JPH06262717A - 熱線遮蔽膜 - Google Patents
熱線遮蔽膜Info
- Publication number
- JPH06262717A JPH06262717A JP5056021A JP5602193A JPH06262717A JP H06262717 A JPH06262717 A JP H06262717A JP 5056021 A JP5056021 A JP 5056021A JP 5602193 A JP5602193 A JP 5602193A JP H06262717 A JPH06262717 A JP H06262717A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- tin oxide
- heat ray
- dispersion
- heat rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 25
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 27
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 6
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 abstract description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 116
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920003257 polycarbosilane Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】可視光透過率が高く、しかも熱線遮蔽性に優
れ、かつ低コストで得られる熱線遮蔽膜を提供する。 【構成】酸化スズ微粒子を、バインダー溶液中に分散
し、該分散液を透明基材上に乾燥後の膜厚が0.1μm
以上となるように成膜してなり、かつ日射遮蔽率が5%
以上である熱線遮蔽膜。
れ、かつ低コストで得られる熱線遮蔽膜を提供する。 【構成】酸化スズ微粒子を、バインダー溶液中に分散
し、該分散液を透明基材上に乾燥後の膜厚が0.1μm
以上となるように成膜してなり、かつ日射遮蔽率が5%
以上である熱線遮蔽膜。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車の窓ガラス又は
建物の窓ガラスに好適な熱線遮蔽膜に関する。さらに詳
しくは、ガラス上に直接成膜するか、又はフィルムに成
膜してガラスに貼付することにより、可視光透過率が高
く、しかも日射遮蔽率が5%以上である、空調設備の負
荷低減に効果的な熱線遮蔽膜に関する。
建物の窓ガラスに好適な熱線遮蔽膜に関する。さらに詳
しくは、ガラス上に直接成膜するか、又はフィルムに成
膜してガラスに貼付することにより、可視光透過率が高
く、しかも日射遮蔽率が5%以上である、空調設備の負
荷低減に効果的な熱線遮蔽膜に関する。
【0002】なお、本発明において、熱線とは波長80
0〜2500nmの赤外線を示すものとし、また、遮蔽
とは反射及び吸収を意味する。
0〜2500nmの赤外線を示すものとし、また、遮蔽
とは反射及び吸収を意味する。
【0003】
【従来の技術】従来、熱線を遮蔽する方法として次の方
法が行われている。 (1)誘電体の多層膜をスパッタリング、真空蒸着、ゾ
ルーゲル法等により形成する方法 (2)金属蒸着膜による方法 (3)透明導電膜による方法
法が行われている。 (1)誘電体の多層膜をスパッタリング、真空蒸着、ゾ
ルーゲル法等により形成する方法 (2)金属蒸着膜による方法 (3)透明導電膜による方法
【0004】(1)の誘電体の多層膜をスパッタリン
グ、真空蒸着で形成する方法は、高屈折率物質と低屈折
率物質とを交互に5〜15層積層していくものである
が、成膜速度が遅く、量産性に乏しいため高コストであ
るという問題がある。
グ、真空蒸着で形成する方法は、高屈折率物質と低屈折
率物質とを交互に5〜15層積層していくものである
が、成膜速度が遅く、量産性に乏しいため高コストであ
るという問題がある。
【0005】また、ゾルーゲル法による方法は、金属ア
ルコキシド加水分解液を塗布し、500〜700℃の焼
成を5〜15回繰り返し、高屈折率物質と低屈折率物質
の膜を交互に積層していくものであるが、高温の焼き付
けが必要なことから使用できる基材に制限があるという
