JPH06263682A - 光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法 - Google Patents

光学活性β−ヒドロキシケトンの製造法

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JPH06263682A JP5076391A JP7639193A JPH06263682A JP H06263682 A JPH06263682 A JP H06263682A JP 5076391 A JP5076391 A JP 5076391A JP 7639193 A JP7639193 A JP 7639193A JP H06263682 A JPH06263682 A JP H06263682A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 で表されるシリルエノールエーテルと、 で表される置換アルデヒドとを、 で表されるビナフトール−チタン錯体の存在下に反応せ
しめることを特徴とする で表される光学活性β−ヒドロキシケトンを触媒的不斉
アルドール反応により製造する方法。（Ｒ1，2は水素原
子、低級アルキル基を、Ｒ3は低級アルキル基、低級ア
ルキルオキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基または
低級アルキルチオ基を示し、Ｒ′は低級アルキル基また
はフェニル基を示し、Ｒ4は低級アルキル基、低級アル
キルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、低級ア
ルキルオキシカルボニル基を示し、Ｘは塩素原子又は臭
素原子を示す） 【効果】ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に、
光学活性β−ヒドロキシケトンを製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は次の一般式（I）、
【化５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって水素原子または
低級アルキル基を、Ｒ3は低級アルキル基、低級アルキ
ルオキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基または低級
アルキルチオ基を示し、Ｒ4は低級アルキル基、低級ア
ルキルオキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、低級
アルキルオキシカルボニル基を、３つのＲ'は同一また
は異なって低級アルキル基またはフェニル基を示す）で
表される光学活性β−ヒドロキシケトンを触媒的不斉ア
ルドール反応により製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、触媒的不斉アルドール反応によ
り、光学活性β−ヒドロキシケトン（光学活性アルコー
ル）を製造する方法としては、(1) アルデヒドとシリル
エノールエーテルとを、ビナフトールのオキソチタニウ
ム錯体の存在下反応せしめて光学活性アルコールを製造
する方法［T. Mukaiyamaら、Chem. Lett.,1990年、1015
-1018頁］、(2) アルデヒドとシリルエノールエーテル
とを、酒石酸由来のほう素錯体の存在下反応せしめて光
学活性アルコールを製造する方法［K. Furutaら、Synle
tt, 1991年、439-440頁］、(3) アルデヒドとシリルエ
ノールエーテルとを、メントン由来のほう素錯体の存在
下反応せしめて光学活性アルコールを製造する方法［E.
R. Parmeeら、Tetrahedron Lett., 33巻、1729-1732
頁、1992年］、(4) アルデヒドとニトロメタンとを、ビ
ナフトールのランタノイド錯体の存在下反応せしめて光
学活性アルコールを製造する方法［H. Sakaiら、J. Am.
Chem.Soc., 114巻、4418-4420頁、1992年］が報告され
ている。しかしながら、上記の各方法では触媒活性、不
斉収率共に満足が得られるものではなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】それ故、上記方法によ
る光学活性体の製法の欠陥である、錯体の調製方法が煩
雑であったり、ジアステレオ選択性やエナンチオ選択性
が充分でなかったりするという欠点を改善する事が強く
求められていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる実状において、本
発明者らは、上記問題点を解決せんと鋭意研究を行った
結果、光学活性なビナフトール−チタン錯体を触媒とし
て使用し、下記式
【化６】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ'は前記と同じも
のを示す）に従って反応させれば、効率よく、しかもジ
アステレオ選択的かつエナンチオ選択的に光学活性β−
ヒドロキシケトンが得られることを見い出し、本発明を
完成した。
【０００５】すなわち本発明は、シリルエノールエーテ
ル（II）と置換アルデヒド（III）とを、ビナフトール
−チタン錯体の存在下反応せしめて、前記光学活性β−
ヒドロキシケトン（I）を製造する方法である。
【０００６】本発明の原料であるシリルエノールエーテ
ル（II）の置換基であるＲ1およびＲ2は、同一または異
なって水素原子、低級アルキル基を示し、Ｒ3は、低級
アルキル基、低級アルキルオキシ基、フェニル基、フェ
ニルオキシ基または低級アルキルチオ基を示す。ここ
で、「低級」とは、炭素数１〜５の分枝してもよい炭素
鎖を意味する。
【０００７】また、シリルエノールエーテル（II）のシ
リル基（−ＳiＲ'3）としては、トリメチルシリル基、
トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、ト
リ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基、ジメチルイソプロピルシリル基、フェニルジメ
チルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。
【０００８】シリル基がトリメチルシリル基である場合
について、シリルエノールエーテル（II）を具体的に例
示すれば、プロピオン酸メチル−（Ｅ）−トリメチルシ
リルエノールエーテル、プロピオン酸メチル−（Ｚ）−
トリメチルシリルエノールエーテル、プロピオン酸イソ
プロピル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノールエーテ
ル、プロピオン酸イソプロピル−（Ｚ）−トリメチルシ
リルエノールエーテル、プロピオン酸フェニル−（Ｅ）
−トリメチルシリルエノールエーテル、プロピオン酸フ
ェニル−（Ｚ）−トリメチルシリルエノールエーテル、
イソ酪酸フェニル−トリメチルシリルエノールエーテ
ル、３−ペンタノン−（Ｅ）−トリメチルシリルエノー
ルエーテル、３−ペンタノン−（Ｚ）−トリメチルシリ
ルエノールエーテル、２−ペンタノン−トリメチルシリ
ルエノールエーテル、プロピオフェノン−（Ｅ）−トリ
メチルシリルエノールエーテル、プロピオフェノン−
（Ｚ）−トリメチルシリルエノールエーテル、チオプロ
ピオン酸ｔ−ブチル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノー
ルエーテル、チオプロピオン酸ｔ−ブチル−（Ｚ）−ト
リメチルシリルエノールエーテル、チオプロピオン酸−
エチル−（Ｅ）−トリメチルシリルエノールエーテル、
チオプロピオン酸−エチル−（Ｚ）−トリメチルシリル
エノールエーテル、チオ酢酸Ｓ−エチル−トリメチルシ
リルエノールエーテル等が挙げられる。
【０００９】これらシリルエノールエーテル類は、対応
するケトン、エステル、チオエステルから（Silicon in
Organic Synthesis, E. W. Colvin, Butterworths(Lon
don),1981年、198-287頁）の方法およびＮ.スロウグイ
（N.Slougui）らの方法（SYNTHESIS 58頁 JANUARY 1982
年）により容易に合成できる。
【００１０】シリルエノールエーテルの一般的合成法と
しては、まず、ジアルキルアミンをテトラヒドロフラン
に溶かし、０℃程度に冷却した後、ｎ−ブチルリチウム
のテトラヒドロフラン溶液等を滴下してリチウムジアル
キルアミド溶液を作り、ついで、これを−７８℃程度に
冷却し、これに反応させるケトン類、エステル類、チオ
エステル類を滴下し、約３０分後にシリルクロリド誘導
体を滴下してそのままの温度で十分反応させ、反応後、
生成した塩を濾過して除き、塩および容器をペンタンで
洗浄して濾液に加え、濾液中のペンタンを留去後、蒸留
し生成物としてシリルエノールエーテルを得る方法が挙
げられる。
【００１１】また、もう一方の原料である置換アルデヒ
ド（III）のＲ4は、低級アルキル基、低級アルキルオキ
