲気
下60℃にて2日間還流した後溶媒を留去すると、ポリリ
ン酸エステル(以下PPEと略記する)が粘性のある無色
の液体として得られた。このPPE26.4gとp-アリルオ
キシ安息香酸5.88g (33.0mmol)および4ーブトキシ-4'ー
ヒドロキシビフェニル8.00g(33.0mmol)をアルゴンガス
雰囲気下クロロホルム150mlに溶解し、室温にて一晩攪
拌した。水を加え塩化メチレンにて抽出し、有機相を無
水硫酸ナトリウムにて乾燥し溶媒を留去した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し12.8gの白色
固体を得た。得られた生成物について、1H−NMR、
IRおよびMassスペクトル分析を行ない、上記化学
式(4)で表わされる4ー(4'ーブトキシビフェニル)p-
アリルオキシベンゾエートであることを確認した。(収
率; 96.4%)
びジエチルエーテル200mlを加え、アルゴンガス雰囲気
下60℃にて2日間還流した後溶媒を留去すると、ポリリ
ン酸エステル(以下PPEと略記する)が粘性のある無色
の液体として得られた。このPPE26.4gとp-アリルオ
キシ安息香酸5.88g (33.0mmol)および4ーブトキシ-4'ー
ヒドロキシビフェニル8.00g(33.0mmol)をアルゴンガス
雰囲気下クロロホルム150mlに溶解し、室温にて一晩攪
拌した。水を加え塩化メチレンにて抽出し、有機相を無
水硫酸ナトリウムにて乾燥し溶媒を留去した後、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し12.8gの白色
固体を得た。得られた生成物について、1H−NMR、
IRおよびMassスペクトル分析を行ない、上記化学
式(4)で表わされる4ー(4'ーブトキシビフェニル)p-
アリルオキシベンゾエートであることを確認した。(収
率; 96.4%)
【0049】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.99 (t, 3H,
J=6.6Hz), 1.35〜1.95 (m, 4H), 4.01(t, 2H, J=6.3H
z), 4.64 (dt, 2H, J=5.1Hz), 5.18-5.50 (m, 2H), 5.7
8〜6.23(m, 1H), 6.96 (d, 2H, J=8.5Hz), 7.00 (d, 2
H, J=9.0Hz), 7.23 (d, 2H, J=8.6Hz), 7.51 (d, 2H, J
=8.8Hz), 7.58 (d, 2H, J=8.8Hz), 8.16 (d, 2H, J=9.0
Hz). IR (cm-1); 2960, 2940, 2880, 1720 (C=O), 1600, 151
0, 1470, 1320, 1245, 1210, 1160, 1070, 1040, 940,
840, 810, 760. Mass (m/e); 402 (M+), 161, 41 (CH2=CHCH2 +).
J=6.6Hz), 1.35〜1.95 (m, 4H), 4.01(t, 2H, J=6.3H
z), 4.64 (dt, 2H, J=5.1Hz), 5.18-5.50 (m, 2H), 5.7
8〜6.23(m, 1H), 6.96 (d, 2H, J=8.5Hz), 7.00 (d, 2
H, J=9.0Hz), 7.23 (d, 2H, J=8.6Hz), 7.51 (d, 2H, J
=8.8Hz), 7.58 (d, 2H, J=8.8Hz), 8.16 (d, 2H, J=9.0
Hz). IR (cm-1); 2960, 2940, 2880, 1720 (C=O), 1600, 151
0, 1470, 1320, 1245, 1210, 1160, 1070, 1040, 940,
840, 810, 760. Mass (m/e); 402 (M+), 161, 41 (CH2=CHCH2 +).
