JPH06274813A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH06274813A
JPH06274813A JP6159093A JP6159093A JPH06274813A JP H06274813 A JPH06274813 A JP H06274813A JP 6159093 A JP6159093 A JP 6159093A JP 6159093 A JP6159093 A JP 6159093A JP H06274813 A JPH06274813 A JP H06274813A
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JP
Japan
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magnetic head
manufacturing
magnetic
head
ferrite
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JP6159093A
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English (en)
Inventor
Yasuto Tanaka
靖人 田中
Yoshitsugu Miura
義從 三浦
Kenkichi Inada
健吉 稲田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】機械加工によりコア材に誘発される加工ひずみ
及び変質層を取り除き、再生効率が良好で、かつばらつ
きの小さな磁気ヘッドの製造方法を提供すること。 【構成】磁気ヘッドの製造工程において、切削、切断、
研磨等の機械加工工程終了後、該機械加工面にイオンビ
ームエッチングを施す。 【効果】磁気ヘッドの製造工程における、ヘッドチップ
切断工程等の機械加工によって加工ひずみ及び汚染層が
誘発された、所謂加工変質層をイオンビームエッチング
法によって除去する。これにより、従来の磁気ヘッドの
製造方法をほとんど変更せずに、再生効率が良好で、か
つばらつきの小さな磁気ヘッドを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はVTR等の磁気ヘッドの
製造方法に係り、とくに再生効率の良好な磁気ヘッドの
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、VTR等に用いられている磁気ヘ
ッドには、主に単結晶フェライト等のバルク磁性材料が
用いられてきた。図11は特開昭56−68914に記
載されたフェライトヘッドを示したものである。図11
において、コア部片3、3’はMnZnフェライト等か
らなり、5に示す作動ギャップにSiO2 等のギャップ
材を介し、4、4’に示す充填ガラスによって接合され
ている。6は信号コイル巻線用の窓である。以下に、製
造工程を記す。
【0003】まず、図12に示すように、MnZnフェ
ライト等より、巻線用窓13を形成した所定形状のコア
ブロック11、11’を作り、それぞれのギャップ突合
せ面においてこのコアブロック11、11’の長手方向
に対して垂直方向にトラック幅tを規制する溝12を形
成し、該ギャップ突合せ面を鏡面研磨した後、この一対
のコアブロック11、11’をガラス融着により接合一
体化して、コアブロック14を得る。つぎに、図13中
一点鎖線で示す垂直面でコアブロック14を切断し、図
11のようなヘッドチップを得る。
【0004】以上の工程は磁気ヘッドの製造にごく一般
的に用いられている方法であり、他の磁気ヘッドの製造
工程も図4〜図8に示した製造方法と類似している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法では、
トラック幅を規制する溝を入れる工程、巻線窓用溝をい
れる工程、磁気ヘッドチップを切り出す工程、ギャップ
突合せ面の鏡面研磨工程等の機械加工を行う際に、コア
材に加工ひずみが誘発されることが多く、それに伴い逆
磁歪効果により磁気コアの透磁率が低下し、磁気ヘッド
の性能低下、及びそのばらつきが大きくなるという問題
があった。特にこの状況は磁歪定数の大きな単結晶フェ
ライトを用いた磁気ヘッドで顕著であり、深刻な問題と
なっていた。また、金属磁性材料により主磁路が構成さ
れる磁気ヘッドにおいても、該金属磁性材料に機械加工
による汚染に起因する変質層が生じ、これに伴う磁気ヘ
ッドの性能低下、及びそのばらつき幅の増大といった問
題があった。
【0006】本発明は、従来の製造方法をほとんど変更
せずに、加工変質層を取り除き、磁気コアの透磁率が高
い、引いては再生効率が良好で、かつばらつき幅の小さ
な磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明では、従来の製造
方法における機械加工にともなって生じる加工ひずみ、
及び加工面の汚染に注目し、その対策を講じたものであ
る。
【0008】すなわち本発明の磁気ヘッドの製造方法で
は、機械加工により加工ひずみ及び汚染層が誘発され
た、所謂加工変質層をイオンビームエッチング法により
除去する。
【0009】
【作用】機械加工により磁気コアに生じた加工変質層は