シメチル基、ベンジルオキシメチル基、低級アルキルオ
キシカルボニル基を示す。 ここで「低級」とは、前記
と同様の意味を有する。
【００１２】具体的な置換アルデヒド（III）の例とし
ては、アセトアルデヒド、エタナール、プロパナール、
ブタナール、メトキシメチルアルデヒド、エトキシメチ
ルアルデヒド、プロピルオキシメチルアルデヒド、ブチ
ルオキシメチルアルデヒド、ベンジルオキシメチルアル
デヒド、グリオキシル酸メチル、グリオキシル酸エチ
ル、グリオキシル酸イソプロピル、グリオキシル酸−ｎ
−ブチル、グリオキシル酸−ｔ−ブチル等が挙げられ、
これらグリオキシル酸エステルは、例えば、Ｔ.ロス ケ
リー（T. Ross Kelly）らの方法（Synthesis, 544-545
頁、1972年）によって製造される。
【００１３】触媒として使用される光学活性ビナフトー
ル−チタン錯体は、次の一般式（IV）
【化７】 （式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を示す）で表され
る化合物である。
【００１４】このビナフトール−チタン錯体（IV）は、
例えば特開平２−４０３４４号公報記載の方法によって
調製することができる。 すなわち、まず四ハロゲン化
チタン（ハロゲンは塩素または臭素）とテトライソプロ
ポキシチタンをヘキサン中で混合してジイソプロポキシ
−ジハロゲノチタンの結晶を調製し、これをトルエンに
溶解する。別に基質１ミリモルに対し０.５ｇ以上の量
の粉末のモレキュラーシブ４Ａ（市販品）を塩化メチレ
ンに加え、これに上で調製したジイソプロポキシ−ジハ
ロゲノチタンのトルエン溶液、次いでビナフトールを加
えて約１時間攪拌すればビナフトール−チタン錯体（I
V）を得ることができる。
【００１５】また、ビナフトール−チタン錯体（IV）に
は、（Ｒ）−ビナフトールから合成される（Ｒ）体と、
（Ｓ）−ビナフトールから合成される（Ｓ）体が存在
し、これらは目的とする生成物の光学活性β−ヒドロキ
シケトン（I）の絶対配置に応じて使いわけることがで
きる。
【００１６】本発明方法を実施するには、ビナフトール
−チタン錯体の有機溶媒溶液にシリルエノールエーテル
（II）および置換アルデヒド（III）を各々ほぼ等モル
加えて反応せしめる。 有機溶媒中のシリルエノールエ
ーテル（II）および置換アルデヒド（III）の濃度は０.
１〜５モル／ｌ程度である。
【００１７】使用する有機溶媒としては、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素；テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン等の
非プロトン性溶媒等が挙げられる。
【００１８】触媒のビナフトール−チタン錯体（IV）は
原料（II）および（III）に対し０.０２〜１モル倍程
度、特に０.０５〜０.１モル倍程度使用するのが高い光
学収率の生成物を得る上で好ましい。
【００１９】また、反応温度は−５０〜０℃程度、特に
−３０〜−１０℃程度が好ましく、反応時間は、３〜２
０時間程度が好ましい。
【００２０】反応後、反応混合物に炭酸水素ナトリウム
水溶液等のアルカリ剤を加え、ジエチルエーテル、酢酸
エチル等の溶媒で抽出し、乾燥後溶媒を留去し、残留物
をシリカゲルカラム等のカラムクロマトグラフィーで精
製すれば、目的とする光学活性β−ヒドロキシケトン
（I）を高収率で得ることができる。
【００２１】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
【００２２】尚、実施例中の分析は次の分析機器を用い
て行った。1 Ｈ核磁気共鳴スペクトル（以下1Ｈ−ＮＭＲと略す）： ＧＥＭＩＮＩ ３００型（300MHz）（バリアン社製）13 Ｃ核磁気共鳴スペクトル（以下13Ｃ−ＮＭＲと略
す）： ＧＥＭＩＮＩ ３００型（75MHz）（バリアン社製） 旋光度計： ＤＩＰ−３７０型（日本電子株式会社製）
【００２３】なお、シン（Ｓｙｎ）とアンチ（Ａｎｔ
ｉ）の比は、Ｊ.キャンセイリ（J.Canceill）らの方法
（Bull.Soc.Chim.Fr.1024-1030頁,1967年 "Topics in S
tereochemistry" 13巻 , 1頁 ,1982年 Jhon Wiley & So
ns.Inc.発行）により、ＮＭＲの積分値より決定した。
またｅｅ％は、α−メトキシ−α−トリフルオロメチル
フェニル酢酸にして、Ｄ. パーカー（D.Parker）らの方
法（Chem. Rev. 91巻 1441-1457頁 1991年）またはＪ.
