JPH06290451A - 磁気ディスク用基板およびその製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用基板およびその製造方法Info
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- JPH06290451A JPH06290451A JP4119342A JP11934292A JPH06290451A JP H06290451 A JPH06290451 A JP H06290451A JP 4119342 A JP4119342 A JP 4119342A JP 11934292 A JP11934292 A JP 11934292A JP H06290451 A JPH06290451 A JP H06290451A
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- glass
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- magnetic disk
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下地基板２としてドーナツ板形状の結晶性の
セラミックス焼結体材料、あるいは結晶化ガラス、ある
いは結晶性のセラミックスとガラスの複合焼結体材料の
いずれかを用い、この下地基板２の両方の表面にガラス
材料の膜を被覆してガラス層３，４を形成し、さらにそ
の両方のガラス層３，４の表面に光トラッキングサーボ
のパターン形状の金属薄膜の光反射膜５，６を形成し、
さらにこの光反射膜５，６の上に光透過性のガラス材料
の薄膜を形成し、この光透過性のガラス層７，８の表面
を平滑に成形したもの。 【効果】 この基板表面に光透過性の磁気記録媒体薄膜
を形成して作られる磁気ディスクは、磁気ヘッドの低浮
上走行と光トラッキングサーボによる高精度トラッキン
グが同時にでき、磁気ディスク一枚あたりの記録密度を
大幅向上できる。
セラミックス焼結体材料、あるいは結晶化ガラス、ある
いは結晶性のセラミックスとガラスの複合焼結体材料の
いずれかを用い、この下地基板２の両方の表面にガラス
材料の膜を被覆してガラス層３，４を形成し、さらにそ
の両方のガラス層３，４の表面に光トラッキングサーボ
のパターン形状の金属薄膜の光反射膜５，６を形成し、
さらにこの光反射膜５，６の上に光透過性のガラス材料
の薄膜を形成し、この光透過性のガラス層７，８の表面
を平滑に成形したもの。 【効果】 この基板表面に光透過性の磁気記録媒体薄膜
を形成して作られる磁気ディスクは、磁気ヘッドの低浮
上走行と光トラッキングサーボによる高精度トラッキン
グが同時にでき、磁気ディスク一枚あたりの記録密度を
大幅向上できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ、ワーク
ステーション、パソコンなどに使用する固定磁気ディス
ク装置に用いる磁気ディスクを構成する基板およびその
製造方法に関するもので、特にトラック密度を大幅に向
上させうる光トラッキングサーボ技術を採用した高記録
密度対応の固定磁気ディスク装置に用いる磁気ディスク
を構成する基板およびその製造方法に関する。
ステーション、パソコンなどに使用する固定磁気ディス
ク装置に用いる磁気ディスクを構成する基板およびその
製造方法に関するもので、特にトラック密度を大幅に向
上させうる光トラッキングサーボ技術を採用した高記録
密度対応の固定磁気ディスク装置に用いる磁気ディスク
を構成する基板およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】固定磁気ディスク装置は、近年、小型化
と高密度化が要求されてきている。小型化と同時に高密
度化を計るには磁気ディスク一枚あたりの記録密度を大
幅に大きくする必要がある。
と高密度化が要求されてきている。小型化と同時に高密
度化を計るには磁気ディスク一枚あたりの記録密度を大
幅に大きくする必要がある。
【０００３】磁気ディスクにおいて、記録密度を向上さ
せるには、円周方向の線記録密度の向上と磁気ディスク
の直径方向のトラック密度の向上が必要である。線記録
密度の向上には、磁気ヘッドの能力の向上や磁気ディス
クの記録媒体材料の磁気特性の向上もさることながら、
磁気ヘッドの走行時の浮上量の低減が不可欠である。そ
のためには、ディスク基板として、表面の平滑さが強く
