JPH07103066B2 - α−ハロエノン体の製造方法 - Google Patents
α−ハロエノン体の製造方法Info
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- JPH07103066B2 JPH07103066B2 JP4993387A JP4993387A JPH07103066B2 JP H07103066 B2 JPH07103066 B2 JP H07103066B2 JP 4993387 A JP4993387 A JP 4993387A JP 4993387 A JP4993387 A JP 4993387A JP H07103066 B2 JPH07103066 B2 JP H07103066B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般式（Ｉ） （式中、X1及びX2は塩素原子、臭素原子又は沃素原子を
表わし、R1は炭素数３〜10の直鎖もしくは分枝鎖アルキ
ル基、又は置換されていないか少なくとも１個の炭素数
１〜４のアルキル基で置換されている炭素数４〜７のシ
クロアルキル基、又は炭素数３〜12の直鎖もしくは分枝
鎖アルケニル基、又は置換されていてもよいフェニル
基、フェノキシ基、もしくはフェノキシアルキル基、又
は炭素数３〜12の直鎖もしくは分枝鎖アルキニル基を表
わす。）で表わされるジハロ−カルボニル化合物を亜鉛
及びジアルキルアルミナムハライドの存在下、一般式
（II） R2−CHO― （II） （式中、R2は置換されていてもよい５員環、置換されて
いてもよいビシクロ〔3.3.0〕オクタン骨格又は置換さ
れていてもよいビシクロ〔4.3.0〕ノナン骨格を表わ
す。）で表わされるアルデヒド体と反応させ、次いで置
換スルホニルクロリド又は無水酢酸、及び塩基で処理す
ることを特徴とする一般式（IV） 〔式中、ＡはX1又はX2を表わし（X1及びX2は塩素原子、
臭素原子又は沃素原子を表わす。）R1とR2は前記と同様
の意味を表わす。）で表わされるα−ハロエノン体の製
造方法に関する。
表わし、R1は炭素数３〜10の直鎖もしくは分枝鎖アルキ
ル基、又は置換されていないか少なくとも１個の炭素数
１〜４のアルキル基で置換されている炭素数４〜７のシ
クロアルキル基、又は炭素数３〜12の直鎖もしくは分枝
鎖アルケニル基、又は置換されていてもよいフェニル
基、フェノキシ基、もしくはフェノキシアルキル基、又
は炭素数３〜12の直鎖もしくは分枝鎖アルキニル基を表
わす。）で表わされるジハロ−カルボニル化合物を亜鉛
及びジアルキルアルミナムハライドの存在下、一般式
（II） R2−CHO― （II） （式中、R2は置換されていてもよい５員環、置換されて
いてもよいビシクロ〔3.3.0〕オクタン骨格又は置換さ
れていてもよいビシクロ〔4.3.0〕ノナン骨格を表わ
す。）で表わされるアルデヒド体と反応させ、次いで置
換スルホニルクロリド又は無水酢酸、及び塩基で処理す
ることを特徴とする一般式（IV） 〔式中、ＡはX1又はX2を表わし（X1及びX2は塩素原子、
臭素原子又は沃素原子を表わす。）R1とR2は前記と同様
の意味を表わす。）で表わされるα−ハロエノン体の製
造方法に関する。
本発明の方法を用いることにより下記式（Ｖ） で表わされるビシクロ〔3.3.0〕オクタン誘導体も容易
に合成することができる。前記式（Ｖ）で表わされるビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン誘導体は、15位のカルボニル
基を還元し、塩基で処理することにより、13−14位に三
重結合を容易に導入することができる（特開昭61−2052
22参照）。例えば、下記式（VI）で表わされるオキサ−
カルバサイクリン を高い効率で合成することができる。オキサ−カルバサ
イクリンは、第二世代のカルバサイクリンとして注目さ
れている物質で現在臨床段階にあるカルバサイクリン類
（カルボン酸のβ位酸素原子がメチレンにおきかわった
もの）に比して体内寿命が極めて長い点が特徴である
〔H.Vorbrggen,W.Skuballa and B.Radchel,京都プ
ロスタグランジン会議（京都、November 25,1984）,Pro
gram ＆ Abstracts,p36）。
に合成することができる。前記式（Ｖ）で表わされるビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン誘導体は、15位のカルボニル
基を還元し、塩基で処理することにより、13−14位に三
重結合を容易に導入することができる（特開昭61−2052
22参照）。例えば、下記式（VI）で表わされるオキサ−
カルバサイクリン を高い効率で合成することができる。オキサ−カルバサ
イクリンは、第二世代のカルバサイクリンとして注目さ
れている物質で現在臨床段階にあるカルバサイクリン類
（カルボン酸のβ位酸素原子がメチレンにおきかわった
もの）に比して体内寿命が極めて長い点が特徴である
〔H.Vorbrggen,W.Skuballa and B.Radchel,京都プ
ロスタグランジン会議（京都、November 25,1984）,Pro
gram ＆ Abstracts,p36）。
〔従来技術〕 前記式（Ｖ）中に含まれるα−ハロエノン構造は従来下
記一般式（VII） （式中、R1は前記と同様の意味を表わし、Ｘは臭素及び
塩素を表わし、R3は低級アルキル基を表わす。）で表わ
される試薬を用いて合成されていた〔W.Skuballa,E.Sch
illinger,C.−st.Strzebecher and H.Vorbrggen,J.
