JPH06256496A - 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 - Google Patents
新規ポリカーボネート重合体およびその製造法Info
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- JPH06256496A JPH06256496A JP4674993A JP4674993A JPH06256496A JP H06256496 A JPH06256496 A JP H06256496A JP 4674993 A JP4674993 A JP 4674993A JP 4674993 A JP4674993 A JP 4674993A JP H06256496 A JPH06256496 A JP H06256496A
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- polycarbonate polymer
- polymer
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- dihydric phenol
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は耐候性に優れ、各種形成材料やポリ
マーアロイの原料として有用なポリマーで、ビスアゾ構
造を有する構成単位を構造中に有するポリカーボネート
を提供する。 【構成】 ビスアゾ構造を有する二価フェノールから誘
導される構成単位（Ａ）と二価フェノール系化合物から
誘導される構成単位（Ｂ）からなり、構成単位（Ａ）の
組成がモル比で０＜（Ａ）／（（Ａ）＋（Ｂ））≦１で
あるポリカーボネート重合体。
マーアロイの原料として有用なポリマーで、ビスアゾ構
造を有する構成単位を構造中に有するポリカーボネート
を提供する。 【構成】 ビスアゾ構造を有する二価フェノールから誘
導される構成単位（Ａ）と二価フェノール系化合物から
誘導される構成単位（Ｂ）からなり、構成単位（Ａ）の
組成がモル比で０＜（Ａ）／（（Ａ）＋（Ｂ））≦１で
あるポリカーボネート重合体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なポリカーボネート
重合体とその製造方法に関する。さらに詳細には、本発
明のポリカーボネート重合体は、ビスアゾ構造を構成単
位に有する新規なポリカーボネート重合体であって、各
種成形材料やポリマーアロイ材料、特に電子写真用や光
デバイス用材料として有用のものである。
重合体とその製造方法に関する。さらに詳細には、本発
明のポリカーボネート重合体は、ビスアゾ構造を構成単
位に有する新規なポリカーボネート重合体であって、各
種成形材料やポリマーアロイ材料、特に電子写真用や光
デバイス用材料として有用のものである。
【０００２】
【従来の技術】現在生産されているポリカーボネート樹
脂の大部分は、主として２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）を原料とする
ビスフェノールＡ型ポリカーボネートである。ビスフェ
ノールＡ型ポリカーボネートはコスト、耐熱性、機械的
強度等のバランスのとれたポリカーボネート樹脂である
が、近年ポリカーボネートの用途拡大にともない、より
優れた物性を有するポリカーボネートが望まれており、
様々な構造を持つポリカーボネートが開発されている
（例えば特開昭 63-108023号、特開昭64-66236号、特開
平4-11627 号など）。近年それらよりさらに物性の優れ
たものあるいは特異な物性を有するポリカーボネートが
市場から求められており、新しいポリカーボネートの開
発が必要とされている。
脂の大部分は、主として２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）を原料とする
ビスフェノールＡ型ポリカーボネートである。ビスフェ
ノールＡ型ポリカーボネートはコスト、耐熱性、機械的
強度等のバランスのとれたポリカーボネート樹脂である
が、近年ポリカーボネートの用途拡大にともない、より
優れた物性を有するポリカーボネートが望まれており、
様々な構造を持つポリカーボネートが開発されている
（例えば特開昭 63-108023号、特開昭64-66236号、特開
平4-11627 号など）。近年それらよりさらに物性の優れ
たものあるいは特異な物性を有するポリカーボネートが
市場から求められており、新しいポリカーボネートの開
発が必要とされている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に鑑み、耐候性などの物性に優れ、特異な物性を有し、
各種成形材料やポリマーアロイ材料、特に電子写真用や
光デバイス用材料として有用なビスアゾ構造の構成単位
を有する新規なポリカーボネート重合体を提供するもの
である。
に鑑み、耐候性などの物性に優れ、特異な物性を有し、
各種成形材料やポリマーアロイ材料、特に電子写真用や
光デバイス用材料として有用なビスアゾ構造の構成単位
を有する新規なポリカーボネート重合体を提供するもの
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、構成単位にビスアゾ構造を有するポリカ
ーボネート重合体は新規なポリカーボネートであって、
各種成形材料やポリマーアロイ原料として有用であるこ
とを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに
至った。
を重ねた結果、構成単位にビスアゾ構造を有するポリカ
ーボネート重合体は新規なポリカーボネートであって、
各種成形材料やポリマーアロイ原料として有用であるこ
とを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに
至った。
【０００５】すなわち、本発明はビスアゾ構造を有する
前記化１で表される構成単位と前記化３で表される構成
単位とを有し、その組成がモル比で、０＜（Ａ）／
（（Ａ）＋（Ｂ））≦１であるポリカーボネート重合体
およびその製造法を提供するものである。
