JPH0628657A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH0628657A JPH0628657A JP20624492A JP20624492A JPH0628657A JP H0628657 A JPH0628657 A JP H0628657A JP 20624492 A JP20624492 A JP 20624492A JP 20624492 A JP20624492 A JP 20624492A JP H0628657 A JPH0628657 A JP H0628657A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- thickness
- alloy layer
- magnetic disk
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護膜の膜厚をより薄くしても耐食性の優れ
た磁気ディスクを提供する。 【構成】 非磁性基板上に、磁気記録層と、この磁気記
録層上に膜厚１０〜１００ÅのＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ
合金層と、このＣｒ−Ｃｏ合金層上に膜厚９０〜２００
Åの保護膜を備える。
た磁気ディスクを提供する。 【構成】 非磁性基板上に、磁気記録層と、この磁気記
録層上に膜厚１０〜１００ÅのＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ
合金層と、このＣｒ−Ｃｏ合金層上に膜厚９０〜２００
Åの保護膜を備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録層上に保護膜
を備えた磁気ディスクの改良に関する。
を備えた磁気ディスクの改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンタクト・スタート・アンド・ストッ
プ（ＣＳＳ）方式を採用しているハードディスクドライ
ブ装置に適用される磁気ディスクは、操作時に磁気ヘッ
ド面と接触するため、ディスク表面に摩耗や損傷が発生
し易い。また、この磁気ディスクは、適用される環境や
取扱い具合により腐食がおこり易い。
プ（ＣＳＳ）方式を採用しているハードディスクドライ
ブ装置に適用される磁気ディスクは、操作時に磁気ヘッ
ド面と接触するため、ディスク表面に摩耗や損傷が発生
し易い。また、この磁気ディスクは、適用される環境や
取扱い具合により腐食がおこり易い。
【０００３】そこで、従来、非磁性基板上に、強磁性金
属薄膜である磁気記録層と、この磁気記録層上に膜厚２
００〜４００Åの、カーボン膜，ＳｉＯ2 膜，ＳｉＮ
膜，ＺｒＯ2 膜などの保護膜を備えた磁気ディスクが知
られている。
属薄膜である磁気記録層と、この磁気記録層上に膜厚２
００〜４００Åの、カーボン膜，ＳｉＯ2 膜，ＳｉＮ
膜，ＺｒＯ2 膜などの保護膜を備えた磁気ディスクが知
られている。
【０００４】しかるに、このような磁気ディスクには、
高密度の記録を実現するため、磁気記録再生時に磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとの間隔、いわゆるヘッド浮上量を
可及的に小さくすることが要求されている。そこで、保
護膜の膜厚も更に薄くできることが望ましい。
高密度の記録を実現するため、磁気記録再生時に磁気デ
ィスクと磁気ヘッドとの間隔、いわゆるヘッド浮上量を
可及的に小さくすることが要求されている。そこで、保
護膜の膜厚も更に薄くできることが望ましい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記磁
気ディスクには、上記保護膜の膜厚を薄くしようとする
と、耐食性の低下が著しくなるという問題点があること
が判った。
気ディスクには、上記保護膜の膜厚を薄くしようとする
と、耐食性の低下が著しくなるという問題点があること
が判った。
【０００６】上記事情に鑑み、本発明の目的は、保護膜
の膜厚をより薄くしても耐食性の優れた磁気ディスクを
提供することにある。
の膜厚をより薄くしても耐食性の優れた磁気ディスクを
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するものとして、非磁性基板上に、磁気記録層と、こ
の磁気記録層上に膜厚１０〜１００ÅのＣｒ層またはＣ