【0050】得られた4-(4'-ブトキシビフェニル) p-ア
リルオキシベンゾエート8.75g(21.0mmol)とジメチルエ
トキシシラン7.30ml(53.0mmol)をテトラヒドロフラン10
0mlに溶解し、ジシクロペンタジエニルプラチナムジク
ロリドの塩化メチレン溶液(0.1mol/l)0.50mlを加え、ア
ルゴンガス雰囲気下50℃にて3時間攪拌した。溶媒を留
去した後、上記化学式(5)で表わされる4-(4'-ブトキ
シビフェニル) p-(3ージメチルエトキシシリルプロポキ
シ)ベンゾエートを粗生成物として得た。
リルオキシベンゾエート8.75g(21.0mmol)とジメチルエ
トキシシラン7.30ml(53.0mmol)をテトラヒドロフラン10
0mlに溶解し、ジシクロペンタジエニルプラチナムジク
ロリドの塩化メチレン溶液(0.1mol/l)0.50mlを加え、ア
ルゴンガス雰囲気下50℃にて3時間攪拌した。溶媒を留
去した後、上記化学式(5)で表わされる4-(4'-ブトキ
シビフェニル) p-(3ージメチルエトキシシリルプロポキ
シ)ベンゾエートを粗生成物として得た。
【0051】ここで得られた粗生成物をアセトン35mlお
よびテトラヒドロフラン50mlに溶解し、この溶液を室温
にて炭酸カリウム9.0g(65.1mmol)を水15mlおよびアセ
トン45mlに溶かした溶液に注ぎ込み、さらにこの溶液に
炭酸カリウム9.0g(65.1mmol)を水45mlに溶かした水溶
液を加えた。室温にて8時間攪拌した後、この反応溶液
をリン酸二水素カリウム30gを含む過剰量の氷水中に注
ぎ込み、塩化メチレンで抽出後有機相を無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。溶媒を留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し4.38gの白色固体を得
た。得られた生成物について、1H−NMR、IRおよ
びMassスペクトル分析を行ない、上記化学式(6)
で表わされる4-(4'-ブトキシビフェニル) p-(3-ジメチ
ルヒドロキシシリルプロポキシ)ベンゾエートであるこ
とを確認した。(収率; 2段階で42.2%)
よびテトラヒドロフラン50mlに溶解し、この溶液を室温
にて炭酸カリウム9.0g(65.1mmol)を水15mlおよびアセ
トン45mlに溶かした溶液に注ぎ込み、さらにこの溶液に
炭酸カリウム9.0g(65.1mmol)を水45mlに溶かした水溶
液を加えた。室温にて8時間攪拌した後、この反応溶液
をリン酸二水素カリウム30gを含む過剰量の氷水中に注
ぎ込み、塩化メチレンで抽出後有機相を無水硫酸ナトリ
ウムにて乾燥した。溶媒を留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し4.38gの白色固体を得
た。得られた生成物について、1H−NMR、IRおよ
びMassスペクトル分析を行ない、上記化学式(6)
で表わされる4-(4'-ブトキシビフェニル) p-(3-ジメチ
ルヒドロキシシリルプロポキシ)ベンゾエートであるこ
とを確認した。(収率; 2段階で42.2%)
【0052】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.12 (s, 6H),
0.52〜0.82 (m, 2H), 0.98 (t, 3H,J=3.8Hz), 1.12〜
1.92 (m, 7H), 3.97 (t, 2H, J=6.5Hz), 4.00 (t, 2H,
J=6.5Hz), 6.92 (d, 4H, J=8.0Hz), 7.20 (d, 2H, J=7.
8Hz), 7.84 (d, 2H, J=8.6Hz),7.92 (d, 2H, J=8.6Hz),
8.15 (d, 2H, J=8.9Hz). IR (cm-1); 3400 (-OH), 2960, 2940, 2880, 1740 (C=
O), 1720, 1620, 1510, 1490, 1440, 1410, 1260 (Si-
C), 1220, 1175, 1090, 1060 (Si-O), 1010, 990,900,
840, 820, 780. Mass (m/e); 478 (M+), 416, 362, 242, 186, 121, 75
(HOMe2Si+).
0.52〜0.82 (m, 2H), 0.98 (t, 3H,J=3.8Hz), 1.12〜
1.92 (m, 7H), 3.97 (t, 2H, J=6.5Hz), 4.00 (t, 2H,
J=6.5Hz), 6.92 (d, 4H, J=8.0Hz), 7.20 (d, 2H, J=7.
8Hz), 7.84 (d, 2H, J=8.6Hz),7.92 (d, 2H, J=8.6Hz),
8.15 (d, 2H, J=8.9Hz). IR (cm-1); 3400 (-OH), 2960, 2940, 2880, 1740 (C=
O), 1720, 1620, 1510, 1490, 1440, 1410, 1260 (Si-
C), 1220, 1175, 1090, 1060 (Si-O), 1010, 990,900,
840, 820, 780. Mass (m/e); 478 (M+), 416, 362, 242, 186, 121, 75
(HOMe2Si+).