Med.Chem.,29,313（1986）〕。しかしながら該反応は、
用いるアルデヒド体により収率が低いかあるいは全く反
応が進行しない場合があり、一般性のある優れた反応の
開発が持たれていた。
記一般式（VII） （式中、R1は前記と同様の意味を表わし、Ｘは臭素及び
塩素を表わし、R3は低級アルキル基を表わす。）で表わ
される試薬を用いて合成されていた〔W.Skuballa,E.Sch
illinger,C.−st.Strzebecher and H.Vorbrggen,J.
Med.Chem.,29,313（1986）〕。しかしながら該反応は、
用いるアルデヒド体により収率が低いかあるいは全く反
応が進行しない場合があり、一般性のある優れた反応の
開発が持たれていた。
本発明者等は、上記問題点を解決すべく鋭意検討を進め
た結果、前記一般式（Ｉ）で表わされるジハローカルボ
ニル化合物が前記一般式（VII）で表わされる試薬より
もはるかに優れた性質を有しておりα−ハロエノン化合
物を容易に製造する方法を見い出す事ができ、本発明を
完成した。
た結果、前記一般式（Ｉ）で表わされるジハローカルボ
ニル化合物が前記一般式（VII）で表わされる試薬より
もはるかに優れた性質を有しておりα−ハロエノン化合
物を容易に製造する方法を見い出す事ができ、本発明を
完成した。
本発明の原料である前記一般式（Ｉ）で表わされるジハ
ロ−カルボニル化合物は以下に記す反応式のいずれかに
従い製造することができる。
ロ−カルボニル化合物は以下に記す反応式のいずれかに
従い製造することができる。
（式中、X1，X2及びR1は前記と同様の意味を表わす。） （式中、X1，X2及びR1は前記と同様の意味を表わす。R4
は低級アルキル基である。） 〔反応式（Ｉ）第一工程〕 本工程は市販されているかあるいは容易に合成可能な前
記一般式（VII）で表わされるアルデヒド化合物にメチ
レンハライドのカルボアニオンを縮合させ、前記一般式
（IX）で表わされるアルコール体を合成するものであ
る。メチレンハライドのガルボアニオン調製には強塩基
が必要であり、リチウムジイソプロピルアミド、リチウ
ムジシクロヘキシルアミドあるいはリチウムジエチルア
ミド等を使用する。反応は−100℃から０℃の範囲下溶
媒中実施するのが好ましく、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒を
使用することができる。
は低級アルキル基である。） 〔反応式（Ｉ）第一工程〕 本工程は市販されているかあるいは容易に合成可能な前
記一般式（VII）で表わされるアルデヒド化合物にメチ
レンハライドのカルボアニオンを縮合させ、前記一般式
（IX）で表わされるアルコール体を合成するものであ
る。メチレンハライドのガルボアニオン調製には強塩基
が必要であり、リチウムジイソプロピルアミド、リチウ
ムジシクロヘキシルアミドあるいはリチウムジエチルア
ミド等を使用する。反応は−100℃から０℃の範囲下溶
媒中実施するのが好ましく、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒を
使用することができる。
本工程は、前記第一工程で得られた前記一般式（IX）で
表わされるアルコール体を酸化し、前記一般式（Ｉ）で
表わされるジハロ−カルボニル化合物を合成するもので
ある。酸化剤としてはピリジニウムクロロクロメイトや
スワーン酸化剤（オキザリルクロリド−ジメチルスルホ
キシド−トリエチルアミン）が使用できる。いずれの酸
化剤を用いるにしても、反応は溶媒中で行うことが好ま
しく、塩化メチレンやクロロホルム等のハロゲン化炭化
水素溶媒を使用できる。又、反応温度は−８℃から５℃
を選択することができる。
表わされるアルコール体を酸化し、前記一般式（Ｉ）で
表わされるジハロ−カルボニル化合物を合成するもので
ある。酸化剤としてはピリジニウムクロロクロメイトや
スワーン酸化剤（オキザリルクロリド−ジメチルスルホ
キシド−トリエチルアミン）が使用できる。いずれの酸
化剤を用いるにしても、反応は溶媒中で行うことが好ま
しく、塩化メチレンやクロロホルム等のハロゲン化炭化
水素溶媒を使用できる。又、反応温度は−８℃から５℃
を選択することができる。
本工程は、市販されているかあるいは容易に合成可能な
前記一般式（Ｘ）で表わされるエステル体にメチレンハ