問題があり、TiO2 /SiO2 膜がハロゲンランプの
熱線遮蔽膜に利用されているのみである。
ルコキシド加水分解液を塗布し、500〜700℃の焼
成を5〜15回繰り返し、高屈折率物質と低屈折率物質
の膜を交互に積層していくものであるが、高温の焼き付
けが必要なことから使用できる基材に制限があるという
問題があり、TiO2 /SiO2 膜がハロゲンランプの
熱線遮蔽膜に利用されているのみである。
【0006】(2)の金属蒸着膜による方法は、Al,
Zn,Cu,Ag,Au等が使用されているが、可視光
の透過性と熱線遮蔽性とを満足させる膜を得ることは困
難で、どちらかを犠牲にするか、どちらも不十分な膜し
か得られず、また、得られる金属蒸着膜は、膜強度が劣
るため、SiO2 ,Al2 O3 等の保護膜が必要とな
り、生産性やコスト面で難がある。
Zn,Cu,Ag,Au等が使用されているが、可視光
の透過性と熱線遮蔽性とを満足させる膜を得ることは困
難で、どちらかを犠牲にするか、どちらも不十分な膜し
か得られず、また、得られる金属蒸着膜は、膜強度が劣
るため、SiO2 ,Al2 O3 等の保護膜が必要とな
り、生産性やコスト面で難がある。
【0007】(3)の透明導電膜による方法には、酸化
スズをスプレー法、真空蒸着法により成膜する方法、あ
るいは酸化インジウムを真空蒸着法、スパッタリング法
により成膜する方法があるが、基板を高温に加熱する必
要があり、使用できる基板材質に制限があるという問題
がある。
スズをスプレー法、真空蒸着法により成膜する方法、あ
るいは酸化インジウムを真空蒸着法、スパッタリング法
により成膜する方法があるが、基板を高温に加熱する必
要があり、使用できる基板材質に制限があるという問題
がある。
【0008】また、透明導電膜として必要な性能は、表
面導電性だけであるため、数百〜1000Åの膜厚で十
分であるが、熱線遮蔽を目的とする場合には、このよう
な膜厚では薄すぎて遮蔽力が十分でなく、1000Å以
上の膜厚に成膜しようとすると、成膜速度が遅く、生産
性が悪く、コスト高になるという問題がある。さらに、
酸化インジウムについては、非常に高価であるという問
題もある。
面導電性だけであるため、数百〜1000Åの膜厚で十
分であるが、熱線遮蔽を目的とする場合には、このよう
な膜厚では薄すぎて遮蔽力が十分でなく、1000Å以
上の膜厚に成膜しようとすると、成膜速度が遅く、生産
性が悪く、コスト高になるという問題がある。さらに、
酸化インジウムについては、非常に高価であるという問
題もある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
技術の有する問題点を解決して、可視光透過率が高く、
しかも熱線遮蔽性に優れ(日射遮蔽率が5%以上)、か
つ低コストで得られる熱線遮蔽膜を提供することを目的
とする。
技術の有する問題点を解決して、可視光透過率が高く、
しかも熱線遮蔽性に優れ(日射遮蔽率が5%以上)、か
つ低コストで得られる熱線遮蔽膜を提供することを目的
とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、先きに透
明導電膜を得る方法として、酸化スズ微粒子をバインダ
ーに均一分散して成膜する方法を開示している(特開平
2−105875号公報)が、そこでは表面導電性のみ
に着目しており、熱線遮蔽性については全く言及してお
らず、そこで開示している透明導電膜は、膜厚が薄く、
熱線遮蔽性の低いものであった。
明導電膜を得る方法として、酸化スズ微粒子をバインダ
ーに均一分散して成膜する方法を開示している(特開平
2−105875号公報)が、そこでは表面導電性のみ
に着目しており、熱線遮蔽性については全く言及してお
らず、そこで開示している透明導電膜は、膜厚が薄く、
熱線遮蔽性の低いものであった。
【0011】本発明者らはさらに研究を進めた結果、一
次粒径0.1μm以下の酸化スズ微粒子を、0.1μm
以上の膜厚に成膜することにより、1000〜2500
nmの波長の近赤外線を効果的に遮蔽でき、前記目的が
達成されることを見出して本発明を完成させた。
次粒径0.1μm以下の酸化スズ微粒子を、0.1μm
以上の膜厚に成膜することにより、1000〜2500
nmの波長の近赤外線を効果的に遮蔽でき、前記目的が
達成されることを見出して本発明を完成させた。
【0012】本発明の熱線遮蔽膜は、酸化スズ微粒子
を、バインダー溶液中に分散し、該分散液を透明基材上
に乾燥後の膜厚が0.1μm以上になるように成膜して