【0053】実施例2 モノマーの合成1
【0054】
【化16】
【0055】参考例1で得られた4-(4'-ブトキシビフェ
ニル) p-(3-ジメチルヒドロキシシリルプロポキシ)ベン
ゾエート1.48g(8.15mmol)をアルゴンガス雰囲気下無水
テトラヒドロフラン100mlに溶解し、この溶液にトリエ
チルアミン0.43ml(3.09mmol)を加えた。500ml三つ口フ
ラスコ中にジクロロジメチルシラン30.0ml(247mmol)を
入れ氷浴上で0℃に冷却し、上記の溶液を滴下ロートか
らアルゴンガス雰囲気下ゆっくりと滴下し、滴下終了後
さらに0℃にて1時間攪拌した。次に、この反応容器を
真空ポンプに接続し、室温にて過剰のジクロロジメチル
シランおよび溶媒を減圧下で留去し中間生成物を乾固さ
せた。これに再び無水テトラヒドロフラン30mlを加え生
成物を溶解させた後、実施例1で得られた3ーメタクリロ
キシプロピルジメチルシラノール0.75g(3.71mmol)を加
え室温で一晩攪拌した。白色塩が生成するので、それを
ジエチルエーテルで洗浄しながらろ別し溶媒を留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し1.
57gの白色固体を得た。得られた生成物について、1H
−NMR、IRおよびMassスペクトル分析を行な
い、上記の化学式(7)で表わされるモノマーであるこ
とを確認した。(収率;68.8%)
ニル) p-(3-ジメチルヒドロキシシリルプロポキシ)ベン
ゾエート1.48g(8.15mmol)をアルゴンガス雰囲気下無水
テトラヒドロフラン100mlに溶解し、この溶液にトリエ
チルアミン0.43ml(3.09mmol)を加えた。500ml三つ口フ
ラスコ中にジクロロジメチルシラン30.0ml(247mmol)を
入れ氷浴上で0℃に冷却し、上記の溶液を滴下ロートか
らアルゴンガス雰囲気下ゆっくりと滴下し、滴下終了後
さらに0℃にて1時間攪拌した。次に、この反応容器を
真空ポンプに接続し、室温にて過剰のジクロロジメチル
シランおよび溶媒を減圧下で留去し中間生成物を乾固さ
せた。これに再び無水テトラヒドロフラン30mlを加え生
成物を溶解させた後、実施例1で得られた3ーメタクリロ
キシプロピルジメチルシラノール0.75g(3.71mmol)を加
え室温で一晩攪拌した。白色塩が生成するので、それを
ジエチルエーテルで洗浄しながらろ別し溶媒を留去した
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し1.
57gの白色固体を得た。得られた生成物について、1H
−NMR、IRおよびMassスペクトル分析を行な
い、上記の化学式(7)で表わされるモノマーであるこ
とを確認した。(収率;68.8%)
【0056】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.20 (s, 18
H), 0.54-0.86 (m, 4H), 1.01 (t, 3H,J=6.2Hz), 1.20-
2.22 (m, 8H), 2.25 (s, 3H), 4.36 (m, 6H), 6.08 (m,
1H), 6.68 (m, 1H), 7.43 (d, 4H, J=7.9Hz), 7.70
(d, 2H, J=7.9Hz), 7.94 (d, 2H,J=8.6Hz), 8.05(d, 2
H, J=8.6Hz), 8.60 (d, 2H, J=8.9Hz). IR (cm-1); 2970, 2940, 2900, 1730 (C=O), 1640, 160
5, 1580, 1515, 1500, 1475, 1420, 1320, 1290, 1260
(Si-C), 1220, 1170, 1110-1000 (SiOSi), 970,940, 90
0, 840, 800. Mass (m/e); 736 (M+), 635, 561, 487, 439, 291, 21
7, 69 (CH2=C(CH3)CO+),41 (CH2=C(CH3)+).
H), 0.54-0.86 (m, 4H), 1.01 (t, 3H,J=6.2Hz), 1.20-
2.22 (m, 8H), 2.25 (s, 3H), 4.36 (m, 6H), 6.08 (m,
1H), 6.68 (m, 1H), 7.43 (d, 4H, J=7.9Hz), 7.70
(d, 2H, J=7.9Hz), 7.94 (d, 2H,J=8.6Hz), 8.05(d, 2
H, J=8.6Hz), 8.60 (d, 2H, J=8.9Hz). IR (cm-1); 2970, 2940, 2900, 1730 (C=O), 1640, 160
5, 1580, 1515, 1500, 1475, 1420, 1320, 1290, 1260
(Si-C), 1220, 1170, 1110-1000 (SiOSi), 970,940, 90
0, 840, 800. Mass (m/e); 736 (M+), 635, 561, 487, 439, 291, 21
7, 69 (CH2=C(CH3)CO+),41 (CH2=C(CH3)+).
