JPH06267917A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH06267917A JPH06267917A JP5048996A JP4899693A JPH06267917A JP H06267917 A JPH06267917 A JP H06267917A JP 5048996 A JP5048996 A JP 5048996A JP 4899693 A JP4899693 A JP 4899693A JP H06267917 A JPH06267917 A JP H06267917A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- substrate
- cylindrical brush
- brush
- cleaning apparatus
- Prior art date
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- Pending
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明の目的は、ガラス基板を洗浄対象物とす
る洗浄装置において、基板と円筒形ブラシとの擦動抵抗
の影響を受けずに、基板と円筒形ブラシとの間に一定の
接触面圧を与えることのできる洗浄装置を提供すること
にある。 【構成】円筒形ブラシを保持する転角アームの転角軸
を、基板と円筒形ブラシの接触面と同一平面上に配置す
ることにより、上記目的は達成される。 【効果】本発明によれば基板と円筒形ブラシとの擦動抵
抗の影響を受けずに基板と円筒形ブラシとの間の接触面
圧を直接的に管理できるため安定した洗浄性能を得るこ
とができる。また基板の搬送不良や破損を防ぐことがで
きる。
る洗浄装置において、基板と円筒形ブラシとの擦動抵抗
の影響を受けずに、基板と円筒形ブラシとの間に一定の
接触面圧を与えることのできる洗浄装置を提供すること
にある。 【構成】円筒形ブラシを保持する転角アームの転角軸
を、基板と円筒形ブラシの接触面と同一平面上に配置す
ることにより、上記目的は達成される。 【効果】本発明によれば基板と円筒形ブラシとの擦動抵
抗の影響を受けずに基板と円筒形ブラシとの間の接触面
圧を直接的に管理できるため安定した洗浄性能を得るこ
とができる。また基板の搬送不良や破損を防ぐことがで
きる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はブラシを用いた擦り洗浄
を行う洗浄装置に係り、特にガラス基板，シリコン基板
を洗浄対象物とした洗浄装置に関する。
を行う洗浄装置に係り、特にガラス基板，シリコン基板
を洗浄対象物とした洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術では実開平1−289122 号公報記
載のように、円筒形洗浄ブラシを対置させ回転させるこ
とにより、ブラシの間を通過する被洗浄物の擦り洗浄を
行なっていた。
載のように、円筒形洗浄ブラシを対置させ回転させるこ
とにより、ブラシの間を通過する被洗浄物の擦り洗浄を
行なっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来例では図２および
図４に示すように、弾性のある円筒形洗浄ブラシ２，３
を転角可能な転角アーム４，５によって支持していた。
シリンダ７の配管が大気開放されている状態で、転角ア
ーム４，円筒形ブラシ２，バランスウェイト６を含む転
角可動部の重心が転角軸２１の軸線上に位置するように
バランスウェイト６は調整されている。この状態からシ
リンダ７に任意のエア圧を加えることにより、基板１が
静止しており円筒形ブラシ２が回転していない状態にお
いては円筒形ブラシ２と基板１の間にエア圧に比例した
接触面圧を与えることができる。
図４に示すように、弾性のある円筒形洗浄ブラシ２，３
を転角可能な転角アーム４，５によって支持していた。
シリンダ７の配管が大気開放されている状態で、転角ア
ーム４，円筒形ブラシ２，バランスウェイト６を含む転
角可動部の重心が転角軸２１の軸線上に位置するように
バランスウェイト６は調整されている。この状態からシ
リンダ７に任意のエア圧を加えることにより、基板１が
静止しており円筒形ブラシ２が回転していない状態にお
いては円筒形ブラシ２と基板１の間にエア圧に比例した
接触面圧を与えることができる。
【０００４】しかし円筒形ブラシ２がギア１４，１３，
１５を介してモータ１６により１９の方向に回転駆動さ