なり、かつ日射遮蔽率が5%以上であることを特徴とす
る。
を、バインダー溶液中に分散し、該分散液を透明基材上
に乾燥後の膜厚が0.1μm以上になるように成膜して
なり、かつ日射遮蔽率が5%以上であることを特徴とす
る。
【0013】また、この熱線遮蔽膜は、一次粒径0.1
μm以下の酸化スズ微粒子を、分散粒径が0.1μm以
下となるようにバインダー溶液中に分散し、該分散液を
透明基材上に乾燥後の膜厚が0.1μm以上になるよう
に成膜してなり、かつ日射遮蔽率が5%以上であること
を手段とする。
μm以下の酸化スズ微粒子を、分散粒径が0.1μm以
下となるようにバインダー溶液中に分散し、該分散液を
透明基材上に乾燥後の膜厚が0.1μm以上になるよう
に成膜してなり、かつ日射遮蔽率が5%以上であること
を手段とする。
【0014】酸化スズのスプレー法や真空蒸着法による
従来の熱線遮蔽法においては、基材に成膜する時点では
非晶質か低結晶性のため、加熱してある基材に成膜する
か、成膜後加熱することにより結晶性を上げる必要があ
り、使用できる基材はガラスに限られており、また、成
膜できる膜厚が薄いため熱線遮蔽性も悪かった。
従来の熱線遮蔽法においては、基材に成膜する時点では
非晶質か低結晶性のため、加熱してある基材に成膜する
か、成膜後加熱することにより結晶性を上げる必要があ
り、使用できる基材はガラスに限られており、また、成
膜できる膜厚が薄いため熱線遮蔽性も悪かった。
【0015】これに対し、本発明の熱線遮蔽膜によれ
ば、結晶度の高い微粒子をバインダーに分散した液を塗
布液とするため、成膜後、加熱処理を必要とせず、フィ
ルムにも成膜でき、しかも膜厚は塗布液の固形分、粘
度、塗布方法により自由に設定できるため、熱線遮蔽性
の高い膜を得ることができる。さらに、成膜方法として
通常のコーティング法、印刷法を使用できるので生産性
にも大変優れている。
ば、結晶度の高い微粒子をバインダーに分散した液を塗
布液とするため、成膜後、加熱処理を必要とせず、フィ
ルムにも成膜でき、しかも膜厚は塗布液の固形分、粘
度、塗布方法により自由に設定できるため、熱線遮蔽性
の高い膜を得ることができる。さらに、成膜方法として
通常のコーティング法、印刷法を使用できるので生産性
にも大変優れている。
【0016】本発明においては、導電性金属酸化物とし
て、一次粒径が0.1μm以下の酸化スズ微粒子が使用
され、酸化スズの導電性をさらに高めるためにアンチモ
ンをドーピングしたものも使用される。
て、一次粒径が0.1μm以下の酸化スズ微粒子が使用
され、酸化スズの導電性をさらに高めるためにアンチモ
ンをドーピングしたものも使用される。
【0017】酸化スズ微粒子の一次粒径は0.1μm以
下であり、0.1μmを越える場合には成膜時に透明に
ならない。
下であり、0.1μmを越える場合には成膜時に透明に
ならない。
【0018】また、酸化スズ微粒子の一次粒径がいかに
小さくても分散粒径が大きければ透明にならないので、
本発明においては、分散粒径も0.1μm以下となるよ
うにバイダー溶液中に分散させる。
小さくても分散粒径が大きければ透明にならないので、
本発明においては、分散粒径も0.1μm以下となるよ
うにバイダー溶液中に分散させる。
【0019】分散粒径が0.1μmを越える場合には、
可視光は粒子によって散乱されてしまい透過率が低下す
る。
可視光は粒子によって散乱されてしまい透過率が低下す
る。
【0020】ここで、分散粒径とは、分散粒子の大きさ
を指し、酸化スズ微粒子のバインダー溶液の分散系での
一次粒子及び二次粒子の粒径を意味する。
を指し、酸化スズ微粒子のバインダー溶液の分散系での
一次粒子及び二次粒子の粒径を意味する。
【0021】本発明で使用される酸化スズ微粒子の製造
方法には特に制限はないが、例えば、先きに特開平2−
105875号公報中に記載の方法により製造すること
ができる。この方法によれば、酸化スズ微粒子は水スラ
リー状で得られるが、乾燥粉末で得ることもできる。
方法には特に制限はないが、例えば、先きに特開平2−
105875号公報中に記載の方法により製造すること
ができる。この方法によれば、酸化スズ微粒子は水スラ
リー状で得られるが、乾燥粉末で得ることもできる。
【0022】いずれにせよ本発明において、酸化スズ微
粒子を透明基材上に成膜するに際しては、バインダー溶
液中に均一に分散し、得られる分散液を透明基材上に成
膜する。
粒子を透明基材上に成膜するに際しては、バインダー溶
液中に均一に分散し、得られる分散液を透明基材上に成
膜する。
【0023】スラリー状のものから分散液にするには、