その加工面にイオンビームによるエッチングを施すこと
によって取り除かれ、磁気コアの透磁率の低下を防止で
きる。これにより、性能のばらつきが少なく、かつ再生
効率の良好な磁気ヘッドを得ることができる。本発明に
よる磁気ヘッドの製造方法によれば、従来の製造方法を
ほとんど変更せずに、性能のばらつきが少なく、かつ性
能が良好な磁気ヘッドを得ることができる。
【0010】
【実施例】以下に本発明を実施例によって説明する。
【0011】(第1の実施例)図2に、本発明を適用し
たフェライトヘッドを示す。図2においてコア部片3、
3’は単結晶フェライトからなり、5に示す作動ギャッ
プにSiO2 等のギャップ材を介し、4、4’に示す充
填ガラスによって接合されている。6は信号コイル巻線
用の窓である。図2に示すフェライトヘッドの上部a面
が磁気テープとの摺動面である。図2に示すように摺動
幅w1がリア側の幅w2よりも小さくなっており、これ
により磁気テープと磁気ヘッドの接触状態を向上させ、
かつ再生効率、チップ強度を確保している。
【0012】以下に、このフェライトヘッドの製造方法
を述べる。
【0013】(第1工程)図4に示すようにフェライト
からなるコア部片11を用意し、該コア部片11にダイ
サー加工等でトラック幅規制溝12を入れる。この溝を
形成する際、フロント11a側を適当な角度上方に傾
け、該フロント11a側からリア11b側に向かってト
ラック幅規制溝12が徐々に浅くなるように切削加工す
る。
【0014】(第2工程)図5に示すようにコア部片1
1に磁性媒体との摺動面となる面aに平行となる方向に
巻線窓用溝13を切削加工する。
【0015】(第3工程)第1工程によってできたコア
部片11と、第2工程によってできたコア部片11’の
作動ギャップ対向面を鏡面加工する。
【0016】(第4工程)第3工程によってできたコア
部片11及び11’を、図6に示すように上記作動ギャ
ップ対向面をSiO2 等のギャップ材を介して相対峙さ
せ、ガラス融着等により接合一体化させ、コア部片14
を得る。
【0017】(第5工程)図7に示すように、第3工程
によってできたコア部片14に、ギャップ突合せ面に垂
直となる方向にダイサー加工等で摺動幅狭小化用溝15
を所定の深さdだけ入れる。
【0018】(第6工程)第4工程によって得られたコ
ア部片14の磁性媒体との摺動面を円研した後にギャッ
プ突合せ面に垂直な面、すなわち図8中のghij面や
g'h’i’j’面に沿って切断し、ヘッドチップを得
る。
【0019】(第7工程)図2に示すフェライトヘッド
チップ2の側面bを上にして、図1のようにトレー1の
上に並べ、側面bに例えばArイオンビームによるエッ
チングを施す。つぎに、前記フェライトヘッドチップ2
のもう一方の側面bを上にして図1のようにトレー1の
上に並べ、側面cに例えばArイオンビームによるエッ
チングを施す。
【0020】以上の方法によれば、従来の磁気ヘッドの
製造方法をほとんど変更せずに、機械加工によりフェラ
イトに生じる加工ひずみを取り除くことができる。
【0021】このようにして得られたフェライトヘッド
について摺動面の円研を行ない所定のギャップ深さを
得、所定の巻き数だけ信号コイルを巻線して再生出力を
測定したところ、エッチング量と再生出力のばらつき幅
の関係は図10のようになった。エッチング量の増加と
共に再生出力は向上し、エッチング量:1μm以上で飽
和する。さらに、Arイオンビームによるエッチングを
施さない従来ヘッドの再生出力のばらつき幅が約3dB
程度であるのに対して、Arイオンビームによるエッチ
ングを施した本発明によりなるフェライトヘッドの同ば
らつき幅は約1dBであった。また、従来フェライトヘ
ッドにくらべ、本発明によるフェライトヘッドの再生出
力の平均値は、1.5dB程度高かった。
【0022】以上のように、本発明の製造方法を適用し
て製造したフェライトヘッドは従来の製造方法によって
得られるフェライトヘッドにくらべ、良好なものであっ
た。
【0023】(第2の実施例)図2に示すようなフェラ
イトヘッドの製造方法を第1の実施例において紹介し
た。この製造方法における第3工程によって出来上がっ
たコア部片11と11’を、それぞれe面とf面を上に
して図9に示すようにトレー1の上に並べ、コア部片1
1のe面及びコア部片11’のf面に例えばArイオン
ビームによるエッチングを施す。この後に、第1の実施
例で紹介した磁気ヘッドの製造方法における第4〜6工
程を行なう。以上の方法によれば、第1及び第2の実施
例と同様に、従来の磁気ヘッドの製造方法をほとんど変
更せずに、機械加工によりフェライトに生じる加工ひず
みを取り除くことができ、さらにコア部片11と11’
の付き合わせ面に生じる加工ひずみを取り除くことがで
きる。
【0024】この様にして得られたヘッドについても摺
動面の円研を行ない所定のギャップ深さを得、所定の巻
き数だけ信号コイルを巻線して再生出力の測定を行なっ
たところ、第1の実施例と同様に良好なヘッドを得るこ
とができた。
【0025】(第3の実施例)図3に、本発明を適用し
たフェライトと金属磁性膜の複合型ヘッドの外観斜視図
を示す。図3においてコア部片3、3’はフェライトか
らなり、5に示す作動ギャップにSiO2 等のギャップ
材を介し、4、4’に示す充填ガラスによって接合され
ている。6は信号コイル巻線用の窓である。7は例えば