ｒ−Ｃｏ合金層と、このＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ合金層
上に膜厚９０〜２００Åの保護膜を備えた磁気ディスク
である。
成するものとして、非磁性基板上に、磁気記録層と、こ
の磁気記録層上に膜厚１０〜１００ÅのＣｒ層またはＣ
ｒ−Ｃｏ合金層と、このＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ合金層
上に膜厚９０〜２００Åの保護膜を備えた磁気ディスク
である。
【０００８】
【作用】本発明において、非磁性基板の素材としては、
アルミニウムやその合金の如き非磁性金属、ガラス、樹
脂等の剛性を有する非磁性材料が用いられる。
アルミニウムやその合金の如き非磁性金属、ガラス、樹
脂等の剛性を有する非磁性材料が用いられる。
【０００９】このような素材からなる基板に対して、次
に、その全面に亘って硬度が高く、切削性の良好な硬化
層が形成される。この硬化層は、例えば、無電解メッキ
法により、Ｎｉ−Ｐ合金層やＮｉ−Ｃｕ−Ｐ合金層を設
けたり、アルミニウムやその合金を用いる場合、アルマ
イト処理を施したりして形成され得る。
に、その全面に亘って硬度が高く、切削性の良好な硬化
層が形成される。この硬化層は、例えば、無電解メッキ
法により、Ｎｉ−Ｐ合金層やＮｉ−Ｃｕ−Ｐ合金層を設
けたり、アルミニウムやその合金を用いる場合、アルマ
イト処理を施したりして形成され得る。
【００１０】更に、硬化層が設けられた基板には、その
表面を平面化する研磨加工、例えば、ラップ加工やポリ
ッシュ加工が施される。この平面化研磨加工により、基
板表面が平坦な鏡面とされる。
表面を平面化する研磨加工、例えば、ラップ加工やポリ
ッシュ加工が施される。この平面化研磨加工により、基
板表面が平坦な鏡面とされる。
【００１１】そして、この平面化研磨加工の施された基
板に対して、その表面の粗面化がテクスチャ加工によっ
て行なわれる。
板に対して、その表面の粗面化がテクスチャ加工によっ
て行なわれる。
【００１２】この後、この基板には、磁気記録層の磁気
特性を調整する等のため、ＣｒまたはＣｒ合金からなる
下地層を成膜する。
特性を調整する等のため、ＣｒまたはＣｒ合金からなる
下地層を成膜する。
【００１３】成膜された下地層の上には、所定の強磁性
金属薄膜からなる磁気記録層が形成される。この磁気記
録層としては、例えば、Ｃｏ系，Ｃｏ−Ｎｉ系，Ｃｏ−
Ｐｔ系，Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系，Ｆｅ系がある。
金属薄膜からなる磁気記録層が形成される。この磁気記
録層としては、例えば、Ｃｏ系，Ｃｏ−Ｎｉ系，Ｃｏ−
Ｐｔ系，Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系，Ｆｅ系がある。
【００１４】本発明において、この磁気記録層の上に膜
厚１０〜１００ÅのＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ合金層が形
成されることが重要である。この層は、磁気記録層に対
して緻密な不動態膜となって、磁気ディスク表面に生じ
る食孔を抑え耐食性を向上させるものと考えられる。こ
の膜厚が１０Å未満では、上記作用が充分に発揮され
ず、一方、１００Åを超えると前記磁気ディスクと磁気
ヘッドとの間隔、いわゆるヘッド浮上量を可及的に小さ
くするという要求が満足されなくなる。Ｃｒ−Ｃｏ合金
層のＣｒ含有量は１５原子％以上が好ましい。
厚１０〜１００ÅのＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ合金層が形
成されることが重要である。この層は、磁気記録層に対
して緻密な不動態膜となって、磁気ディスク表面に生じ
る食孔を抑え耐食性を向上させるものと考えられる。こ
の膜厚が１０Å未満では、上記作用が充分に発揮され
ず、一方、１００Åを超えると前記磁気ディスクと磁気
ヘッドとの間隔、いわゆるヘッド浮上量を可及的に小さ
くするという要求が満足されなくなる。Ｃｒ−Ｃｏ合金
層のＣｒ含有量は１５原子％以上が好ましい。
【００１５】このＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ合金層の上に
は、カーボン膜，ＳｉＯ2 膜，ＳｉＮ膜，ＺｒＯ2 膜な
どの保護膜が形成される。本発明においては、この際、
その膜厚を９０〜２００Åとすることも重要である。こ
の膜厚が９０Å未満では、得られる磁気ディスクの耐摩
耗性が低下し、一方、２００Åを超えると前記ヘッド浮