水溶性バインダーに分散する方法、有機溶媒に置換して
からバインダーに分散する方法、一旦乾燥粉末にしてか
ら分散する方法等のいずれの方法によってもよい。
水溶性バインダーに分散する方法、有機溶媒に置換して
からバインダーに分散する方法、一旦乾燥粉末にしてか
ら分散する方法等のいずれの方法によってもよい。
【0024】分散にはサンドミル、アトライター、ボー
ルミル、ロールミル、ホモジナイザー、超音波分散機等
を用いる。
ルミル、ロールミル、ホモジナイザー、超音波分散機等
を用いる。
【0025】本発明で使用されるバインダーは、成膜し
ようとする透明基材に応じて、適宜有機系又は無機系の
樹脂などから選ばれる。
ようとする透明基材に応じて、適宜有機系又は無機系の
樹脂などから選ばれる。
【0026】例えば、透明基材としてフィルムを用いる
場合には、フィルムの種類、硬さ、密着性等に応じて、
例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ビ
ニル系樹脂、フェニル樹脂等の有機樹脂が適宜使用され
る。
場合には、フィルムの種類、硬さ、密着性等に応じて、
例えばアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹
脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、ビ
ニル系樹脂、フェニル樹脂等の有機樹脂が適宜使用され
る。
【0027】また、透明基材がガラスの場合には、例え
ばポリシロキサン樹脂、金属アルコキシド、ケイ酸ソー
ダ、リン酸アルミニウム、ポリカルボシラン、ポリシラ
ザン等の無機系バインダーが適宜使用される。
ばポリシロキサン樹脂、金属アルコキシド、ケイ酸ソー
ダ、リン酸アルミニウム、ポリカルボシラン、ポリシラ
ザン等の無機系バインダーが適宜使用される。
【0028】酸化スズ微粒子とバインダーとの配合割合
は、酸化スズ微粒子の体積比率として、好ましくは最大
65体積%であり、特に好ましくは5〜60体積%であ
る。
は、酸化スズ微粒子の体積比率として、好ましくは最大
65体積%であり、特に好ましくは5〜60体積%であ
る。
【0029】酸化スズの体積比率が65体積%を越える
場合には、バインダー不足の状態となり、分散性が低下
し、透明性が損なわれ、膜強度も低下する。
場合には、バインダー不足の状態となり、分散性が低下
し、透明性が損なわれ、膜強度も低下する。
【0030】酸化スズ微粒子の配合割合が低過ぎる場合
には、膜厚を厚くしても熱線遮蔽性が上がらず、5体積
%以上とすることが好ましい。最も好適な配合割合は、
15〜50体積%である。
には、膜厚を厚くしても熱線遮蔽性が上がらず、5体積
%以上とすることが好ましい。最も好適な配合割合は、
15〜50体積%である。
【0031】図1に酸化スズ微粒子が38体積%及び6
5体積%の場合について、バインダー溶液中に分散して
得られる分散液を成膜した膜の膜厚と日射遮蔽率(日射
透過率)との関係を示す。
5体積%の場合について、バインダー溶液中に分散して
得られる分散液を成膜した膜の膜厚と日射遮蔽率(日射
透過率)との関係を示す。
【0032】また、図2に膜厚と可視光透過率との関係
を、さらに図3に日射遮蔽率と可視光透過率との関係を
示す。
を、さらに図3に日射遮蔽率と可視光透過率との関係を
示す。
【0033】ここで日射透過率及び可視光透過率はJI
S R 3106の方法により測定した。また、日射遮
蔽率は(100−日射透過率)とした。
S R 3106の方法により測定した。また、日射遮
蔽率は(100−日射透過率)とした。
【0034】図1によれば、酸化スズ微粒子の体積比率
が38体積%及び65体積%のとき、膜厚がそれぞれ
0.2μm及び0.1μm以上になれば、日射遮蔽率が
5%以上になる。
が38体積%及び65体積%のとき、膜厚がそれぞれ
0.2μm及び0.1μm以上になれば、日射遮蔽率が
5%以上になる。
【0035】本発明においては、透明基材上に乾燥後の
膜厚が0.1μm以上となるように成膜される。また、
体積比率が65体積%より小さい膜では体積比率の低下
に応じて膜厚を厚くする。
膜厚が0.1μm以上となるように成膜される。また、
体積比率が65体積%より小さい膜では体積比率の低下
に応じて膜厚を厚くする。
【0036】膜厚が0.1μm未満の場合には、導電性
は出るものの、膜で反射又は吸収される熱線よりも透過
してしまう熱線のほうが多く、遮蔽効果が十分でない。
即ち、日射遮蔽率が5%未満の場合には、熱線の遮蔽が