【0057】使用例1 ポリマーの合成1
【0058】
【化17】
【0059】実施例2で得られたモノマー0.50g(0.678
mmol)をテトラヒドロフラン7mlに溶解し、この溶液にア
ゾビスイソブチロニトリル4.45mg(0.0271mmol)を加え
た。この溶液を充分に凍結脱気した後、60℃にて24時間
重合反応を行なった。反応液をメタノール400mlに注ぎ
込み、得られた沈澱を回収しさらにテトラヒドロフラン
に溶解してメタノール中に再沈澱を2回繰り返した。そ
の結果、0.27gの白色固体状のポリマーが得られた。
(収率; 54.0%) 得られたポリマーについて、1H−NM
Rスペクトル分析を行ない、上記化学式(8)で表わさ
れるポリマーであることを確認した。ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィーにより求めた数平均分子量およ
び重量平均分子量は、ポリスチレン換算値でそれぞれ3.
91x103および5.02x103であった。また、DSC測定およ
び偏光顕微鏡観察により、このポリマーのガラス転移温
度は-6℃であり、ー6℃から156℃までの幅広い温度範囲
でスメクチック液晶相を示した。
mmol)をテトラヒドロフラン7mlに溶解し、この溶液にア
ゾビスイソブチロニトリル4.45mg(0.0271mmol)を加え
た。この溶液を充分に凍結脱気した後、60℃にて24時間
重合反応を行なった。反応液をメタノール400mlに注ぎ
込み、得られた沈澱を回収しさらにテトラヒドロフラン
に溶解してメタノール中に再沈澱を2回繰り返した。そ
の結果、0.27gの白色固体状のポリマーが得られた。
(収率; 54.0%) 得られたポリマーについて、1H−NM
Rスペクトル分析を行ない、上記化学式(8)で表わさ
れるポリマーであることを確認した。ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィーにより求めた数平均分子量およ
び重量平均分子量は、ポリスチレン換算値でそれぞれ3.
91x103および5.02x103であった。また、DSC測定およ
び偏光顕微鏡観察により、このポリマーのガラス転移温
度は-6℃であり、ー6℃から156℃までの幅広い温度範囲
でスメクチック液晶相を示した。
【0060】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.20 (s, 18
H), 0.54-0.86 (m, 4H), 1.15-2.42 (m,14H), 4.34-4.6
0 (m, 6H), 7.43 (d, 4H, J=6.6Hz), 7.63 (d, 2H, J=
6.7Hz),7.95 (d, 2H, J=6.7Hz), 8.05(d, 2H, J=6.8H
z), 8.61 (d, 2H, J=6.6Hz).
H), 0.54-0.86 (m, 4H), 1.15-2.42 (m,14H), 4.34-4.6
0 (m, 6H), 7.43 (d, 4H, J=6.6Hz), 7.63 (d, 2H, J=
6.7Hz),7.95 (d, 2H, J=6.7Hz), 8.05(d, 2H, J=6.8H
z), 8.61 (d, 2H, J=6.6Hz).
【0061】 参考例2 液晶基を有するシラノール化合物の合成2
【0062】
【化18】
【0063】PPE15.0gとp-アリルオキシ安息香酸2.
65g(15.2mmol)および4ーオクチルオキシー4'ーヒドロキシ
ビフェニル4.50g(13.4mmol)をアルゴンガス雰囲気下ク
ロロホルム120mlに溶解し、室温にて一晩攪拌した。水
を加え塩化メチレンにて抽出し、有機相を無水硫酸ナト
リウムにて乾燥し溶媒を留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し5.30gの白色固体を得
た。得られた生成物について、1H−NMR、IRおよ
び Massスペクトル分析を行ない、上記化学式
(9)で表わされる4-(4'-オクチルオキシビフェニル)
p-アリルオキシベンゾエートであることを確認した。
(収率; 86.2%)
65g(15.2mmol)および4ーオクチルオキシー4'ーヒドロキシ
ビフェニル4.50g(13.4mmol)をアルゴンガス雰囲気下ク
ロロホルム120mlに溶解し、室温にて一晩攪拌した。水
を加え塩化メチレンにて抽出し、有機相を無水硫酸ナト
リウムにて乾燥し溶媒を留去した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し5.30gの白色固体を得
た。得られた生成物について、1H−NMR、IRおよ
び Massスペクトル分析を行ない、上記化学式
(9)で表わされる4-(4'-オクチルオキシビフェニル)
p-アリルオキシベンゾエートであることを確認した。
(収率; 86.2%)
【0064】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.89 (t, 3H,
J=2.4Hz), 1.20-2.05 (m, 12H), 4.00(t, 2H, J=6.4H
z), 4.64 (d, 2H, J=5.1Hz), 5.25-5.65 (m, 1H), 5.76
-6.45 (m, 2H), 6.96 (d, 2H, J=8.8Hz), 7.00 (d, 2H,
J=8.8Hz), 7.23 (d, 2H, J=8.6Hz), 7.51 (d, 2H, J=
8.8Hz), 7.58 (d, 2H, J=8.6Hz), 8.16 (d, 2H, J=9.0H
z). IR (cm-1); 2960, 2930, 2850, 1725 (C=O), 1610, 150
0, 1470, 1310, 1290, 1250, 1215, 1165, 1080, 1010,
995, 930, 880, 840, 800, 760, 690. Mass (m/e); 458 (M+), 298, 161, 41 (CH2=CHCH2 +).