上量に対する要求が満足されなくなる。
は、カーボン膜，ＳｉＯ2 膜，ＳｉＮ膜，ＺｒＯ2 膜な
どの保護膜が形成される。本発明においては、この際、
その膜厚を９０〜２００Åとすることも重要である。こ
の膜厚が９０Å未満では、得られる磁気ディスクの耐摩
耗性が低下し、一方、２００Åを超えると前記ヘッド浮
上量に対する要求が満足されなくなる。
【００１６】このように、磁気記録層の上にＣｒ層また
はＣｒ−Ｃｏ合金層が形成されることにより、耐食性が
向上されると共に、その上に上記保護膜が形成されて耐
摩耗性を低下させることなく前記ヘッド浮上量に対する
要求をも満足させた磁気ディスクを提供することができ
る。
はＣｒ−Ｃｏ合金層が形成されることにより、耐食性が
向上されると共に、その上に上記保護膜が形成されて耐
摩耗性を低下させることなく前記ヘッド浮上量に対する
要求をも満足させた磁気ディスクを提供することができ
る。
【００１７】上記保護膜の上に、更に、パーフロロアル
キルポリエーテルのような潤滑層が形成され、以て目的
とする磁気ディスクとされる。
キルポリエーテルのような潤滑層が形成され、以て目的
とする磁気ディスクとされる。
【００１８】
実施例１ 外径１３０ｍｍ，内径４０ｍｍ，厚さ１．９ｍｍのアル
ミニウムの基板上に無電解メッキ法によりＮｉ−Ｐ合金
層を１５μｍ程度形成した後、ポリッシュ加工により表
面粗さＲａが５ｎｍ程度の鏡面とした。
ミニウムの基板上に無電解メッキ法によりＮｉ−Ｐ合金
層を１５μｍ程度形成した後、ポリッシュ加工により表
面粗さＲａが５ｎｍ程度の鏡面とした。
【００１９】この基板に対して次のようなテクスチャ加
工を行なった。即ち、基板を１００〜５００ｒｐｍで回
転させながら、ポリエチレンベースフィルム上に平均粒
径６μｍのアルミナ砥粒を結着させた研磨テープを基板
表面に押し付けた。
工を行なった。即ち、基板を１００〜５００ｒｐｍで回
転させながら、ポリエチレンベースフィルム上に平均粒
径６μｍのアルミナ砥粒を結着させた研磨テープを基板
表面に押し付けた。
【００２０】次に、下地層としてＣｒをＤＣマグネトロ
ンスパッタリング法により５００Åの厚さに成膜した。
この際、基板温度を３００℃，Ａｒガス圧を１０ｍＴｏ
ｒｒ，ＤＣ投入電力を５Ｗ／ｃｍ2 とした。
ンスパッタリング法により５００Åの厚さに成膜した。
この際、基板温度を３００℃，Ａｒガス圧を１０ｍＴｏ
ｒｒ，ＤＣ投入電力を５Ｗ／ｃｍ2 とした。
【００２１】更に、この下地層の上に、基板のスパッタ
リングチャンバーの電位に対する電位を−１５０Ｖとし
てＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系磁気記録層を３００Å成膜した。
リングチャンバーの電位に対する電位を−１５０Ｖとし
てＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系磁気記録層を３００Å成膜した。
【００２２】この後、磁気記録層の上に、Ｃｒ−Ｃｏ合
金層（Ｃｒ含有率２５原子％）を２０Åの厚さに成膜し
た。この際、Ａｒガス圧を１０ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入電
力を３Ｗ／ｃｍ2 、成膜時間を２秒とした。
金層（Ｃｒ含有率２５原子％）を２０Åの厚さに成膜し
た。この際、Ａｒガス圧を１０ｍＴｏｒｒ，ＤＣ投入電
力を３Ｗ／ｃｍ2 、成膜時間を２秒とした。
【００２３】そして、このＣｒ−Ｃｏ合金層の上に、該
層と同一条件でカーボン保護層を１００Å、スピンコー
ト法でパーフロロアルキルポリエーテル潤滑膜を順次形
成した。
層と同一条件でカーボン保護層を１００Å、スピンコー
ト法でパーフロロアルキルポリエーテル潤滑膜を順次形
成した。
【００２４】このようにして得た磁気ディスクについ
て、再生出力測定と耐食性試験を行なった。再生出力測
定は、最短記録ビット長で記録した時の再生出力を測定
し、また、耐食性試験は、磁気ディスクを温度８５℃、
湿度８０％ＲＨの結露なき環境下で１０００時間放置し
た後、全面にわたり次の条件で信号エラー検査を行な
い、エラー数を測定し、上記腐食環境下に放置しなかっ
た磁気ディスクの、同様に測定したエラー数と比較し
た。即ち、（１）評価領域：２５．０〜４５．４ｍｍ，
（２）テストピッチ：１０μｍ，（３）記録周波数：
６．７５ＭＨｚ，（４）カットオフ周波数：２０．３Ｍ
Ｈｚ，（５）電流切替え半径：３２．４ｍｍ，（６）記
録電流（内／外周）：１５／１８ｍＡとした。