十分でなく、これを自動車の窓ガラス又は建物の窓ガラ
スに用いた場合、空調設備負荷の低減効果が小さい。
は出るものの、膜で反射又は吸収される熱線よりも透過
してしまう熱線のほうが多く、遮蔽効果が十分でない。
即ち、日射遮蔽率が5%未満の場合には、熱線の遮蔽が
十分でなく、これを自動車の窓ガラス又は建物の窓ガラ
スに用いた場合、空調設備負荷の低減効果が小さい。
【0037】膜厚の上限については特に制限はないが、
厚すぎることは経済的でないばかりでなく、酸化スズが
高濃度の場合には、透明性が低下するため、透明性を必
要とする用途には向かない。
厚すぎることは経済的でないばかりでなく、酸化スズが
高濃度の場合には、透明性が低下するため、透明性を必
要とする用途には向かない。
【0038】しかしながら、透明性はある程度犠牲にし
ても、高い熱線遮蔽性を必要とする用途には厚く成膜す
ることは差し支えない。
ても、高い熱線遮蔽性を必要とする用途には厚く成膜す
ることは差し支えない。
【0039】例えば、建物の窓ガラスでは高い可視光透
過率は必要ではなく、空調設備負荷低減のため高い熱線
遮蔽性が求められる。このような用途には、膜厚を厚く
することにより、日射透過率を下げることも可能であ
る。
過率は必要ではなく、空調設備負荷低減のため高い熱線
遮蔽性が求められる。このような用途には、膜厚を厚く
することにより、日射透過率を下げることも可能であ
る。
【0040】また、自動車の窓ガラスでは安全性から7
0%以上の可視光透過率が必要である。この場合の膜厚
としては、可視光透過率85%のガラスを使用する場
合、膜の透過率は83%以上でなければならず、図2よ
り分かるように、38体積%の場合には約2.4μm以
下(外挿による)、65体積%の場合には約1.0μm
以下の膜厚にしなければならない。
0%以上の可視光透過率が必要である。この場合の膜厚
としては、可視光透過率85%のガラスを使用する場
合、膜の透過率は83%以上でなければならず、図2よ
り分かるように、38体積%の場合には約2.4μm以
下(外挿による)、65体積%の場合には約1.0μm
以下の膜厚にしなければならない。
【0041】本発明においては、酸化スズ微粒子とバイ
ンダーとの配合割合は自由に変えられるので、コーティ
ング方法により成膜できる膜厚が規定される場合は、要
求される特性と膜厚から、逆に配合を決定することも可
能である。
ンダーとの配合割合は自由に変えられるので、コーティ
ング方法により成膜できる膜厚が規定される場合は、要
求される特性と膜厚から、逆に配合を決定することも可
能である。
【0042】薄い膜厚で高い熱線遮蔽性が要求される用
途には、酸化スズ微粒子の体積比率を高くし、反対に、
厚い膜厚で高い可視光透過率を要求される場合には、酸
化スズ微粒子の体積比率を低くすればよい。
途には、酸化スズ微粒子の体積比率を高くし、反対に、
厚い膜厚で高い可視光透過率を要求される場合には、酸
化スズ微粒子の体積比率を低くすればよい。
【0043】本発明の熱線遮蔽膜は、ガラスに成膜する
ことも、あるいはフィルムに成膜することもできる。ガ
ラスに成膜する場合には、例えばスプレーコート,スピ
ンコート、ディップコート等によりガラスの両面又は片
面に成膜する。また、必要とする硬度、耐久性を満足さ
せるために高温で焼き付けることもできる。
ことも、あるいはフィルムに成膜することもできる。ガ
ラスに成膜する場合には、例えばスプレーコート,スピ
ンコート、ディップコート等によりガラスの両面又は片
面に成膜する。また、必要とする硬度、耐久性を満足さ
せるために高温で焼き付けることもできる。
【0044】フィルムに成膜する場合には、例えばグラ
ビアコート、リバースロールコート、ブレードコート、
カーテンフローコート等により塗布する。
ビアコート、リバースロールコート、ブレードコート、
カーテンフローコート等により塗布する。
【0045】本発明が熱線遮蔽膜として好適である理由
は、本発明においては、導電性の酸化スズ微粒子を熱線
遮蔽材としてバインダー中に分散させ、しかも0.1μ
m以上の膜厚に成膜するので、膜に入射する熱線がまず
膜表面の粒子により反射し、さらに膜内に侵入した熱線
が粒子間の反射を繰り返し、一部は膜外に反射され、一
部は膜内に吸収される結果、最終的に膜を透過する熱線
がごく僅かとなるからである。従って、膜中の酸化スズ
微粒子の粒子数が多いほど、同じ体積であれば粒径が小
さいほど、また、膜厚が厚いほど熱線遮蔽効果は大きい
ものとなる。
は、本発明においては、導電性の酸化スズ微粒子を熱線