要求される。ディスク基板は、一般にドーナツ形状の板
材を研磨加工して製造される。従来から使われてきたア
ルミ基板は、アルミニウム材料の加工精度の面で、磁気
ヘッドの浮上量の低減に対応できる平滑さを得ることが
困難になってきており、ディスク基板として、アルミニ
ウムよりも平滑面に加工しやすい材料であるガラスが用
いられるようになってきている。現在使用されているガ
ラス製の磁気ディスク用基板は、平面度５μｍ以下で、
面粗さＲa が５ｎｍ以下の精度で作られている。
せるには、円周方向の線記録密度の向上と磁気ディスク
の直径方向のトラック密度の向上が必要である。線記録
密度の向上には、磁気ヘッドの能力の向上や磁気ディス
クの記録媒体材料の磁気特性の向上もさることながら、
磁気ヘッドの走行時の浮上量の低減が不可欠である。そ
のためには、ディスク基板として、表面の平滑さが強く
要求される。ディスク基板は、一般にドーナツ形状の板
材を研磨加工して製造される。従来から使われてきたア
ルミ基板は、アルミニウム材料の加工精度の面で、磁気
ヘッドの浮上量の低減に対応できる平滑さを得ることが
困難になってきており、ディスク基板として、アルミニ
ウムよりも平滑面に加工しやすい材料であるガラスが用
いられるようになってきている。現在使用されているガ
ラス製の磁気ディスク用基板は、平面度５μｍ以下で、
面粗さＲa が５ｎｍ以下の精度で作られている。
【０００４】トラック密度の向上には、磁気ヘッドの位
置決め精度に大きく依存する。固定磁気ディスク装置は
磁気ディスクが固定されているので高精度の位置決めが
可能であるが、１０００ＴＰＩ以上のトラック密度を実
現するためにはトラッキングサーボ制御が必要になる。
トラッキングサーボには、データ記録面にサーボ情報を
埋め込むデータ面サーボと、サーボ情報専用に一枚の記
録面全面を割り当てるサーボ面サーボがある。近年の固
定磁気ディスク装置の小型化、薄型化の要求により、装
置あたりの磁気ディスクの枚数が制限される傾向にあ
り、データ面サーボが主流になってきている。データ面
サーボでは、記録面の一部分をサーボ情報に割り当てる
ので、その分、データ情報の記録容量が少なくなる。記
録面にできるだけ多くのデータ情報を詰め込むにはこの
方法は好ましくない。また、トラック密度を大幅に向上
させるには、トラック幅を大幅に狭くする必要があり、
それにしたがって、トラッキングに必要な精度がこの方
法では得られ難くなってきた。
置決め精度に大きく依存する。固定磁気ディスク装置は
磁気ディスクが固定されているので高精度の位置決めが
可能であるが、１０００ＴＰＩ以上のトラック密度を実
現するためにはトラッキングサーボ制御が必要になる。
トラッキングサーボには、データ記録面にサーボ情報を
埋め込むデータ面サーボと、サーボ情報専用に一枚の記
録面全面を割り当てるサーボ面サーボがある。近年の固
定磁気ディスク装置の小型化、薄型化の要求により、装
置あたりの磁気ディスクの枚数が制限される傾向にあ
り、データ面サーボが主流になってきている。データ面
サーボでは、記録面の一部分をサーボ情報に割り当てる
ので、その分、データ情報の記録容量が少なくなる。記
録面にできるだけ多くのデータ情報を詰め込むにはこの
方法は好ましくない。また、トラック密度を大幅に向上
させるには、トラック幅を大幅に狭くする必要があり、
それにしたがって、トラッキングに必要な精度がこの方
法では得られ難くなってきた。
【０００５】高精度なトラッキングサーボを行う方法と
して、現在、光磁気記録方式に使われているサーボ方法
がある。この方法は、あらかじめ、ディスク基板にトラ
ックの情報の入った凹凸による案内溝（グルーブ）が形
成されており、その案内溝を光ヘッドのレーザービーム
で検出してトラック情報を得ることによりトラッキング
サーボを行う方法である。
して、現在、光磁気記録方式に使われているサーボ方法
がある。この方法は、あらかじめ、ディスク基板にトラ
ックの情報の入った凹凸による案内溝（グルーブ）が形
成されており、その案内溝を光ヘッドのレーザービーム
で検出してトラック情報を得ることによりトラッキング
サーボを行う方法である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】固定磁気ディスクにも
同じ手法を応用して案内溝付きのディスク基板を用いて
磁気ディスクを作製し、光トラッキングサーボを行え
ば、記録面はデータ情報だけを詰め込むことができ、記
録容量を大きくできると考えられる。しかしながら、記