J=2.4Hz), 1.20-2.05 (m, 12H), 4.00(t, 2H, J=6.4H
z), 4.64 (d, 2H, J=5.1Hz), 5.25-5.65 (m, 1H), 5.76
-6.45 (m, 2H), 6.96 (d, 2H, J=8.8Hz), 7.00 (d, 2H,
J=8.8Hz), 7.23 (d, 2H, J=8.6Hz), 7.51 (d, 2H, J=
8.8Hz), 7.58 (d, 2H, J=8.6Hz), 8.16 (d, 2H, J=9.0H
z). IR (cm-1); 2960, 2930, 2850, 1725 (C=O), 1610, 150
0, 1470, 1310, 1290, 1250, 1215, 1165, 1080, 1010,
995, 930, 880, 840, 800, 760, 690. Mass (m/e); 458 (M+), 298, 161, 41 (CH2=CHCH2 +).
【0065】得られた4-(4'-オクチルオキシビフェニ
ル) p-アリルオキシベンゾエート5.00g(10.9mmol)とジ
メチルエトキシシラン2.5ml(18.2mmol)をテトラヒドロ
フラン50mlに溶解し、ジシクロペンタジエニルプラチナ
ムジクロリドの塩化メチレン溶液(0.1mol/l)0.20mlを加
え、アルゴンガス雰囲気下50℃にて3時間攪拌した。溶
媒を留去した後、上記化学式(10)で表わされる4-
(4'-オクチルオキシビフェニル) p-(3ージメチルエトキ
シシリルプロポキシ)ベンゾエートを粗生成物として得
た。
ル) p-アリルオキシベンゾエート5.00g(10.9mmol)とジ
メチルエトキシシラン2.5ml(18.2mmol)をテトラヒドロ
フラン50mlに溶解し、ジシクロペンタジエニルプラチナ
ムジクロリドの塩化メチレン溶液(0.1mol/l)0.20mlを加
え、アルゴンガス雰囲気下50℃にて3時間攪拌した。溶
媒を留去した後、上記化学式(10)で表わされる4-
(4'-オクチルオキシビフェニル) p-(3ージメチルエトキ
シシリルプロポキシ)ベンゾエートを粗生成物として得
た。
【0066】ここで得られた粗生成物をアセトン40mlお
よびテトラヒドロフラン60mlに溶解し、この溶液を室温
にて炭酸カリウム3.5g(25.3mmol)を水50mlおよびテト
ラヒドロフラン120mlに溶かした溶液に注ぎ込み、さら
にこの溶液に炭酸カリウム3.5g(25.3mmol)を水100mlに
溶かした水溶液を加えた。室温にて2時間攪拌した後、
この反応溶液をリン酸二水素カリウム12gを含む過剰量
の氷水中に注ぎ込み、塩化メチレンで抽出後有機相を無
水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し4.01gの
白色固体を得た。得られた生成物について、1H−NM
R、IRおよびMassスペクトル分析を行ない、上記
化学式(11)で表わされる4-(4'-オクチルオキシビフ
ェニル)p-(3-ジメチルヒドロキシシリルプロポキシ)ベ
ンゾエートであることを確認した。(収率; 2段階で68.