れ、また基板１が搬送ローラ８により搬送されると、基
板１と円筒形ブラシ２との間に擦動抵抗が生じ円筒形ブ
ラシ２は基板１より反力１７を受ける。この反力１７
の、転角アーム４の転角円の接線方向成分１８により転
角アーム４は２０の方向に回転しようとする力を受け
る。そのため円筒形ブラシ２と基板１の接触面圧が変化
するといった問題点があった。
１５を介してモータ１６により１９の方向に回転駆動さ
れ、また基板１が搬送ローラ８により搬送されると、基
板１と円筒形ブラシ２との間に擦動抵抗が生じ円筒形ブ
ラシ２は基板１より反力１７を受ける。この反力１７
の、転角アーム４の転角円の接線方向成分１８により転
角アーム４は２０の方向に回転しようとする力を受け
る。そのため円筒形ブラシ２と基板１の接触面圧が変化
するといった問題点があった。
【０００５】本発明の目的は円筒形ブラシを用いた擦り
洗浄において基板と円筒形ブラシとの擦動抵抗の影響を
受けずに、基板と円筒形ブラシとの間に一定の接触面圧
を与えることのできる洗浄装置を提供することにある。
洗浄において基板と円筒形ブラシとの擦動抵抗の影響を
受けずに、基板と円筒形ブラシとの間に一定の接触面圧
を与えることのできる洗浄装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に請求項１に示すように、円筒形ブラシを保持する転角
アームの転角軸を、基板と円筒形ブラシの接触面と同一
平面上に配置することにより、基板と円筒形ブラシとの
擦動抵抗の影響を受けずに、基板と円筒形ブラシとの間
に一定の接触面圧を与えることができる。
に請求項１に示すように、円筒形ブラシを保持する転角
アームの転角軸を、基板と円筒形ブラシの接触面と同一
平面上に配置することにより、基板と円筒形ブラシとの
擦動抵抗の影響を受けずに、基板と円筒形ブラシとの間
に一定の接触面圧を与えることができる。
【０００７】
【作用】図３に示すように円筒形ブラシ２を支持する転
角アーム４の転角軸２１を基板１と円筒形ブラシ１の接
触面と同一平面上に配置することにより、基板１と円筒
形ブラシ２との擦動抵抗により円筒形ブラシ２が基板１
より反力１７を受けても、転角アーム４を転角させよう
とする力は働かない。
角アーム４の転角軸２１を基板１と円筒形ブラシ１の接
触面と同一平面上に配置することにより、基板１と円筒
形ブラシ２との擦動抵抗により円筒形ブラシ２が基板１
より反力１７を受けても、転角アーム４を転角させよう
とする力は働かない。
【０００８】
【実施例】以下本発明の一実施例を図１および図３によ
り説明する。被洗浄物である基板１は、図には記載され
ていない駆動機構により駆動されるシャフト９に取り付
けられた搬送ローラ８により搬送される。
り説明する。被洗浄物である基板１は、図には記載され
ていない駆動機構により駆動されるシャフト９に取り付
けられた搬送ローラ８により搬送される。
【０００９】洗浄用の円筒形ブラシ２，３は転角可能に
設置された転角アーム４，５によって両端を保持されて
おりプーリ１０，１１、タイミングベルト１２，搬送ギ
ア１３，駆動ギア１５を介してモータ１６により、例え
ば２０の方向に回転駆動される。
設置された転角アーム４，５によって両端を保持されて
おりプーリ１０，１１、タイミングベルト１２，搬送ギ
ア１３，駆動ギア１５を介してモータ１６により、例え
ば２０の方向に回転駆動される。
【００１０】基板１の下面を洗浄する円筒形ブラシ３を
保持する転角アーム５は、図には記載されていない駆動
機構により転角駆動され、洗浄時には円筒形ブラシ３が
基板１の裏面に接触する位置に転角し、固定される。
保持する転角アーム５は、図には記載されていない駆動
機構により転角駆動され、洗浄時には円筒形ブラシ３が
基板１の裏面に接触する位置に転角し、固定される。
【００１１】基板１の上面を洗浄する円筒形ブラシ２を
保持する転角アーム４は、基板１と円筒形ブラシ２との
接触面と同一平面上に配置された転角軸２１により転角
可能に支持されている。また転角アーム４にはバランス
ウェイト６、およびシリンダ７が取り付けられている。
保持する転角アーム４は、基板１と円筒形ブラシ２との
接触面と同一平面上に配置された転角軸２１により転角
可能に支持されている。また転角アーム４にはバランス
ウェイト６、およびシリンダ７が取り付けられている。
【００１２】シリンダ７の配管が大気開放されている状
態で、転角アーム４，円筒形ブラシ２，バランスウェイ
ト６を含む転角可動部の重心が転角軸２１の軸線上に位
置するようにバランスウェイト６は調整されている。こ