ライドのカルボアニオンを縮合させ、前記一般式（Ｉ）
で表わされるジハロ−カルボニル化合物を製造するもの
である。反応に使用する試薬、反応条件等は、前記〔反
応式（Ｉ）第一工程〕と全く同じである。
前記一般式（Ｘ）で表わされるエステル体にメチレンハ
ライドのカルボアニオンを縮合させ、前記一般式（Ｉ）
で表わされるジハロ−カルボニル化合物を製造するもの
である。反応に使用する試薬、反応条件等は、前記〔反
応式（Ｉ）第一工程〕と全く同じである。
前記一般式（Ｉ）で表わされるジハロ−カルボニル化合
物は、以下の反応式に従いα−ハロエノン体へ変換する
事ができる。
物は、以下の反応式に従いα−ハロエノン体へ変換する
事ができる。
（式中、X1，X2,A,R1及びR2は前記と同様の意味を表わ
し、R5は置換スルホニル基又はアセチル基を表わす。） 〔第一工程〕 本工程は、前記一般式（Ｉ）で表わされるジハロ−カル
ボニル化合物を亜鉛末存在下ジアルキルアルミナムハラ
イドと反応させアルミナムエノラートとし、前記一般式
（II）で表わされるアルデヒド体と縮合させて前記一般
式（III）で表わされるアルコール体を製造するもので
ある。本反応は溶媒中で実施するものであり、テトラヒ
ドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン等のエーテル
系溶媒を使用する。使用するジアルキルアルミナムハラ
イドとしては、ジメチルアルミナムクロリド、ジエチル
アルミナムクロリド等が特に好ましい。反応は−50℃か
ら室温の範囲で円滑に進行する。
し、R5は置換スルホニル基又はアセチル基を表わす。） 〔第一工程〕 本工程は、前記一般式（Ｉ）で表わされるジハロ−カル
ボニル化合物を亜鉛末存在下ジアルキルアルミナムハラ
イドと反応させアルミナムエノラートとし、前記一般式
（II）で表わされるアルデヒド体と縮合させて前記一般
式（III）で表わされるアルコール体を製造するもので
ある。本反応は溶媒中で実施するものであり、テトラヒ
ドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン等のエーテル
系溶媒を使用する。使用するジアルキルアルミナムハラ
イドとしては、ジメチルアルミナムクロリド、ジエチル
アルミナムクロリド等が特に好ましい。反応は−50℃か
ら室温の範囲で円滑に進行する。
本工程は、前記第一工程で得られた前記一般式（III）
で表わされるアルコール体を前記一般式（XI）で表わさ
れるスルホニルオキシ体又はアセテート体へ変換するも
のである。本反応は溶媒中で実施するものであり、塩化
メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、
もしくはピリジン等の溶媒を用いることができる。反応
試剤としては、メタンスルホニルクロリド、パラトルエ
ンスルホニルクロリド等の置換スルホニルクロリド又は
無水酢酸などを使用する。ハロゲン化炭化水素溶媒中で
反応を実施する時は、塩基としてトリエチルアミンの存
在下に反応を実施する。反応は−78℃から−15℃の範囲
で円滑に進行する。
で表わされるアルコール体を前記一般式（XI）で表わさ
れるスルホニルオキシ体又はアセテート体へ変換するも
のである。本反応は溶媒中で実施するものであり、塩化
メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、
もしくはピリジン等の溶媒を用いることができる。反応
試剤としては、メタンスルホニルクロリド、パラトルエ
ンスルホニルクロリド等の置換スルホニルクロリド又は
無水酢酸などを使用する。ハロゲン化炭化水素溶媒中で
反応を実施する時は、塩基としてトリエチルアミンの存
在下に反応を実施する。反応は−78℃から−15℃の範囲
で円滑に進行する。
本工程は、前記第一工程で得られた前記一般式（XI）で
表わされるスルホニルオキシ体をトリエチルアミンない
しはピリジンあるいはDBUの存在下、−10℃から室温で
処理することにより前記一般式（IV）で表わされるα−
ハロエノン体を製造するものである。反応は塩化メチレ
ンやクロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、もしく
はピリジン等の溶媒中実施する。なお後記実施例で示さ