8%)
よびテトラヒドロフラン60mlに溶解し、この溶液を室温
にて炭酸カリウム3.5g(25.3mmol)を水50mlおよびテト
ラヒドロフラン120mlに溶かした溶液に注ぎ込み、さら
にこの溶液に炭酸カリウム3.5g(25.3mmol)を水100mlに
溶かした水溶液を加えた。室温にて2時間攪拌した後、
この反応溶液をリン酸二水素カリウム12gを含む過剰量
の氷水中に注ぎ込み、塩化メチレンで抽出後有機相を無
水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を留去した後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し4.01gの
白色固体を得た。得られた生成物について、1H−NM
R、IRおよびMassスペクトル分析を行ない、上記
化学式(11)で表わされる4-(4'-オクチルオキシビフ
ェニル)p-(3-ジメチルヒドロキシシリルプロポキシ)ベ
ンゾエートであることを確認した。(収率; 2段階で68.
8%)
【0067】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.20 (s, 6H),
0.58〜0.70 (m, 2H), 0.75 (t, 3H,J=3.8Hz), 1.20〜
2.10 (m, 15H), 4.30 (t, 2H, J=6.4Hz), 4.33 (t, 2H,
J=6.4Hz), 6.98 (d, 4H, J=7.9Hz), 7.25 (d, 2H, J=
8.6Hz), 7.52 (d, 2H, J=8.6Hz), 7.59 (d, 2H, J=8.6H
z), 8.17 (d, 2H, J=9.0Hz). IR (cm-1); 3280 (-OH), 2960, 2940, 2860, 1740 (C=
O), 1610, 1510, 1500, 1470, 1400, 1250 (Si-C), 122
0, 1160, 1075, 1040, 1000, 890, 860, 840, 800, 76
0, 680. Mass (m/e); 534 (M+), 418, 298, 237, 195, 121, 75
(HOMe2Si+).
0.58〜0.70 (m, 2H), 0.75 (t, 3H,J=3.8Hz), 1.20〜
2.10 (m, 15H), 4.30 (t, 2H, J=6.4Hz), 4.33 (t, 2H,
J=6.4Hz), 6.98 (d, 4H, J=7.9Hz), 7.25 (d, 2H, J=
8.6Hz), 7.52 (d, 2H, J=8.6Hz), 7.59 (d, 2H, J=8.6H
z), 8.17 (d, 2H, J=9.0Hz). IR (cm-1); 3280 (-OH), 2960, 2940, 2860, 1740 (C=
O), 1610, 1510, 1500, 1470, 1400, 1250 (Si-C), 122
0, 1160, 1075, 1040, 1000, 890, 860, 840, 800, 76
0, 680. Mass (m/e); 534 (M+), 418, 298, 237, 195, 121, 75
(HOMe2Si+).
【0068】実施例3 モノマーの合成2
【0069】
【化19】
【0070】参考例2で得られた4-(4'-オクチルオキシ
ビフェニル) p-(3-ジメチルヒドロキシシリルプロポキ
シ)ベンゾエート2.00g(3.74mmol)をアルゴンガス雰囲
気下無水テトラヒドロフラン100mlに溶解し、この溶液
にトリエチルアミン0.55ml(3.95mmol)を加えた。500ml
三つ口フラスコ中にジクロロジメチルシラン30.0ml(247
mmol)を入れ氷浴上で0℃に冷却し、上記の溶液を滴下
ロートからアルゴンガス雰囲気下ゆっくりと滴下し、滴
下終了後さらに0℃にて1時間攪拌した。次に、この反
応容器を真空ポンプに接続し、室温にて過剰のジクロロ
ジメチルシランおよび溶媒を減圧下で留去し中間生成物
を乾固させた。これに再び無水テトラヒドロフラン30ml
を加え生成物を溶解させた後、実施例1で得られた3ーメ
タクリロキシプロピルジメチルシラノール0.76g(3.74m
mol)を加え室温で一晩攪拌した。白色塩が生成するの
で、それをジエチルエーテルで洗浄しながらろ別し溶媒
を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し1.88gの白色固体を得た。得られた生成物につ
いて、1H−NMR、IRおよびMassスペクトル分
析を行ない、上記の化学式(12)で表わされるモノマ
ーであることを確認した。(収率; 63.4%)
ビフェニル) p-(3-ジメチルヒドロキシシリルプロポキ
シ)ベンゾエート2.00g(3.74mmol)をアルゴンガス雰囲
気下無水テトラヒドロフラン100mlに溶解し、この溶液
にトリエチルアミン0.55ml(3.95mmol)を加えた。500ml
三つ口フラスコ中にジクロロジメチルシラン30.0ml(247
mmol)を入れ氷浴上で0℃に冷却し、上記の溶液を滴下
ロートからアルゴンガス雰囲気下ゆっくりと滴下し、滴
下終了後さらに0℃にて1時間攪拌した。次に、この反
応容器を真空ポンプに接続し、室温にて過剰のジクロロ
ジメチルシランおよび溶媒を減圧下で留去し中間生成物
を乾固させた。これに再び無水テトラヒドロフラン30ml
を加え生成物を溶解させた後、実施例1で得られた3ーメ
タクリロキシプロピルジメチルシラノール0.76g(3.74m
mol)を加え室温で一晩攪拌した。白色塩が生成するの