遮蔽材としてバインダー中に分散させ、しかも0.1μ
m以上の膜厚に成膜するので、膜に入射する熱線がまず
膜表面の粒子により反射し、さらに膜内に侵入した熱線
が粒子間の反射を繰り返し、一部は膜外に反射され、一
部は膜内に吸収される結果、最終的に膜を透過する熱線
がごく僅かとなるからである。従って、膜中の酸化スズ
微粒子の粒子数が多いほど、同じ体積であれば粒径が小
さいほど、また、膜厚が厚いほど熱線遮蔽効果は大きい
ものとなる。
【0046】本発明によれば、酸化スズ微粒子を分散粒
径0.1μm以下の分散状態で用いているため、可視光
における透明性及び熱線遮蔽性の共に優れた膜を得るこ
とができる。
径0.1μm以下の分散状態で用いているため、可視光
における透明性及び熱線遮蔽性の共に優れた膜を得るこ
とができる。
【0047】本発明の熱線遮蔽膜においては、酸化スズ
微粒子を単独で使用しても、また、他の熱線遮蔽性物質
と組み合わせて使用してもよい。
微粒子を単独で使用しても、また、他の熱線遮蔽性物質
と組み合わせて使用してもよい。
【0048】例えば、酸化スズ微粒子の比較的遮蔽力の
弱いところ、即ち、780〜1200nmの波長を遮蔽
する物質と組み合わせることにより、さらに熱線遮蔽性
の高い透明体とすることもできる。
弱いところ、即ち、780〜1200nmの波長を遮蔽
する物質と組み合わせることにより、さらに熱線遮蔽性
の高い透明体とすることもできる。
【0049】また、本発明の熱線遮蔽膜は、他の機能性
透明膜との多層膜とすることもでき、例えば、紫外線吸
収膜、保護膜等との多層膜とすることができる。
透明膜との多層膜とすることもでき、例えば、紫外線吸
収膜、保護膜等との多層膜とすることができる。
【0050】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。
る。
【0051】実施例1 46.2重量部のSbCl3 と670重量部のSnCl
・5H2 Oを、3000重量部の6N−HCl溶液に溶
解し、これに25%のアンモニア液2000重量部を添
加して反応させ、ゾル分散液を得、これを塩化アンモニ
ウムが検出できなくなるまで、ろ過洗浄した。
・5H2 Oを、3000重量部の6N−HCl溶液に溶
解し、これに25%のアンモニア液2000重量部を添
加して反応させ、ゾル分散液を得、これを塩化アンモニ
ウムが検出できなくなるまで、ろ過洗浄した。
【0052】次いで、これを密閉容器で350℃に加熱
し、5時間保持した後、冷却過程で水蒸気を放出し、固
形分25重量%まで濃縮し、平均分散粒径50Åのアン
チモン含有酸化スズ(以下、ATOと略記する)分散液
を得た。
し、5時間保持した後、冷却過程で水蒸気を放出し、固
形分25重量%まで濃縮し、平均分散粒径50Åのアン
チモン含有酸化スズ(以下、ATOと略記する)分散液
を得た。
【0053】この分散液300重量部に、水溶性アクリ
ルポリウレタン樹脂(固形分50重量%)50重量部と
水150重量部とを混合し、ホモジナイザーにて均一に
分散し、塗布液とした。
ルポリウレタン樹脂(固形分50重量%)50重量部と
水150重量部とを混合し、ホモジナイザーにて均一に
分散し、塗布液とした。
【0054】これを2mm厚の板ガラスにスピンコート
により成膜した。0.38μm、0.72μm、1.8
1μmの膜厚にしたときの300〜2500nmの分光
透過特性を図4に示す。
により成膜した。0.38μm、0.72μm、1.8
1μmの膜厚にしたときの300〜2500nmの分光
透過特性を図4に示す。
【0055】また、可視光透過率及び日射遮蔽率を表1
に示す。
に示す。
【0056】
【表1】
【0057】実施例2 実施例1のATO分散液に、陽イオン界面活性剤を添加
し、凝集させ、水分を濾過分離し、ケーキ状のATOを
得た。これにトルエンを溶解したポリエステル樹脂を加
え、ニーダーにより70℃で練ることにより水分を完全
に追い出し、最終的に固形分35重量%、ATO濃度2
1重量%のインキを得た。
し、凝集させ、水分を濾過分離し、ケーキ状のATOを
得た。これにトルエンを溶解したポリエステル樹脂を加
え、ニーダーにより70℃で練ることにより水分を完全
に追い出し、最終的に固形分35重量%、ATO濃度2
1重量%のインキを得た。
【0058】これをリバースコーターにより100μm
のPETフィルムに膜厚4μmとなるように印刷した。
このフィルムの分光透過特性を図4に示す。
のPETフィルムに膜厚4μmとなるように印刷した。
このフィルムの分光透過特性を図4に示す。