前記化１で表される構成単位と前記化３で表される構成
単位とを有し、その組成がモル比で、０＜（Ａ）／
（（Ａ）＋（Ｂ））≦１であるポリカーボネート重合体
およびその製造法を提供するものである。
【０００６】本発明の前記化１または前記化１と前記化
３の共重合体で代表されるビスアゾ構造を持つポリカー
ボネート重合体は、前記化５で表される二価フェノール
と前記化６で表される二価フェノールを炭酸エステル形
成性化合物と反応させることにより製造することができ
る。
３の共重合体で代表されるビスアゾ構造を持つポリカー
ボネート重合体は、前記化５で表される二価フェノール
と前記化６で表される二価フェノールを炭酸エステル形
成性化合物と反応させることにより製造することができ
る。
【０００７】前記化５で表される二価フェノールは、具
体的には、下記の化合物が例示される。これらはそれぞ
れ単独で、または二種以上を併用して使用することがで
きる。
体的には、下記の化合物が例示される。これらはそれぞ
れ単独で、または二種以上を併用して使用することがで
きる。
【化７】
【０００８】
【化８】
【０００９】（式中、Ｒ7 〜Ｒ8 はそれぞれ、水素、ハ
ロゲン、アルコキシ、ニトロ、置換基を有してもよいア
ルキル基又はアルケニル基、置換基を有してもよいアリ
ール基を示す。）
ロゲン、アルコキシ、ニトロ、置換基を有してもよいア
ルキル基又はアルケニル基、置換基を有してもよいアリ
ール基を示す。）
【００１０】前記化６で表される二価フェノールとして
は、具体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ケトン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、2,2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビ
スフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン（ビスフェノ−ルZ ；BPZ ）、2,2-ビス
（４−ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニル）プロパン、
2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジクロロフェニル）プ
ロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-ブロモフェニ
ル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-クロロフ
ェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-メチ
ルフェニル）プロパン、 2,2-ビス（４−ヒドロキシ−
3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）-1- フェニルエタン、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、α, ω- ビス［３
−（O −ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチル
シロキサンなどが例示される。これらは、２種類以上併
用して用いてもよい。
は、具体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）スルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ケトン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、2,2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビ
スフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）ブタン、1,1-ビス（４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン（ビスフェノ−ルZ ；BPZ ）、2,2-ビス
（４−ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニル）プロパン、
2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3,5-ジクロロフェニル）プ
ロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-ブロモフェニ
ル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-クロロフ
ェニル）プロパン、2,2-ビス（４−ヒドロキシ−3-メチ
ルフェニル）プロパン、 2,2-ビス（４−ヒドロキシ−
3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）-1- フェニルエタン、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、α, ω- ビス［３
−（O −ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチル
シロキサンなどが例示される。これらは、２種類以上併
用して用いてもよい。
【００１１】一方、炭酸エステル形成性化合物として
は、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−
ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボ
ネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフ
チルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げ
られる。
は、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−
ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボ
ネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフ
チルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げ
られる。
【００１２】前記化５で表される二価フェノールは、公
知の有機顔料製造法、例えばアニリン誘導体とナフトー
ル誘導体をジアゾ化、カップリング反応にて製造され
る。
知の有機顔料製造法、例えばアニリン誘導体とナフトー
ル誘導体をジアゾ化、カップリング反応にて製造され
る。
【００１３】本発明の重合体の製法としては、ビスフェ
ノールＡからポリカーボネートを製造する際に用いられ
ている公知の方法、例えば二価フェノールとホスゲンと
の直接反応（ホスゲン法）、あるいは二価フェノールと
ビスアリールカーボネートと）のエステル交換反応（エ
ステル交換法）などの方法を採用することができる。
ノールＡからポリカーボネートを製造する際に用いられ
ている公知の方法、例えば二価フェノールとホスゲンと
の直接反応（ホスゲン法）、あるいは二価フェノールと
ビスアリールカーボネートと）のエステル交換反応（エ
ステル交換法）などの方法を採用することができる。
【００１４】ホスゲン法とエステル交換法では、前記化
５で表される二価フェノールの耐熱性やエステル交換率
を考慮した場合、ホスゲン法の方が好ましい。またホス
ゲン法においては、前記化５で表される二価フェノール
の溶解性や反応性の観点から前記化５で表される二価フ
ェノールは全フェノールに対し70モル％以下使用するこ
とが好ましい。
５で表される二価フェノールの耐熱性やエステル交換率
を考慮した場合、ホスゲン法の方が好ましい。またホス
ゲン法においては、前記化５で表される二価フェノール
の溶解性や反応性の観点から前記化５で表される二価フ
ェノールは全フェノールに対し70モル％以下使用するこ
とが好ましい。
【００１５】前者のホスゲン法においては、通常酸結合
剤および溶媒の存在下において、前記化５で表される二
価フェノールと前記化６で表される二価フェノールとホ
スゲンを反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジ
ンや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ金属の水酸化物などが用いられる。
剤および溶媒の存在下において、前記化５で表される二
価フェノールと前記化６で表される二価フェノールとホ
スゲンを反応させる。酸結合剤としては、例えばピリジ
ンや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカ
リ金属の水酸化物などが用いられる。
【００１６】また反応溶媒としては、例えばジクロロメ
タン、1,2-ジクロロメタン、1,1,2、2-テトラクロロエ
タン、1,1,1-トリクロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化
炭化水素; ベンゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭
化水素; ジエチルエーテル等のエーテル類をあげること
ができ、これらは二種以上を混合して使用することもで
きる。また、所望により前記以外のエーテル類、ケトン
類エテスル類、ニトリル類等の親和性のある溶媒を混合
溶媒系が水と完全に相溶しない限度内で使用することも
できる。
タン、1,2-ジクロロメタン、1,1,2、2-テトラクロロエ
タン、1,1,1-トリクロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化
炭化水素; ベンゼン、キシレン、トルエン等の芳香族炭
化水素; ジエチルエーテル等のエーテル類をあげること
ができ、これらは二種以上を混合して使用することもで
きる。また、所望により前記以外のエーテル類、ケトン
類エテスル類、ニトリル類等の親和性のある溶媒を混合
溶媒系が水と完全に相溶しない限度内で使用することも
できる。
【００１７】また、重合触媒としては、トリエチルアミ
ン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリヘキシルアミン、トリドデシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、キ
ノリン、ジメチルアニリンなどの第三級アミンまたはト
リメチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩などが使
用される。
ン、トリメチルアミン、トリブチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリヘキシルアミン、トリドデシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、キ
ノリン、ジメチルアニリンなどの第三級アミンまたはト
リメチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラメチ
ルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩などが使
用される。
【００１８】また重合度を調節するために、フェノール
やｐ−tert−ブチルフェノール、トリブロモフェノール
等の他、長鎖アルキルフェノール、脂肪族カルボン酸ク
ロライド、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、芳香
族カルボン酸クロライド、ヒドロキシ安息香酸アルキル
エステル、アルキルエーテルフェノールなどの分子量調
節剤を添加して反応を行うことが望ましい。また、所望
に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトなどの
酸化防止剤や、フロログルシン、イサチンビスフェノー
ルなど分岐化剤を小量添加してもよい。
やｐ−tert−ブチルフェノール、トリブロモフェノール
等の他、長鎖アルキルフェノール、脂肪族カルボン酸ク