て、再生出力測定と耐食性試験を行なった。再生出力測
定は、最短記録ビット長で記録した時の再生出力を測定
し、また、耐食性試験は、磁気ディスクを温度８５℃、
湿度８０％ＲＨの結露なき環境下で１０００時間放置し
た後、全面にわたり次の条件で信号エラー検査を行な
い、エラー数を測定し、上記腐食環境下に放置しなかっ
た磁気ディスクの、同様に測定したエラー数と比較し
た。即ち、（１）評価領域：２５．０〜４５．４ｍｍ，
（２）テストピッチ：１０μｍ，（３）記録周波数：
６．７５ＭＨｚ，（４）カットオフ周波数：２０．３Ｍ
Ｈｚ，（５）電流切替え半径：３２．４ｍｍ，（６）記
録電流（内／外周）：１５／１８ｍＡとした。
【００２５】実施例２〜６、比較例１〜４ Ｃｒ−Ｃｏ合金層を、ＤＣ投入電力および成膜時間を表
１のようにして、成膜し、そのＣｒ含有率および膜厚を
表１のようにした以外は、実施例１と同様に試験した。
１のようにして、成膜し、そのＣｒ含有率および膜厚を
表１のようにした以外は、実施例１と同様に試験した。
【００２６】従来例１，２ 磁気記録層の上に、Ｃｒ−Ｃｏ合金層を設けず、直接カ
ーボン保護層を２３０Åおよび３５０Å形成した以外
は、実施例１と同様に試験した。
ーボン保護層を２３０Åおよび３５０Å形成した以外
は、実施例１と同様に試験した。
【００２７】以上により得られた結果を表１に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】以上から明らかなように、従来例はＣｒ層
またはＣｒ−Ｃｏ合金層を設けず、直接カーボン保護層
を設けたので、耐食性が充分でない。一方、実施例はい
ずれも、従来例のカーボン保護層の膜厚よりＣｒ層また
はＣｒ−Ｃｏ合金層とカーボン保護層との膜厚（和）が
薄いにもかかわらず、耐食性が大幅に向上している上
に、膜厚（和）に対する再生出力の変動は従来例と同様
である。また、比較例は、Ｃｒ−Ｃｏ合金層の膜厚が薄
すぎると耐食性が充分でなく、一方、厚すぎると再生出
力が充分でなくなる。
またはＣｒ−Ｃｏ合金層を設けず、直接カーボン保護層
を設けたので、耐食性が充分でない。一方、実施例はい
ずれも、従来例のカーボン保護層の膜厚よりＣｒ層また
はＣｒ−Ｃｏ合金層とカーボン保護層との膜厚（和）が
薄いにもかかわらず、耐食性が大幅に向上している上
に、膜厚（和）に対する再生出力の変動は従来例と同様
である。また、比較例は、Ｃｒ−Ｃｏ合金層の膜厚が薄
すぎると耐食性が充分でなく、一方、厚すぎると再生出
力が充分でなくなる。
【００３０】
【発明の効果】以上から明らかなように、本発明によれ
ば、保護膜の膜厚をより薄くしても、電磁変換特性は良
好に維持しつつ耐食性が大幅に向上した磁気ディスクを
提供することができる。
ば、保護膜の膜厚をより薄くしても、電磁変換特性は良
好に維持しつつ耐食性が大幅に向上した磁気ディスクを
提供することができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 非磁性基板上に、磁気記録層と、この磁
気記録層上に膜厚１０〜１００ÅのＣｒ層またはＣｒ−
Ｃｏ合金層と、このＣｒ層またはＣｒ−Ｃｏ合金層上に
膜厚９０〜２００Åの保護膜を備えた磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20624492A JPH0628657A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20624492A JPH0628657A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0628657A true JPH0628657A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16520130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20624492A Pending JPH0628657A (ja) | 1992-07-10 | 1992-07-10 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0628657A (ja) |
-
1992
- 1992-07-10 JP JP20624492A patent/JPH0628657A/ja active Pending
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