【0059】比較例1 実施例1の塗布液を、2mm厚の板ガラスに0.08μ
mの膜厚に成膜した。この膜の分光透過特性を図4に、
また、可視光透過率及び日射遮蔽率を表1に示す。
mの膜厚に成膜した。この膜の分光透過特性を図4に、
また、可視光透過率及び日射遮蔽率を表1に示す。
【0060】表1より、ガラス基板の日射遮蔽率の値を
差し引いて得られる、比較例1の膜正味の日射遮蔽率
は、1.5%であり、膜厚0.1μm未満では日射遮蔽
率が5%以上とならないことが分かる。
差し引いて得られる、比較例1の膜正味の日射遮蔽率
は、1.5%であり、膜厚0.1μm未満では日射遮蔽
率が5%以上とならないことが分かる。
【0061】これに対し、例えば、ガラス基板の日射遮
蔽率の値を差し引いて得られる、実施例1の膜厚0.3
8μmの場合の膜正味の日射遮蔽率は、7.9%であ
り、本発明の熱線遮蔽膜は、可視光透過率が高く、しか
も熱線遮蔽性にも優れていることが分かる。
蔽率の値を差し引いて得られる、実施例1の膜厚0.3
8μmの場合の膜正味の日射遮蔽率は、7.9%であ
り、本発明の熱線遮蔽膜は、可視光透過率が高く、しか
も熱線遮蔽性にも優れていることが分かる。
【0062】比較例2 A1蒸着による市販熱線遮蔽フィルム、3mm厚の市販
熱線吸収板ガラス及び熱分解法による市販熱線反射板ガ
ラスの分光透過特性を、それぞれ図5(1)〜(4)に
示す。また、可視光透過率及び日射遮蔽率を表1に示
す。
熱線吸収板ガラス及び熱分解法による市販熱線反射板ガ
ラスの分光透過特性を、それぞれ図5(1)〜(4)に
示す。また、可視光透過率及び日射遮蔽率を表1に示
す。
【0063】表1より、熱線遮蔽フィルム及び熱線反射
板ガラスは、本発明の実施例1の場合に比べて、日射遮
蔽率は高いが、可視光透過率が低く、透明性が悪いこと
が分かる。
板ガラスは、本発明の実施例1の場合に比べて、日射遮
蔽率は高いが、可視光透過率が低く、透明性が悪いこと
が分かる。
【0064】また、熱線吸収板ガラスは、可視光透過率
及び日射遮蔽率共にほどほどの値ではあるが、例えば、
実施例1の膜厚1.81μmのものと比較して共に劣っ
ていることが分かる。
及び日射遮蔽率共にほどほどの値ではあるが、例えば、
実施例1の膜厚1.81μmのものと比較して共に劣っ
ていることが分かる。
【0065】また、熱線反射板ガラスと実施例1の膜厚
1.81μmのものと比較すると、本発明の熱線遮蔽膜
が、日射遮蔽率は僅かに悪いが、可視光透過率は26.
2%も優れていることが分かる。
1.81μmのものと比較すると、本発明の熱線遮蔽膜
が、日射遮蔽率は僅かに悪いが、可視光透過率は26.
2%も優れていることが分かる。
【0066】なお、図3より、本発明で日射遮蔽率42
%の場合の可視光透過率の値を読むと、79.5%とな
り(但し図3中のこれらの値は、膜単味の値で、基板の
値は含まず)、表1中の熱線反射板ガラスの場合の5
1.0%に比べて大幅に透明性が優れていることが分か
る。
%の場合の可視光透過率の値を読むと、79.5%とな
り(但し図3中のこれらの値は、膜単味の値で、基板の
値は含まず)、表1中の熱線反射板ガラスの場合の5
1.0%に比べて大幅に透明性が優れていることが分か
る。
【0067】
【発明の効果】本発明によれば、可視光透過率が高く、
しかも熱線遮蔽効果が高い膜が得られる。さらに、ガラ
スにもフィルムにも従来の印刷技術、コーティング技術
により成膜できるので、大量に、かつ安価に熱線遮蔽膜
を得ることができる。さらに、本発明の熱線遮蔽膜は、
導電性を有し、帯電防止効果も有する。
しかも熱線遮蔽効果が高い膜が得られる。さらに、ガラ
スにもフィルムにも従来の印刷技術、コーティング技術
により成膜できるので、大量に、かつ安価に熱線遮蔽膜
を得ることができる。さらに、本発明の熱線遮蔽膜は、
導電性を有し、帯電防止効果も有する。
【図1】膜厚と日射遮蔽率との関係を示す図である。
【図2】膜厚と可視光透過率との関係を示す図である。
【図3】日射遮蔽率と可視光透過率との関係を示す図で
ある。
ある。
【図4】実施例1、実施例2及び比較例1の場合の分光
透過特性を示す図である。
透過特性を示す図である。
【図5】比較例2の場合の分光透過特性を示す図であ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 E06B 3/02 // C08J 5/18 9267−4F
Claims (2)
- 【請求項1】 酸化スズ微粒子を、バインダーで溶液中
に分散し、該分散液を透明基材上に乾燥後の膜厚が0.