で、それをジエチルエーテルで洗浄しながらろ別し溶媒
を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し1.88gの白色固体を得た。得られた生成物につ
いて、1H−NMR、IRおよびMassスペクトル分
析を行ない、上記の化学式(12)で表わされるモノマ
ーであることを確認した。(収率; 63.4%)
【0071】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.20 (s, 18
H), 0.55-0.88 (m, 4H), 1.01 (t, 3H,J=6.2Hz), 1.30-
2.12 (m, 16H), 2.34 (s, 3H), 4.54 (m, 6H), 5.93
(m, 1H),6.50 (m, 1H), 7.58 (d, 4H, J=7.6Hz), 7.64
(d, 2H, J=7.9Hz), 7.94 (d, 2H,J=8.1Hz), 8.12 (d, 2
H, J=8.1Hz), 8.55 (d, 2H, J=9.0Hz). IR (cm-1); 2980, 2940, 2880, 1730 (C=O), 1640, 161
0, 1580, 1510, 1500, 1480, 1420, 1330, 1330, 1260
(Si-C), 1220, 1170, 1110-1000 (SiOSi), 940,900, 84
0, 800. Mass (m/e); 793 (M+H+), 587, 496, 439, 365, 291, 2
17, 69 (CH2=C(CH3)CO+), 41 (CH2=C(CH3)+).
H), 0.55-0.88 (m, 4H), 1.01 (t, 3H,J=6.2Hz), 1.30-
2.12 (m, 16H), 2.34 (s, 3H), 4.54 (m, 6H), 5.93
(m, 1H),6.50 (m, 1H), 7.58 (d, 4H, J=7.6Hz), 7.64
(d, 2H, J=7.9Hz), 7.94 (d, 2H,J=8.1Hz), 8.12 (d, 2
H, J=8.1Hz), 8.55 (d, 2H, J=9.0Hz). IR (cm-1); 2980, 2940, 2880, 1730 (C=O), 1640, 161
0, 1580, 1510, 1500, 1480, 1420, 1330, 1330, 1260
(Si-C), 1220, 1170, 1110-1000 (SiOSi), 940,900, 84
0, 800. Mass (m/e); 793 (M+H+), 587, 496, 439, 365, 291, 2
17, 69 (CH2=C(CH3)CO+), 41 (CH2=C(CH3)+).
【0072】使用例2 ポリマーの合成2
【0073】
【化20】
【0074】実施例3で得られたモノマー0.50g(0.630
mmol)をテトラヒドロフラン6mlに溶解し、この溶液にア
ゾビスイソブチロニトリル4.50mg(0.0274mmol)を加え
た。この溶液を充分に凍結脱気した後、60℃にて24時間
重合反応を行なった。反応液をメタノール400mlに注ぎ
込み、得られた沈澱を回収しさらにテトラヒドロフラン
に溶解してメタノール中に再沈澱を2回繰り返した。そ
の結果、0.30gの白色固体状のポリマーが得られた。
(収率; 60.0%) 得られたポリマーについて、1H−NM
Rスペクトル分析を行ない、上記化学式(13)で表わ
されるポリマーであることを確認した。ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィーにより求めた数平均分子量お
よび重量平均分子量は、ポリスチレン換算値でそれぞれ
4.27x103および5.75x103であった。また、DSC測定お
よび偏光顕微鏡観察により、このポリマーのガラス転移
温度は-5℃であり、ー5℃から167℃までの幅広い温度範
囲でスメクチック液晶相を示した。
mmol)をテトラヒドロフラン6mlに溶解し、この溶液にア
ゾビスイソブチロニトリル4.50mg(0.0274mmol)を加え
た。この溶液を充分に凍結脱気した後、60℃にて24時間
重合反応を行なった。反応液をメタノール400mlに注ぎ
込み、得られた沈澱を回収しさらにテトラヒドロフラン
に溶解してメタノール中に再沈澱を2回繰り返した。そ
の結果、0.30gの白色固体状のポリマーが得られた。
(収率; 60.0%) 得られたポリマーについて、1H−NM
Rスペクトル分析を行ない、上記化学式(13)で表わ
されるポリマーであることを確認した。ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィーにより求めた数平均分子量お
よび重量平均分子量は、ポリスチレン換算値でそれぞれ
4.27x103および5.75x103であった。また、DSC測定お
よび偏光顕微鏡観察により、このポリマーのガラス転移
温度は-5℃であり、ー5℃から167℃までの幅広い温度範
囲でスメクチック液晶相を示した。
【0075】1H-NMR, δ (CDCl3, ppm); 0.20 (s, 18
H), 0.55-0.83 (m, 4H), 1.10-2.44 (m,22H), 4.25-4.6
9 (m, 6H), 7.35 (d, 4H, J=6.8Hz), 7.62 (d, 2H, J=
6.8Hz),7.92 (d, 2H, J=6.9Hz), 8.03(d, 2H, J=6.8H
z), 8.58 (d, 2H, J=6.6Hz).