Ａ. デイル（J.A.Dale）らの方法（J. Org. Chem. 34巻
2543-2549頁 1969年）に従い、1Ｈ−ＮＭＲにより決定
した。
【００２４】実 施 例 １ 予め、アルゴン置換を行った５０ｍｌのシュレンク管
に、チタンテトライソプロポキシド ２.９８ｍｌ（１０
ｍＭ）とヘキサン ５ｍｌを加え、これに四塩化チタン
１.１０ｍｌ（１０ｍＭ）を加え、室温で１０分間攪拌
する。 その後、室温で３時間放置すると白色の結晶が
沈殿する。 溶媒をシリンジで抜き取り、ヘキサン５ｍ
ｌを加え、再結晶を行う。 この操作を２回繰り返し、
減圧下で乾燥すると白色のジイソプロポキシジクロロチ
タン ３.０９ｇが得られた。 これに、トルエン ４３ｍ
ｌを加えて、０.３モル／ｌの溶液を調製する。
【００２５】２５ｍｌのフラスコに、モレキュラーシー
ブ４Ａ（アルドリッチ社製）の粉末０.５ｇを入れ、ア
ルゴン置換を充分行った後、トルエン ３ｍｌを加え、
さらに上記で調製したジイソプロポキシジクロロチタン
のトルエン溶液を６.７ｍｌ（２ｍＭ）、（Ｒ）−ビナ
フトール ５７３ｍｇ（２ｍＭ）を加え、室温で１時間
攪拌し、（Ｒ）−ビナフトール−チタン錯体を調製す
る。
【００２６】この溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）を氷浴で
０℃に冷却し、（Ｚ）−３−トリメチルシリルオキシ−
２−ペンテン（８６％ Ｚ）１５７ｍｇ（１ｍＭ）を加
え、つづいて新たに蒸留した、グリオキシル酸 ｎ−ブ
チル １３０ｍｇ（１ｍＭ）と塩化メチレン ０.５ｍｌ
を加え０℃で０.５時間反応させた。
【００２７】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１３５ｍｇの２−
ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソヘキサン酸 ｎ−
ブチルが得られた。
【００２８】収 率 ： ６３％ ［α］D 26 ＋５.０（ｃ １.０, ＣＨＣｌ3）（９８％
ｓｙｎ, ９９％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７３０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
【００２９】ｓｙｎ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９４（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, １.０７（ｔ,
Ｊ＝７.０Ｈｚ,３Ｈ）,１.１５（ｄ, Ｊ＝７.３Ｈｚ,
３Ｈ）, １.３８（ｍ, ２Ｈ）,１.６５（ｍ, ２Ｈ）,
２.５６（q, Ｊ＝７.０Ｈｚ, ２Ｈ）, ２.９４（ｄｑ,
Ｊ＝３.９, ７.４Ｈｚ, １Ｈ）, ３.１２（ｄ, Ｊ＝４.
６Ｈｚ,１Ｈ）, ４.２０（ｄ, Ｊ＝６.７Ｈｚ, ２Ｈ）,
４.５６（ｄｄ, Ｊ＝３.９, ４.６Ｈｚ, １Ｈ）.13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ７.６, １０.８, １３.７, １９.１, ３０.６, ３４.
２, ４９.２,６５.９, ７１.２, １７３.５, ２１１.８
【００３０】ａｎｔｉ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ３.０４（ｍ, １Ｈ）, ３.３０（ｄ, Ｊ＝７.６Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ７.５, １３.１, １５.３, １９.０, ３０.５, ３４.
８, ４９.１,６５.６, ７２.８, １７３.５, ２１１.
７.