の状態からシリンダ７に任意のエア圧を加えることによ
り、円筒形ブラシ２と基板１の間にエア圧に比例した接
触面圧を与えることができる。
態で、転角アーム４，円筒形ブラシ２，バランスウェイ
ト６を含む転角可動部の重心が転角軸２１の軸線上に位
置するようにバランスウェイト６は調整されている。こ
の状態からシリンダ７に任意のエア圧を加えることによ
り、円筒形ブラシ２と基板１の間にエア圧に比例した接
触面圧を与えることができる。
【００１３】転角アーム４の転角軸２１は、基板１と円
筒形ブラシ２との接触面と同一平面上に配置されている
ため、基板１と円筒形ブラシ２との擦動抵抗により円筒
形ブラシ２が基板１から受ける反力１７によって転角ア
ーム４が回転力を受けることがなく、従って上記擦動抵
抗により基板１と円筒形ブラシ２の接触抵抗が変化する
ことはない。
筒形ブラシ２との接触面と同一平面上に配置されている
ため、基板１と円筒形ブラシ２との擦動抵抗により円筒
形ブラシ２が基板１から受ける反力１７によって転角ア
ーム４が回転力を受けることがなく、従って上記擦動抵
抗により基板１と円筒形ブラシ２の接触抵抗が変化する
ことはない。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば基板と円筒形ブラシとの
擦動抵抗の影響を受けずに基板と円筒形ブラシとの間に
一定の接触面圧を与えることができるため、円筒形ブラ
シの材質や形状の違い，円筒形ブラシの回転速度の変
化，基板の搬送速度の変化などの影響を受けずに基板と
円筒形ブラシとの接触面圧を直接的に管理できる。
擦動抵抗の影響を受けずに基板と円筒形ブラシとの間に
一定の接触面圧を与えることができるため、円筒形ブラ
シの材質や形状の違い，円筒形ブラシの回転速度の変
化，基板の搬送速度の変化などの影響を受けずに基板と
円筒形ブラシとの接触面圧を直接的に管理できる。
【００１５】これにより安定した洗浄性能を得ることが
できる。また基板と円筒形ブラシとの接触面圧が過大に
なることに起因する、基板の搬送不良や破損を防ぐこと
ができる。
できる。また基板と円筒形ブラシとの接触面圧が過大に
なることに起因する、基板の搬送不良や破損を防ぐこと
ができる。
【図１】本発明の一実施例である洗浄装置の斜視図であ
る。
る。
【図２】従来例の洗浄装置の斜視図である。
【図３】本発明の一実施例である洗浄装置の側面図であ
る。
る。
【図４】従来例の洗浄装置の側面図である。
１…基板、２，３…円筒形ブラシ、４，５…転角アー
ム、６…バランスウェイト、７…シリンダ、８…搬送ロ
ーラ、９…シャフト、１０，１１…プーリ、１２…タイ
ミングベルト、１３…従動ギア、１５…駆動ギア、１６
…モータ、１７…基板から受ける反作用、１８…反作用
の転角方向成分、１９…ブラシ回転方向、２０…転角ア
ームの転角方向。
ム、６…バランスウェイト、７…シリンダ、８…搬送ロ
ーラ、９…シャフト、１０，１１…プーリ、１２…タイ
ミングベルト、１３…従動ギア、１５…駆動ギア、１６
…モータ、１７…基板から受ける反作用、１８…反作用
の転角方向成分、１９…ブラシ回転方向、２０…転角ア
ームの転角方向。
Claims (17)
- 【請求項１】円筒形ブラシにより基板の擦り洗浄をおこ
なう洗浄装置において、円筒形ブラシの両端を転角可能
なアームにより保持し、この転角可能なアームの転角軸
を円筒形ブラシと基板の接触面と同一平面上に配置した
ことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】円筒形ブラシの両端を支持する転角可能な
アームに取り付けられたエアシリンダにより、円筒形ブ
ラシと基板との間に一定の接触面圧を与えることを特徴
とする請求項１記載の洗浄装置。 - 【請求項３】円筒形ブラシやブラシ保持用の転角可能な
アームなどを含む転角可動部の重心が転角軸と一致する
ことを特徴とする請求項１又は２記載の洗浄装置。 - 【請求項４】円筒形ブラシの材質がポリビニールホルマ
ール系の材質であることを特徴とする請求項１，２又は
３記載の洗浄装置。 - 【請求項５】円筒形ブラシがナイロン系の材質を用いた
毛ブラシであることを特徴とする請求項１，２又は３記
載の洗浄装置。 - 【請求項６】円筒形ブラシに液体を供給して洗浄を行う
ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記
載の洗浄装置。 - 【請求項７】円筒形ブラシによる洗浄の前に基板に液体
を供給することを特徴とする請求項１ないし６のいずれ
か１項に記載の洗浄装置。 - 【請求項８】洗浄に用いる液体として水を用いることを