れるごとく、反応条件を巧みに選ぶことにより、第二工
程、第三工程を同一フラスコ中で行う事も容易である。
表わされるスルホニルオキシ体をトリエチルアミンない
しはピリジンあるいはDBUの存在下、−10℃から室温で
処理することにより前記一般式（IV）で表わされるα−
ハロエノン体を製造するものである。反応は塩化メチレ
ンやクロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、もしく
はピリジン等の溶媒中実施する。なお後記実施例で示さ
れるごとく、反応条件を巧みに選ぶことにより、第二工
程、第三工程を同一フラスコ中で行う事も容易である。
以下、参考例、実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。
る。
参考例１ アルゴン雰囲気下、１−メチル−３−ヘプチナール（3.
3g,25.8mmol）及びジブロモメタン（3.6ml,51.6mmol）
をTHF（50ml）に溶解した。−78℃にてリチウムジシ
クロヘキシルアミドのTHF溶液（20ml,51.6mmol）を30分
間で滴下した。−78℃にて60分間攪拌した後、同温にて
飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。反応液にエーテ
ルを加え不溶物をセライトにてろ過し、エーテル抽出し
た。エーテル層を飽和食塩水にて洗浄し無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去し1,1−ジブロモ−３−メ
チル−５−オクチン−２−オールの粗生成物（5.49g）
を得た。
3g,25.8mmol）及びジブロモメタン（3.6ml,51.6mmol）
をTHF（50ml）に溶解した。−78℃にてリチウムジシ
クロヘキシルアミドのTHF溶液（20ml,51.6mmol）を30分
間で滴下した。−78℃にて60分間攪拌した後、同温にて
飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。反応液にエーテ
ルを加え不溶物をセライトにてろ過し、エーテル抽出し
た。エーテル層を飽和食塩水にて洗浄し無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去し1,1−ジブロモ−３−メ
チル−５−オクチン−２−オールの粗生成物（5.49g）
を得た。
アルゴン雰囲気下、1,1−ジブロモ−３−メチル−５−
オクチン−２−オール（5.49g,18.4mmol）を塩化メチレ
ン（60ml）に溶解し粉末の4A−モレキュラーシーブス
（5.49g）及びPCC（7.9g,36.8mmol）を加え２日間攪拌
した。反応液にエーテルを加えた後フローリジルカラム
クロマトグラフィー（エーテル）にて反応液をろ過しエ
ーテルで洗浄し、溶媒を留去した。得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキ
サン＝1:40）にて精製し、1,1−ジブロモ−３−メチル
−５−オクチニル−２−オン（4.52g,83％）を得た。
オクチン−２−オール（5.49g,18.4mmol）を塩化メチレ
ン（60ml）に溶解し粉末の4A−モレキュラーシーブス
（5.49g）及びPCC（7.9g,36.8mmol）を加え２日間攪拌
した。反応液にエーテルを加えた後フローリジルカラム
クロマトグラフィー（エーテル）にて反応液をろ過しエ
ーテルで洗浄し、溶媒を留去した。得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキ
サン＝1:40）にて精製し、1,1−ジブロモ−３−メチル
−５−オクチニル−２−オン（4.52g,83％）を得た。
IR（neat）:3000,2950,1740,1450,1380,1320,1000,700c
m-1 NMR（CDCl3）δ:6.0（s,1H）,2.23（m,5H）,1.26（d,J
＝7.5Hz,3H）,1.06（t,J＝12Hz,3H） Mass（m/z）:215（M+−79,7）,136（26）,124（75）,12
3（100） 参考例２ 参考例１と同様の方法によりヘキサナール、（Ｒ）−
（＋）−β−シトロネラール、シクロヘキサンカルボキ
シアルデヒド、フェノキシアセトアルデヒド、２β−メ