H), 0.55-0.83 (m, 4H), 1.10-2.44 (m,22H), 4.25-4.6
9 (m, 6H), 7.35 (d, 4H, J=6.8Hz), 7.62 (d, 2H, J=
6.8Hz),7.92 (d, 2H, J=6.9Hz), 8.03(d, 2H, J=6.8H
z), 8.58 (d, 2H, J=6.6Hz).
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アル
キル基またはフェニル基、R1およびR2は同一あるいは
異なっても良く、アルキル基またはフェニル基、pは2
〜10の整数である。)で表わされる重合基を有するシ
ラノール化合物。 - 【請求項2】 下記一般式(II) 【化2】 (式中、R3およびR4は同一あるいは異なっても良く、
アルキル基またはフェニル基、Xは単結合、酸素原子、
または-COO-もしくは-OCO-で表わされる基、Qは液晶
基、 qは2〜10の整数である。)で表わされる液晶
基を有するシラノール化合物と、下記一般式(III) 【化3】 (式中、R5〜R8は同一あるいは異なっても良く、アル
キル基またはフェニル基、mは0〜5の整数である。)
で表わされるジクロロ化合物とを反応させた後、下記一
般式(I) 【化4】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アル
キル基またはフェニル基、R1およびR2は同一あるいは
異なっても良く、アルキル基またはフェニル基、pは2
〜10の整数である。)で表わされる重合基を有するシ
ラノール化合物と反応させることを特徴とする、下記一
般式(IV) 【化5】 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アル
キル基またはフェニル基、R1〜R8は同一あるいは異な
っても良く、アルキル基またはフェニル基、Xは単結
合、酸素原子、または-COO-もしくは-OCO-で表わされる
基、Qは液晶基、pおよびqは2〜10の整数、mは0
〜5の整数である。)で表わされる液晶基を有するモノ
マーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5069071A JPH06256355A (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 新規シラノール化合物、およびそれを用いた液晶基を有するモノマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5069071A JPH06256355A (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 新規シラノール化合物、およびそれを用いた液晶基を有するモノマーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06256355A true JPH06256355A (ja) | 1994-09-13 |
Family
ID=13391986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5069071A Pending JPH06256355A (ja) | 1993-03-05 | 1993-03-05 | 新規シラノール化合物、およびそれを用いた液晶基を有するモノマーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06256355A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5874602A (en) * | 1997-03-28 | 1999-02-23 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Process for the preparation of radically polymerizable group-functional silanol compounds |
| US6072013A (en) * | 1997-11-27 | 2000-06-06 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Silicone-grafted vinyl polymer and method for the preparation thereof |
| EP1201672A3 (en) * | 2000-10-26 | 2003-05-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organosilicon compound |
| JP2013520429A (ja) * | 2010-02-19 | 2013-06-06 | ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム | 有枝鎖シロキサンおよび合成のための方法 |
| EP2644660A1 (en) | 2012-03-27 | 2013-10-02 | Konica Minolta Business Technologies, Inc. | Production process for colorant, colorant composition, toner, ink for ink jet recording and color filter |
-
1993
- 1993-03-05 JP JP5069071A patent/JPH06256355A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5874602A (en) * | 1997-03-28 | 1999-02-23 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Process for the preparation of radically polymerizable group-functional silanol compounds |
| EP0867439A3 (en) * | 1997-03-28 | 2000-10-25 | Dow Corning Toray Silicone Company, Limited | Preparation of radically polymerizable group-fuctional silanol compounds |
| US6072013A (en) * | 1997-11-27 | 2000-06-06 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Silicone-grafted vinyl polymer and method for the preparation thereof |
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