【００３１】実 施 例 ２ 実施例１と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）を０℃に冷
却し、２−トリメチルシリルオキシ−１−ペンテン１５
７ｍｇ（１ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グ
リオキシル酸ｎ−ブチル １３０ｍｇ（１ｍＭ）と塩化
メチレン０.５ｍｌを加え、０℃で０.５時間反応させ
た。
【００３２】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。その溶液をセライト上で濾過し、濾液
をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。 有
機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢酸
エチル＝１５／１）で精製すると、１４３ｍｇの２−ヒ
ドロキシ−４−オキソヘプタン酸 ｎ−ブチルが得られ
た。
【００３３】収 率 ： ６７％ ［α］D 25 ＋５.９（ｃ １.０, ＣＨＣｌ3）（９９％ｅ
ｅ） ＩＲ（neat）： ３４７０, ２９７０, １７２０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
【００３４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９１（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, ０.９２（ｔ,
Ｊ＝７.３Ｈｚ,３Ｈ）, １.３７（ｍ, ３Ｈ）, １.６１
（ｍ, ２Ｈ）, １.６２（ｍ,２Ｈ）, ２.４２（ｑ, Ｊ
＝７.３Ｈｚ, ２Ｈ）, ２.６７（ｂｒ,１Ｈ）,２.８５
（ｄｄ, Ｊ＝６.０, １７.３Ｈｚ, １Ｈ）,２.９３（ｄ
ｄ, Ｊ＝４.５, １７.３ Ｈｚ, １Ｈ）, ４.１８（ｔ,
Ｊ＝６.７ Ｈｚ, ２Ｈ）,４.４５（ｄｄ, Ｊ＝４.５,
６.０ Ｈｚ,１Ｈ）.
【００３５】13Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １３.７, １７.０, １９.１, ３０.６, ４５.４, ４６.
０, ６５.８,６７.１, １７３.９, ２０８.５
【００３６】実 施 例 ３ 実施例１と同様に調製した（Ｒ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液０.５ｍｌ（０.１ｍＭ）溶液を０℃
に冷却し、（Ｅ）−１−エチルチオ−１−トリメチルシ
リルオキシ−１−プロペン（７７％ Ｅ）１９０ｍｇ
（１ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グリオキ
シル酸 ブチル １３０ｍｇ（１ｍＭ）とトルエン０.５
ｍｌを加え０℃で０.５時間反応させた。
【００３７】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１５８ｍｇの４−
エチルチオ−２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソ
酪酸 ｎ−ブチルが得られた。
【００３８】収 率 ： ６４％. ［α］D 26 ＋５.０（ｃ １.０, ＣＨＣｌ3）（９８％ｓ
ｙｎ,＞９９％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７３０, １４６０, １２６０,
７６０ｃｍ-1
【００３９】ｓｙｎ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９４（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, １.２３（ｄ,
Ｊ＝７.２Ｈｚ,３Ｈ）, １.２７（ｔ, Ｊ＝７.５Ｈｚ,
３Ｈ）, １.３９（ｍ, ２Ｈ）,１.６６（ｍ, ２Ｈ）,
２.９１（ｑ, Ｊ＝７.５Ｈｚ, ２Ｈ）, ３.０６（ｄｑ,
Ｊ＝３.６, ７.２Ｈｚ, １Ｈ）, ３.１９（ｂｒ, １
Ｈ）,４.２２（ｔ, Ｊ＝６.７Ｈｚ, ２Ｈ）, ４.５９
（ｄ, Ｊ＝３.６,１Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １１.５, １３.７, １４.６, １９.１, ２３.５, ３０.
６, ５１.３,７１.６, １７３.２, ２００.９.