CoNbZr等の金属磁性膜である。図3に示すような
フェライトと金属磁性膜との複合型ヘッドについても、
第2の実施例と同様にArイオンビームによるエッチン
グを施した。以上の方法によれば、従来の磁気ヘッドの
製造方法をほとんど変更せずに、機械加工によりフェラ
イトに生じる加工ひずみと、鏡面研磨工程によりギャッ
プ突き合わせ面の金属磁性材料に生じる汚染層を取り除
くことができる。
【0026】この様にして得られたヘッドについても摺
動面の円研を行ない所定のギャップ深さを得、所定の巻
き数だけ信号コイルを巻線して再生出力の測定を行なっ
たところ、第1及び第2の実施例と同様に良好なヘッド
を得ることができた。
【0027】(第4の実施例)本発明は、主磁路が金属
磁性材料により構成された磁気ヘッドにも適用できる。
すなわち、該磁気ヘッドの製造工程において、第2の実
施例と同様に、ギャップ突き合わせ面の鏡面研磨工程
後、該ギャップ突合せ面にArイオンビームによるエッ
チングを施す。これにより、金属磁性材料に生じる汚染
層を取り除くことができる。
【0028】この様にして得られたヘッドについても摺
動面の円研を行ない、所定のギャップ深さを得、所定の
巻き数だけ信号コイルを巻線して再生出力の測定を行な
ったところ、第1、第2、及び第3の実施例と同様に良
好なヘッドを得ることができた。
【0029】以上の第1、第2、第3、及び第4の実施
例においてはイオンビームとしてArイオンを使用した
が、Arイオンの代わりに例えばAr+O2 等を用いて
もよい。
【0030】また、本発明は、第1、第3、及び第4の
実施例に挙げたヘッドのほかに、各種のフェライトヘッ
ド、フェライトと金属磁性材料からなる各種の複合型ヘ
ッド、及び金属磁性材料を主磁路とする各種のヘッドの
製造方法にも適用できる。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、機
械加工により加工ひずみ及び汚染層が誘発された、所謂
加工変質層をイオンビームエッチング法により除去する
ので、性能のばらつきが少なく、かつ再生効率が良好な
磁気ヘッドを得ることができる。さらに本発明によれ
ば、従来の磁気ヘッドの製造方法をほとんど変更するこ
となしに良好な磁気ヘッドを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による磁気ヘッドの製造方法の第1の実
施例においてヘッドチップにイオンビームエッチングを
施す工程を示す外観斜視図である。
【図2】本発明を適用したフェライトヘッドを示す外観
斜視図である。
【図3】フェライトと金属磁性材料の複合型ヘッドの一
例を示す外観斜視図である。
【図4】本発明を適用したフェライトヘッドの製造方法
においてトラック幅規制溝をフェライト基板にいれる工
程を示す外観斜視図である。
【図5】巻線溝をいれる工程を示す外観斜視図である。
【図6】左右両コアを接合する工程を示す外観斜視図で
ある。
【図7】摺動幅を狭小化する工程を示す外観斜視図であ
る。
【図8】ヘッドチップ切断工程を示す外観斜視図であ
る。
【図9】本発明による磁気ヘッドの製造方法の第3の実
施例においてコアブロックにイオンビームエッチングを
施す工程を示す外観斜視図である。
【図10】本発明による磁気ヘッドの製造方法によるフ
ェライトヘッドのイオンビームエッチング量と再生出力
のばらつき幅の関係を示すグラフである。
【図11】従来のフェライトヘッドの一例を示す外観斜
視図である。
【図12】従来の磁気ヘッドの製造工程において、左右
両コアを接合する工程を示す外観斜視図である。
【図13】従来の磁気ヘッドの製造工程において、ヘッ
ドチップ切断工程を示す外観斜視図である。
【符号の説明】
1…トレー、2…ヘッドチップ、3、3’、11、1
1’、14…コア部片、5…作動ギャップ、6…コイル
巻線窓、7…金属磁性膜。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁性フェライトにより主磁路が構成される
    磁気ヘッドの製造方法において、該磁気ヘッドの製造工
    程が、切削、切断、研磨等の機械加工工程終了後、該機
    械加工面にイオンビームエッチングを施す工程を含むこ
    とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載の磁気ヘッドの製造方法にお
    いて、該機械加工がチップ切断工程であり、ヘッドチッ
    プ側面にイオンビームエッチングを施すことを特徴とす
    る磁気ヘッドの製造方法。
  3. 【請求項3】請求項1記載の磁気ヘッドの主磁路が磁性
    フェライトと金属磁性材料により構成されていることを
    特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  4. 【請求項4】請求項1記載の磁気ヘッドの主磁路が金属
    磁性材料により構成されていることを特徴とする磁気ヘ
    ッドの製造方法。
JP6159093A 1993-03-22 1993-03-22 磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH06274813A (ja)

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