チル−４−ヘプチニルアルデヒドよりそれぞれ対応する
ジブロモケトン化合物を合成した。以下の表Ｉに収率及
びIR,NMRのスペクトルデータを示す。
m-1 NMR（CDCl3）δ:6.0（s,1H）,2.23（m,5H）,1.26（d,J
＝7.5Hz,3H）,1.06（t,J＝12Hz,3H） Mass（m/z）:215（M+−79,7）,136（26）,124（75）,12
3（100） 参考例２ 参考例１と同様の方法によりヘキサナール、（Ｒ）−
（＋）−β−シトロネラール、シクロヘキサンカルボキ
シアルデヒド、フェノキシアセトアルデヒド、２β−メ
チル−４−ヘプチニルアルデヒドよりそれぞれ対応する
ジブロモケトン化合物を合成した。以下の表Ｉに収率及
びIR,NMRのスペクトルデータを示す。
参考例８ アルゴン雰囲気下、−100℃にてリチウムジイソプロピ
ルアミドのエーテル−THF（40ml,容積比,3:1,20mmol）
にメチレンジブロミド（3.8g,22mmol）のTHF溶液（20m
l）を加え同温にて15分間攪拌した。−100℃にてメチル
−２−メチル−４−ヘプチネイト（1.54g,10mmol）のTH
F溶液（10ml）を滴下し−100〜−60℃にて２時間30分攪
拌した。反応液に10％塩酸水溶液を滴下しエーテル層を
水及び飽和食塩水にて洗浄した後無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキサン＝
1:40）にて精製し1,1−ジブロモ−３−メチル−５−オ
クチニル−２−オン（2.51g,85％）を得た。IR（nea
t）:3000,2950,1740,1450,1380,1320,1000,700cm-1 NMR（CDCl3）δ:6.00（s,1H）,2.23（m,5H）,1.26（d,J
＝7.5Hz,3H）,1.06（t,12Hz,3H） Mass（m/z）:215（M+−79,7）,136（26）,124（75）,12
3（100） 参考例９〜10 参考例８と同様の方法によりカプロン酸メチルエステ
ル、フエノキシ酢酸メチルエステルよりそれぞれ対応す
るジブロモケトン化合物を76％、83％で合成した。それ
らのスペクトルデータは参考例３及び参考例６で得られ
た化合物と一致した。
ルアミドのエーテル−THF（40ml,容積比,3:1,20mmol）
にメチレンジブロミド（3.8g,22mmol）のTHF溶液（20m
l）を加え同温にて15分間攪拌した。−100℃にてメチル
−２−メチル−４−ヘプチネイト（1.54g,10mmol）のTH
F溶液（10ml）を滴下し−100〜−60℃にて２時間30分攪
拌した。反応液に10％塩酸水溶液を滴下しエーテル層を
水及び飽和食塩水にて洗浄した後無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキサン＝
1:40）にて精製し1,1−ジブロモ−３−メチル−５−オ
クチニル−２−オン（2.51g,85％）を得た。IR（nea
t）:3000,2950,1740,1450,1380,1320,1000,700cm-1 NMR（CDCl3）δ:6.00（s,1H）,2.23（m,5H）,1.26（d,J
＝7.5Hz,3H）,1.06（t,12Hz,3H） Mass（m/z）:215（M+−79,7）,136（26）,124（75）,12
3（100） 参考例９〜10 参考例８と同様の方法によりカプロン酸メチルエステ
ル、フエノキシ酢酸メチルエステルよりそれぞれ対応す
るジブロモケトン化合物を76％、83％で合成した。それ
らのスペクトルデータは参考例３及び参考例６で得られ
た化合物と一致した。
実施例１ アルゴン雰囲気下、亜鉛末（17.8mg,0.274mmol）及び触
媒量の臭化第一銅をTHF（1ml）に懸濁させた。室温にて
ジエチルアルミニウムクロライド（1.44Mヘキサン溶液,
0.19ml,0.274mmol）を加え同温にて10分間攪拌した。−
５℃にて〔3E−（４−ｔ−ブロキシカルボニル−３−オ
キサ−ブチリデン）−６−エキソ−ホルミル−７−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔3.
3.0〕オクタン〕（45mg,0.14mmol）及び1,1−ジブロモ
−３β−メチル−５−オクチニル−２−オン（170mg,0.