ロライド、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸、芳香
族カルボン酸クロライド、ヒドロキシ安息香酸アルキル
エステル、アルキルエーテルフェノールなどの分子量調
節剤を添加して反応を行うことが望ましい。また、所望
に応じ亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトなどの
酸化防止剤や、フロログルシン、イサチンビスフェノー
ルなど分岐化剤を小量添加してもよい。
【００１９】反応は通常０〜１５０℃、好ましくは５〜
４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間は反応温
度によって左右されるが、通常０．５分〜１０時間、好
ましくは１分〜２時間である。また、反応中は、反応系
のpHを１０以上に保持することが望ましい。
４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間は反応温
度によって左右されるが、通常０．５分〜１０時間、好
ましくは１分〜２時間である。また、反応中は、反応系
のpHを１０以上に保持することが望ましい。
【００２０】一方後者のエステル交換法においては、前
記化５および前記化６で表される二価フェノールとビス
アリールカーボネートとを混合し、減圧下で高温におい
て反応させる。反応は通常１５０〜３５０℃、好ましく
は２００〜３００℃の範囲の温度において行われ、また
減圧度は最終で好ましくは１mmHg以下にして、エステル
交換反応により生成した該ビスアリールカーボネートに
由来するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は
反応温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜
４時間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性
ガス雰囲気下で行うことが好ましく。また、所望に応
じ、前記の分子量調節剤、酸化防止剤や分岐化剤を添加
して反応を行ってもよい。
記化５および前記化６で表される二価フェノールとビス
アリールカーボネートとを混合し、減圧下で高温におい
て反応させる。反応は通常１５０〜３５０℃、好ましく
は２００〜３００℃の範囲の温度において行われ、また
減圧度は最終で好ましくは１mmHg以下にして、エステル
交換反応により生成した該ビスアリールカーボネートに
由来するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は
反応温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜
４時間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性
ガス雰囲気下で行うことが好ましく。また、所望に応
じ、前記の分子量調節剤、酸化防止剤や分岐化剤を添加
して反応を行ってもよい。
【００２１】これらの反応で合成されたポリカーボネー
ト重合体は、押出成形、射出成形、ブロ−成形、圧縮成
形、湿式成形など公知の成形法で成形可能であるが、容
易に成形加工できるためには極限粘度が2.0(dl/g) 以下
が望ましい。
ト重合体は、押出成形、射出成形、ブロ−成形、圧縮成
形、湿式成形など公知の成形法で成形可能であるが、容
易に成形加工できるためには極限粘度が2.0(dl/g) 以下
が望ましい。
【００２２】
【実施例】次に実施例により、本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
【００２３】実施例１ 下記式（１）
【００２４】
【化９】
【００２５】を有するクロロダイアンブルー80.2g と2,
2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（BPA ）2
2.8g 及びハイドロサルファイト0.1g、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウム50mgを 6.2 (w/v)％の水酸化ナト
リウム水溶液500ml に分散溶解した。これにメチレンク
ロライド360ml を加え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、
p-ターシャルブチルフェノール1.0gを加え、ついでホス
ゲン30g を50分を要して導入した。ホスゲン導入後、激
しく撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後0.2ml のトリ
エチルアミンを加え、約１時間撹拌し重合させた。
2-ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（BPA ）2
2.8g 及びハイドロサルファイト0.1g、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウム50mgを 6.2 (w/v)％の水酸化ナト
リウム水溶液500ml に分散溶解した。これにメチレンク
ロライド360ml を加え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、
p-ターシャルブチルフェノール1.0gを加え、ついでホス
ゲン30g を50分を要して導入した。ホスゲン導入後、激
しく撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後0.2ml のトリ
エチルアミンを加え、約１時間撹拌し重合させた。
【００２６】重合液を水相と有機相に分離し、有機相を
リン酸で中和し、洗液のpHを中性になるまで水洗を繰り
返した後、イソプロパノール470ml を加え、重合物を沈
澱させた。沈澱物を濾過後、乾燥して粉末状重合体を得
た。この重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度0.5g
／dlの溶液の温度20℃における極限粘度［η］は0.48dl
／g であった。