特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の洗
浄装置。 - 【請求項９】洗浄に用いる液体として洗剤を含む液体を
用いることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１
項に記載の洗浄装置。 - 【請求項１０】洗浄に用いる液体として薬品を含む液体
を用いることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか
１項に記載の洗浄装置。 - 【請求項１１】洗浄対象の基板がシリコンウェハである
ことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に
記載の洗浄装置。 - 【請求項１２】洗浄対象の基板がガラス基板であること
を特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載
の洗浄装置。 - 【請求項１３】洗浄対象のガラス基板が液晶表示素子用
ガラス基板であることを特徴とする請求項１ないし１２
のいずれか１項に記載の洗浄装置。 - 【請求項１４】洗浄対象の液晶表示素子用ガラス基板上
に膜が形成されていることを特徴とする請求項１ないし
１３のいずれか１項に記載の洗浄装置。 - 【請求項１５】洗浄対象の液晶表示素子用ガラス基板上
に形成した膜が有機物を含む材質で構成されていること
を特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１項に記載
の洗浄装置。 - 【請求項１６】洗浄対象の液晶表示素子用ガラス基板上
の有機物を含む材質の膜の上面に無機質の膜が形成され
ていることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか
１項に記載の洗浄装置。 - 【請求項１７】基板上に膜を形成する前に洗浄処理を行
うことを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項
に記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5048996A JPH06267917A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5048996A JPH06267917A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06267917A true JPH06267917A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=12818825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5048996A Pending JPH06267917A (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06267917A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190011109A (ko) * | 2017-07-24 | 2019-02-01 | 삼성전자주식회사 | 기판과 브러쉬 사이의 간격 조정 방법 및 이를 수행하기 위한 장치 |
| KR20200037479A (ko) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 미르텍알앤디 주식회사 | 포토마스크 양면 세정장치용 브러시장치 |
-
1993
- 1993-03-10 JP JP5048996A patent/JPH06267917A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190011109A (ko) * | 2017-07-24 | 2019-02-01 | 삼성전자주식회사 | 기판과 브러쉬 사이의 간격 조정 방법 및 이를 수행하기 위한 장치 |
| KR20200037479A (ko) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 미르텍알앤디 주식회사 | 포토마스크 양면 세정장치용 브러시장치 |
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