576mmol）のTHF溶液（2ml）を15分間かけてゆっくり滴
下した後、同温にて60分間攪拌した。反応液に飽和炭酸
水素カリウム水溶液を加え、エーテル抽出、エーテル層
を飽和食塩水にて洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を留去し、得られた残留物を塩化メチレン
（2ml）に溶解し、−20℃にてトリエチルアミン（0.29m
l,2.1mmol）を加えた後、メタンスルホニルクロライド
（0.054ml,0.7mmol）を滴下し０℃にて15時間攪拌し
た。反応液に氷水を加え、エーテル抽出した。エーテル
層を水及び飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキサン＝
1:3）にて精製し〔3E−（４−ｔ−ブトキシカルボニル
−３−オキサ−ブチリデン）−６−エキソ−（２−ブロ
モ−３−オキソ−４β−メチル−トランス−１−ノネン
−６−イニル）−７−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕（45mg,67
％）を得た。
媒量の臭化第一銅をTHF（1ml）に懸濁させた。室温にて
ジエチルアルミニウムクロライド（1.44Mヘキサン溶液,
0.19ml,0.274mmol）を加え同温にて10分間攪拌した。−
５℃にて〔3E−（４−ｔ−ブロキシカルボニル−３−オ
キサ−ブチリデン）−６−エキソ−ホルミル−７−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔3.
3.0〕オクタン〕（45mg,0.14mmol）及び1,1−ジブロモ
−３β−メチル−５−オクチニル−２−オン（170mg,0.
576mmol）のTHF溶液（2ml）を15分間かけてゆっくり滴
下した後、同温にて60分間攪拌した。反応液に飽和炭酸
水素カリウム水溶液を加え、エーテル抽出、エーテル層
を飽和食塩水にて洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を留去し、得られた残留物を塩化メチレン
（2ml）に溶解し、−20℃にてトリエチルアミン（0.29m
l,2.1mmol）を加えた後、メタンスルホニルクロライド
（0.054ml,0.7mmol）を滴下し０℃にて15時間攪拌し
た。反応液に氷水を加え、エーテル抽出した。エーテル
層を水及び飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキサン＝
1:3）にて精製し〔3E−（４−ｔ−ブトキシカルボニル
−３−オキサ−ブチリデン）−６−エキソ−（２−ブロ
モ−３−オキソ−４β−メチル−トランス−１−ノネン
−６−イニル）−７−エンド−テトラヒドロピラニルオ
キシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕（45mg,67
％）を得た。
IR（neat）:2930,2850,1740,1690,1200,820 NMR（CDCl3）δ:7.10（dd,J＝9Hz,1H）,5.53（t,J＝12H
z,1H）,4.66,4.53（eachbs,totallH）,4.10（d,J＝7.5H
z,2H）,3.96（s,2H）,1.16（d,J＝7Hz,2H）,1.06（t,J
＝7.5Hz,3H） Mass（m/z）:379（５）,378（11）,376（11）,105（2
6）,85（100）,79（12）,67（42）,57（95）,55（31）,
43（37）,41（67）,29（30） 実施例２ アルゴン雰囲気下、亜鉛末（19.6mg,0.3mmol）及び触媒
量の臭化第一銅をTHF（1ml）に懸濁させた。室温にてジ
エチルアルミニウムクロライド（1.15Mヘキサン溶液,0.
26ml,0.3mmol）を加え同温にて10分間攪拌した。−５℃
にて〔3E−（２−メトキシ−エチリデン）−６−エキソ
−ホルミル−７−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕（74mg,0.252mmo
l）及び1,1−ジブロモ−２−ヘプタノン（171mg,0.63mm
ol）のTHF溶液（2ml）を15分間かけて滴下した後、同温
にて40分間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素カリウム水
溶液を加えた後エーテル抽出、エーテル層を飽和食塩水
にて洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去し、得られた残留物を塩化メチレン（2ml）に溶解し
た。−20℃にてトリエチルアミン（0.57ml,4.16mmol）
を加えた後、メタンスルホニルクロライド（0.108ml,1.