【００４０】ａｎｔｉ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： ０.９４（ｔ, Ｊ＝７.４Ｈｚ, ３Ｈ）, １.３５（ｄ,
Ｊ＝７.３Ｈｚ,３Ｈ）, １.３８（ｍ, ２Ｈ）, １.６７
（ｍ, ２Ｈ）, ２.０８（ｄ,Ｊ＝７.５ Ｈｚ, ２Ｈ）,
３.１２（ｍ, １Ｈ）, ３.３５（ｂｒ, １Ｈ） ４.１８（ｍ, ２Ｈ）, ４.２５（ｍ, １Ｈ）.13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １４.１, ２３.４, ５１.２, ６５.８, ７２.８, １７
３.１, ２００.７
【００４１】実 施 例 ４ 実施例３と同様に調製した（Ｓ）−ビナフトール−ジク
ロロチタン錯体溶液５ｍｌ（０.１ｍＭ）を０℃に冷却
し、（Ｅ）−４−ｔ−ブチルチオ−４−トリメチルシリ
ルオキシ−１−プロペン（９３％ Ｅ） ２１８ｍｇ（１
ｍＭ）を加え、つづいて新たに蒸留した、グリオキシル
酸 メチル ８８ｍｇ（１ｍＭ）とトルエン０.５ｍｌを
加え、０℃で２時間反応させた。
【００４２】反応液を０℃に冷却した１０％塩酸−メタ
ノール中に注ぐ。 その溶液をセライト上で濾過し、濾
液をジエチルエーテルで３回（１５ｍｌ）抽出した。
有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。 溶媒を留去し、残った溶液をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル＝１５／１）で精製すると、１８６ｍｇの４−
ｔ−ブチルチオ−２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オ
キソ酪酸 メチルが得られた。
【００４３】収 率 ： ８０％（１６％ ｓｙｎ, ８４
％ｅｅ; ８４％ ａｎｔｉ, ９３％ｅｅ） ＩＲ（neat）： ３５００, ２９７０, １７２０, １４６０, １２６０,
１１９０, ７６０ｃｍ-1
【００４４】ｓｙｎ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １.３０（ｄ, Ｊ＝７.２Ｈｚ, ３Ｈ）, １.４５（ｓ,
９Ｈ）, ３.０２（ｄｑ, Ｊ＝４.４, ７.２Ｈｚ, １
Ｈ）, ３.１２（ｂｒ, １Ｈ）,３.７９（ｓ, ３Ｈ）,
４.２３（ｄ, Ｊ＝４.４Ｈｚ, １Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １４.１, ２９.８, ４８.５, ５１.５, ５２.６, ７３.
１, １７３.５,２０１.９.
【００４５】ａｎｔｉ体1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １.２０（ｄ, Ｊ＝７.１ Ｈｚ, ３Ｈ）, １.４７（ｓ,
９Ｈ）, ２.９７（ｍ, １Ｈ）, ３.８０（ｓ, ３Ｈ）,
４.５４（ｄ, Ｊ＝４.１Ｈｚ,１Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ： １１.９, ５１.７, ５２.８, ７１.８.
【００４６】実 施 例 ５〜１２ 基質、溶媒を変えたほかは、実施例１に準じて操作を行
ない、第１表に示す化合物を得た。
【００４７】
【表１】
【００４８】
【発明の効果】本発明は、不斉アルドール反応の触媒と
して光学活性のビナフトール−チタン錯体を選択、使用
することにより、シリルエノールエーテルと置換アルデ
ヒドとから効率よく、しかもジアステレオ選択的かつエ
ナンチオ選択的に、光学活性β−ヒドロキシケトンを製
造することのできるものであり、工業的に優れた方法で
ある。 以 上
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/675 9279−4Ｈ 69/708 Ｚ 9279−4Ｈ 69/712 Ｚ 9279−4Ｈ 69/732 Ｚ 9279−4Ｈ 69/734 Ｚ 9279−4Ｈ 319/20 323/22 7419−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 寺田 眞浩 東京都目黒区大岡山２丁目12番１号 東京 工業大学工学部化学工学科内 (72)発明者 佐用 昇 東京都大田区蒲田５丁目36番31号 高砂香 料工業株式会社基礎研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（II） 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は同一または異なって水素原子または
    低級アルキル基を、Ｒ3は低級アルキル基、低級アルキ
    ルオキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基または低級
    アルキルチオ基を示し、３つのＲ'は同一または異なっ
    て低級アルキル基またはフェニル基を示す）で表される
    シリルエノールエーテルと、一般式（III）、 【化２】 （式中、Ｒ4は低級アルキル基、低級アルキルオキシメ
    チル基、ベンジルオキシメチル基、低級アルキルオキシ
    カルボニル基を示す）で表される置換アルデヒドとを、
    式（IV）、 【化３】 （式中、Ｘは塩素原子または臭素原子を示す）で表され
    るビナフトール−チタン錯体の存在下に反応せしめるこ
    とを特徴とする一般式（I） 【化４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ'は前記と同じ意
    味を有する）で表される光学活性β−ヒドロキシケトン
    を触媒的不斉アルドール反応により製造する方法。
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