1μm以上になるように成膜してなり、かつ日射遮蔽率
が5%以上であることを特徴とする熱線遮蔽膜。 - 【請求項2】 一次粒径0.1μm以下の酸化スズ微粒
子を、分散粒径が0.1μm以下となるようにバインダ
ー溶液中に分散し、該分散液を透明基材上に乾燥後の膜
厚が0.1μm以上になるように成膜してなり、かつ日
射遮蔽率が5%以上であることを特徴とする請求項1記
載の熱線遮蔽膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5056021A JPH06262717A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 熱線遮蔽膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5056021A JPH06262717A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 熱線遮蔽膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06262717A true JPH06262717A (ja) | 1994-09-20 |
Family
ID=13015414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5056021A Pending JPH06262717A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 熱線遮蔽膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06262717A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6107360A (en) * | 1995-09-29 | 2000-08-22 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Active radiation ray curable, solar radiation blocking resin compositions and films coated therewith |
| KR100995616B1 (ko) * | 2003-12-15 | 2010-11-22 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 태양 광선 제어 필름 |
| US8038786B2 (en) | 2003-03-17 | 2011-10-18 | Hae-Wook Lee | Composition for cutting off heat-ray, film formed therefrom, and method for forming the composition and the film |
| JP2013216774A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Riken Technos Corp | 硝子外貼り用フィルムおよびその製造方法 |
| CN103909599A (zh) * | 2012-12-28 | 2014-07-09 | 萨玛派格德国有限公司 | 用于由粉末状塑料材料制造塑料件的方法及设备 |
-
1993
- 1993-03-16 JP JP5056021A patent/JPH06262717A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6107360A (en) * | 1995-09-29 | 2000-08-22 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Active radiation ray curable, solar radiation blocking resin compositions and films coated therewith |
| US8038786B2 (en) | 2003-03-17 | 2011-10-18 | Hae-Wook Lee | Composition for cutting off heat-ray, film formed therefrom, and method for forming the composition and the film |
| KR100995616B1 (ko) * | 2003-12-15 | 2010-11-22 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 태양 광선 제어 필름 |
| JP2013216774A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Riken Technos Corp | 硝子外貼り用フィルムおよびその製造方法 |
| CN103909599A (zh) * | 2012-12-28 | 2014-07-09 | 萨玛派格德国有限公司 | 用于由粉末状塑料材料制造塑料件的方法及设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4096277B2 (ja) | 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜 | |
| EP0893409B1 (en) | Zinc oxide-based fine particles, process for producing the same, and use thereof | |
| JP5454111B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置・表示装置 | |
| JP4058822B2 (ja) | 選択透過膜用塗布液、選択透過膜および選択透過多層膜 | |
| WO2001042156A1 (en) | Low-reflection film and solar cell panel | |
| JP6171733B2 (ja) | 熱線遮蔽分散体形成用塗布液および熱線遮蔽体 | |
| WO2016104365A1 (ja) | 赤外線遮蔽積層体及びこれを用いた赤外線遮蔽材 | |
| JP2005226008A (ja) | 日射遮蔽体形成用分散液及び日射遮蔽体並びにその製造方法 | |
| JP3262098B2 (ja) | 熱線遮蔽材料とこれを用いた熱線遮蔽器材並びに塗布液および熱線遮蔽膜 | |
| KR100471098B1 (ko) | 열선차폐필름용코팅용액및이를사용하여열선차폐필름을제조하는방법 | |
| JPH10110123A (ja) | 透明導電膜形成用塗料およびその製造方法、透明導電低反射性膜およびその製造方法、ならびに透明導電低反射性膜付き表示装置 | |
| JP3266323B2 (ja) | 複合機能材 | |
| JPH06262717A (ja) | 熱線遮蔽膜 | |
| US7247371B2 (en) | Antimony tin oxide fine particles for sunlight shielding, and disperse liquid for formation of sunlight shielding solid, sunlight shielding solid, and transparent substrate for sunlight shielding using thereof | |
| JP2008230954A (ja) | 日射遮蔽体形成用アンチモン含有酸化錫微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用分散液、日射遮蔽体、および、日射遮蔽用基材 | |
| JPH11263639A (ja) | 熱線遮蔽膜形成用塗布液及び熱線遮蔽膜 | |
| JP4058850B2 (ja) | 日射フィルター膜形成用塗布液 | |
| JP3473272B2 (ja) | 導電膜形成用塗布液および導電膜 | |
| EP1967495B1 (en) | Manufacturing method for antimony-containing tin oxide fine particles for forming solar radiation shielding body, dispersion for forming solar radiation shielding body, solar radiation sheilding body, and solar radiation shielding base material | |
| JPH0570178A (ja) | 熱線反射膜及びその製造方法 | |
| JP4200424B2 (ja) | 日射遮蔽材料の製造方法、日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜並びに日射遮蔽用透明基材 | |
| JP2003215328A (ja) | 日射遮蔽用微粒子とこの微粒子を含む日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜 | |
| JP3408578B2 (ja) | 熱線遮蔽ガラス板の製造方法 | |
| JPH06144874A (ja) | 熱線反射膜及びその製造方法 | |
| JP2004338985A (ja) | 熱線遮蔽膜付き基体とその製造方法 |