37mmol）を滴下し０℃にて二時間攪拌した。反応液に氷
水を加えエーテル抽出、エーテル層を水及び飽和食塩水
にて洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（エーテル:n−ヘキサン＝1:4）にて精製し〔3E
−（メトキシ−エチリデン）−６−エキソ−（２−ブロ
モ−３−オキソ−トランス−１−オクテニル）−７−エ
ンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクタン〕（92mg,75％）を得た。
z,1H）,4.66,4.53（eachbs,totallH）,4.10（d,J＝7.5H
z,2H）,3.96（s,2H）,1.16（d,J＝7Hz,2H）,1.06（t,J
＝7.5Hz,3H） Mass（m/z）:379（５）,378（11）,376（11）,105（2
6）,85（100）,79（12）,67（42）,57（95）,55（31）,
43（37）,41（67）,29（30） 実施例２ アルゴン雰囲気下、亜鉛末（19.6mg,0.3mmol）及び触媒
量の臭化第一銅をTHF（1ml）に懸濁させた。室温にてジ
エチルアルミニウムクロライド（1.15Mヘキサン溶液,0.
26ml,0.3mmol）を加え同温にて10分間攪拌した。−５℃
にて〔3E−（２−メトキシ−エチリデン）−６−エキソ
−ホルミル−７−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オクタン〕（74mg,0.252mmo
l）及び1,1−ジブロモ−２−ヘプタノン（171mg,0.63mm
ol）のTHF溶液（2ml）を15分間かけて滴下した後、同温
にて40分間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素カリウム水
溶液を加えた後エーテル抽出、エーテル層を飽和食塩水
にて洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留
去し、得られた残留物を塩化メチレン（2ml）に溶解し
た。−20℃にてトリエチルアミン（0.57ml,4.16mmol）
を加えた後、メタンスルホニルクロライド（0.108ml,1.
37mmol）を滴下し０℃にて二時間攪拌した。反応液に氷
水を加えエーテル抽出、エーテル層を水及び飽和食塩水
にて洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（エーテル:n−ヘキサン＝1:4）にて精製し〔3E
−（メトキシ−エチリデン）−６−エキソ−（２−ブロ
モ−３−オキソ−トランス−１−オクテニル）−７−エ
ンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクタン〕（92mg,75％）を得た。
NMR（CDCl3）δ:7.06（dd,J＝9Hz,1H）,5.50（t,J＝12H
z,1H）,4.66,4.53（eachbs,total,lH）,3.90（d,J＝7H
z,2H）,3.30（s,3H）,0.86（t,J＝9Hz,3H） 実施例３〜６ 実施例２と同様の方法により〔3E−（２−メトキシ−エ
チリデン）−６−エキソ−ホルミル−７−エンド−テト
ラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オ
クタン〕とジブロモケトン化合物との反応により以下の
化合物を合成した。その収率及びNMRデータを表２にて
示す。
z,1H）,4.66,4.53（eachbs,total,lH）,3.90（d,J＝7H
z,2H）,3.30（s,3H）,0.86（t,J＝9Hz,3H） 実施例３〜６ 実施例２と同様の方法により〔3E−（２−メトキシ−エ
チリデン）−６−エキソ−ホルミル−７−エンド−テト
ラヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オ
クタン〕とジブロモケトン化合物との反応により以下の
化合物を合成した。その収率及びNMRデータを表２にて
示す。
実施例７ アルゴン雰囲気下、亜鉛末（11.0mg,0.17mmol）及び触
媒量の臭化第一銅をTHF（1ml）に懸濁させた。室温にて
ジエチルアルミニウムクロライド（1.15Mヘキサン溶液,
0.134ml,0.14mmol）を滴下し同温にて10分間攪拌した。
０℃にて〔３−（４−ｔ−メトキシカルボニル−１−ブ
テニル）−７−エキソ−ホルミル−８−エンド−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ
−２−エン〕（50mg,0.14mmol）及び3,3−ジブロモ−シ
クロヘキサン−２−オン（100mg,0.35mmol）のTHF溶液
（1.5ml）を滴下し同温にて30分間攪拌した。反応液に
飽和炭酸水素カリウム水溶液を加え、エーテル抽出、エ
ーテル層を飽和食塩水にて洗浄した後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残留物を塩化
メチレン（1ml）に溶解し−20℃にてトリエチルアミン
（0.207ml,1.5mmol）を加えた後、メタンスルホニルク
ロライド（0.039ml,0.5mmol）を滴下し室温にて１時間
攪拌した。反応液に氷水を加え、エーテル抽出した。エ
ーテル層を水及び飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し溶媒を留去した。得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキ
サン＝1:2）にて精製し〔３−（４−メトキシカルボニ
ル−１−ブテニル）−７−エキソ−（２−ブロモ−３−
オキソ−４−シクロヘキサン−トランス−１−プロペニ
ル）−８−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス
−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−２−エン〕（55mg,71％）を
得た。
媒量の臭化第一銅をTHF（1ml）に懸濁させた。室温にて
ジエチルアルミニウムクロライド（1.15Mヘキサン溶液,