リン酸で中和し、洗液のpHを中性になるまで水洗を繰り
返した後、イソプロパノール470ml を加え、重合物を沈
澱させた。沈澱物を濾過後、乾燥して粉末状重合体を得
た。この重合体は、塩化メチレンを溶媒とする濃度0.5g
／dlの溶液の温度20℃における極限粘度［η］は0.48dl
／g であった。
【００２７】得られた上記重合体を赤外線吸収スペクト
ルより分析した結果、1650cm-1の位置にカルボニル基に
よる吸収、1240cm-1の位置にエーテル結合による吸収が
認められ、カーボネート結合を有することが確認され
た。また、3650〜3200cm-1の位置に水酸基由来の吸収は
ほとんど認められなかった。これらの結果から、この重
合体は下記構成単位からなるポリカーボネート重合体と
認められた。
ルより分析した結果、1650cm-1の位置にカルボニル基に
よる吸収、1240cm-1の位置にエーテル結合による吸収が
認められ、カーボネート結合を有することが確認され
た。また、3650〜3200cm-1の位置に水酸基由来の吸収は
ほとんど認められなかった。これらの結果から、この重
合体は下記構成単位からなるポリカーボネート重合体と
認められた。
【００２８】
【化１０】
【００２９】実施例２ ＢＰＡの代わりに、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン26.8gを用いた以外は、実施例１と同様
に行った。得られた重合体の極限粘度［η］は0.49dl／
g で、実施例１と同様に赤外吸収スペクトル分析よりこ
の重合体は下記構成単位を有するポリカーボネート重合
体と認められた。
シクロヘキサン26.8gを用いた以外は、実施例１と同様
に行った。得られた重合体の極限粘度［η］は0.49dl／
g で、実施例１と同様に赤外吸収スペクトル分析よりこ
の重合体は下記構成単位を有するポリカーボネート重合
体と認められた。
【００３０】
【化１１】
【００３１】
【発明の効果】本発明のポリカーボネート重合体は、構
成単位にビスアゾ構造を有する新規なポリマーであっ
て、耐候性を有し各種成形材料やポリマーアロイ原料に
使用する新規なポリカーボネートである。特に、本発明
のポリカーボネート重合体は、光導電構造を有すること
から電子写真、光デバイス、太陽電池等に応用すること
ができる。
成単位にビスアゾ構造を有する新規なポリマーであっ
て、耐候性を有し各種成形材料やポリマーアロイ原料に
使用する新規なポリカーボネートである。特に、本発明
のポリカーボネート重合体は、光導電構造を有すること
から電子写真、光デバイス、太陽電池等に応用すること
ができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 ビスアゾ構造を有する下記一般式（Ａ）
および下記一般式（Ｂ）からなる構成単位を有し、式
（Ａ）で表される構成単位の組成がモル比で、０＜
（Ａ）／（（Ａ）＋（Ｂ））≦１であるポリカーボネー
ト重合体。 【化１】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ6 はそれぞれ、水素、ハロゲン又は置
換基を有してもよいアルキル基又はアリール基、アリー
ル置換アミド基を示すか、Ｒ1 〜Ｒ3 又はＲ4 〜Ｒ6 が
一緒に結合して、炭素環、複素環、ヘテロ環を形成する
基を表す。Ｘは 【化２】 を表す。） 【化３】 （式中、Ｒ9 〜Ｒ16はそれぞれ、水素、ハロゲン、アル
コキシ、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル
基またはアリール基を示す。Ｙは、 【化４】 であり、ここにＲ17、Ｒ18はそれぞれ、水素、ハロゲン
又は置換基を有してもよいアルキル基又はアリール基を
表すか、Ｒ17及びＲ18が一緒に結合して、炭素環または
複素環を形成する基を表し、a およびb は１以上の整数
を表す。） - 【請求項２】 式（Ａ）で表される構成単位の組成が70
モル％以下である請求項１記載のポリカーボネート重合
体。 - 【請求項３】 極限粘度が2.0(dl/g) 以下である請求項
１記載のポリカーボネート重合体。 - 【請求項４】 下記一般式（Ｃ）で表される二価フェノ
ールまたは該二価フェノール（Ｃ）と下記一般式（Ｄ）
で表される二価フェノールとを炭酸エステル形成性化合
物と反応させることを特徴とする請求項１記載のポリカ
ーボネート重合体の製造法。 【化５】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ6 およびＸはそれぞれ前記式（Ａ）に
おけると同様の意味を表す。） 【化６】 （式中、Ｒ6 〜Ｒ16およびＹはそれぞれ前記式（Ｂ）中
のものと同様の意味を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4674993A JPH06256496A (ja) | 1993-03-08 | 1993-03-08 | 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4674993A JPH06256496A (ja) | 1993-03-08 | 1993-03-08 | 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06256496A true JPH06256496A (ja) | 1994-09-13 |
Family
ID=12755986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4674993A Pending JPH06256496A (ja) | 1993-03-08 | 1993-03-08 | 新規ポリカーボネート重合体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06256496A (ja) |
-
1993
- 1993-03-08 JP JP4674993A patent/JPH06256496A/ja active Pending
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