0.134ml,0.14mmol）を滴下し同温にて10分間攪拌した。
０℃にて〔３−（４−ｔ−メトキシカルボニル−１−ブ
テニル）−７−エキソ−ホルミル−８−エンド−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−シス−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ
−２−エン〕（50mg,0.14mmol）及び3,3−ジブロモ−シ
クロヘキサン−２−オン（100mg,0.35mmol）のTHF溶液
（1.5ml）を滴下し同温にて30分間攪拌した。反応液に
飽和炭酸水素カリウム水溶液を加え、エーテル抽出、エ
ーテル層を飽和食塩水にて洗浄した後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残留物を塩化
メチレン（1ml）に溶解し−20℃にてトリエチルアミン
（0.207ml,1.5mmol）を加えた後、メタンスルホニルク
ロライド（0.039ml,0.5mmol）を滴下し室温にて１時間
攪拌した。反応液に氷水を加え、エーテル抽出した。エ
ーテル層を水及び飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し溶媒を留去した。得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（エーテル:n−ヘキ
サン＝1:2）にて精製し〔３−（４−メトキシカルボニ
ル−１−ブテニル）−７−エキソ−（２−ブロモ−３−
オキソ−４−シクロヘキサン−トランス−１−プロペニ
ル）−８−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ−シス
−ビシクロ〔4.3.0〕ノナ−２−エン〕（55mg,71％）を
得た。
IR（neat）:2940,2860,1730,1680,1200,810cm-1 NMR（CDCl3）δ:7.01（dd,J＝1.5,9Hz,1/2H）,6.86（d
d,J＝3,12Hz,1/2H）,6.13（d,J＝16Hz,1/3H）,5.85（d,
J＝12Hz,2/3H）,5.60（bs,1H）,5.30（m,1H）,4.60（m,
1H）,3.70（s,3H） Mass（m/z）:463（M+−85,trace）,314（11）,244（2
8）,85（100）。
d,J＝3,12Hz,1/2H）,6.13（d,J＝16Hz,1/3H）,5.85（d,
J＝12Hz,2/3H）,5.60（bs,1H）,5.30（m,1H）,4.60（m,
1H）,3.70（s,3H） Mass（m/z）:463（M+−85,trace）,314（11）,244（2
8）,85（100）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 49/813 69/738 Ｚ 9279−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 309/12
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中、X1及びX2は塩素原子、臭素原子又は沃素原子を
表わし、R1は炭素数３〜10の直鎖もしくは分枝鎖アルキ
ル基、又は置換されていないか少なくとも１個の炭素数
１〜４のアルキル基で置換されている炭素数４〜７のシ
クロアルキル基、又は炭素数３〜12の直鎖もしくは分枝
鎖アルケニル基、又は置換されていてもよいフェニル
基、フェノキシ基、もしくはフェノキシアルキル基、又
は炭素数３〜12の直鎖もしくは分枝鎖アルキニル基を表
わす。）で表わされるジハロ−カルボニル化合物を亜鉛
及びジアルキルアルミナムハライドの存在下、一般式 R2−CHO （式中、R2は置換されていてもよい５員環、置換されて
もよいビシクロ〔3.3.0〕オクタン骨格又は置換されて
いてもよいビシクロ〔4.3.0〕ノナン骨格を表わす。）
で表わされるアルデヒド体と反応させ、次いで置換スル
ホニルクロリド又は無水酢酸、及び塩基で処理すること
を特徴とする一般式 〔式中、ＡはX1又はX2を表わし（X1及びX2は塩素原子、
臭素原子又は沃素原子である。）、R1とR2は前記と同様
の意味を表わす。〕で表わされるα−ハロエノン体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4993387A JPH07103066B2 (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | α−ハロエノン体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4993387A JPH07103066B2 (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | α−ハロエノン体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63216838A JPS63216838A (ja) | 1988-09-09 |
| JPH07103066B2 true JPH07103066B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=12844818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4993387A Expired - Lifetime JPH07103066B2 (ja) | 1987-03-06 | 1987-03-06 | α−ハロエノン体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07103066B2 (ja) |
-
1987
- 1987-03-06 JP JP4993387A patent/JPH07103066B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63216838A (ja) | 1988-09-09 |
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