録面上を磁気ヘッドが安定に浮上走行するためには平滑
な記録面が要求される。つまり、光トラッキングサーボ
を行う磁気ディスクには、磁気記録媒体材料が光透過性
であることと、磁気ヘッドの走行面すなわち磁気ディス
クの表面がヘッドクラッシュの原因になるような凹凸を
持たないことが不可欠である。
同じ手法を応用して案内溝付きのディスク基板を用いて
磁気ディスクを作製し、光トラッキングサーボを行え
ば、記録面はデータ情報だけを詰め込むことができ、記
録容量を大きくできると考えられる。しかしながら、記
録面上を磁気ヘッドが安定に浮上走行するためには平滑
な記録面が要求される。つまり、光トラッキングサーボ
を行う磁気ディスクには、磁気記録媒体材料が光透過性
であることと、磁気ヘッドの走行面すなわち磁気ディス
クの表面がヘッドクラッシュの原因になるような凹凸を
持たないことが不可欠である。
【０００７】酸化物磁性材料、たとえばガンマ酸化鉄薄
膜は、金属薄膜磁気記録媒体材料として一般的に使われ
ているＣｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜と異なり、光透過性で
あるので、磁気記録媒体材料として用いれば光トラッキ
ングサーボを行う磁気ディスクが作れる。しかしなが
ら、表面に凹凸無しに光トラッキングサーボ用の案内溝
を形成したディスク基板は無かったので、このようなデ
ィスク基板を用いて、磁気ヘッドを低浮上走行させるこ
とが困難であるという問題があった。
膜は、金属薄膜磁気記録媒体材料として一般的に使われ
ているＣｏ−Ｎｉ／Ｃｒ合金薄膜と異なり、光透過性で
あるので、磁気記録媒体材料として用いれば光トラッキ
ングサーボを行う磁気ディスクが作れる。しかしなが
ら、表面に凹凸無しに光トラッキングサーボ用の案内溝
を形成したディスク基板は無かったので、このようなデ
ィスク基板を用いて、磁気ヘッドを低浮上走行させるこ
とが困難であるという問題があった。
【０００８】本発明はこのような問題を解決するもので
あり、光トラッキングサーボによるトラック位置検出を
可能にする固定磁気ディスクのディスク基板およびその
製造方法を提供することを目的とする。
あり、光トラッキングサーボによるトラック位置検出を
可能にする固定磁気ディスクのディスク基板およびその
製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明の磁気ディスク用基板は、基板の芯である下地
基板にドーナツ板形状の結晶性のセラミックス焼結体材
料、あるいは結晶化ガラス、あるいは結晶性のセラミッ
クスとガラスの複合焼結体材料のいずれかを用い、その
両方の表面にガラス材料の膜を被覆し、さらにその両方
のガラス材料の膜の表面に光トラッキングサーボのパタ
ーン形状の金属薄膜の光反射膜を形成し、さらにその上
に光透過性のガラス材料の薄膜を形成し、その表面を平
滑に成形したものである。
に本発明の磁気ディスク用基板は、基板の芯である下地
基板にドーナツ板形状の結晶性のセラミックス焼結体材
料、あるいは結晶化ガラス、あるいは結晶性のセラミッ
クスとガラスの複合焼結体材料のいずれかを用い、その
両方の表面にガラス材料の膜を被覆し、さらにその両方
のガラス材料の膜の表面に光トラッキングサーボのパタ
ーン形状の金属薄膜の光反射膜を形成し、さらにその上
に光透過性のガラス材料の薄膜を形成し、その表面を平
滑に成形したものである。
【００１０】また、本発明の磁気ディスク用基板の製造
方法は、ドーナツ板形状の結晶性のセラミックス焼結体
材料、あるいは結晶化ガラス、あるいは結晶性のセラミ
ックスとガラスの複合焼結体材料のいずれかの下地基板
の両表面に印刷法によりガラスペーストを塗布した後、
加熱溶融してガラス膜を形成し、次に、ガラス膜を形成
した下地基板全体を加熱した状態で、その表面を、平滑
に表面加工した型でプレス成形し、さらにこのプレス成
形した表面に真空法で金属薄膜の反射膜を形成し、続い
てフォトリソグラフィー技術とエッチング技術で前記金
属薄膜の反射膜を光トラッキングのパターンに形成し、
さらにその上に印刷法によりガラスペーストを塗布した
後、加熱溶融してガラス膜とし、再びガラス膜を溶融し
た基板全体を加熱した状態でその表面を、平滑に表面加
工した型でプレス成形することにより磁気ディスク用基
板を製造するものである。
方法は、ドーナツ板形状の結晶性のセラミックス焼結体
材料、あるいは結晶化ガラス、あるいは結晶性のセラミ
ックスとガラスの複合焼結体材料のいずれかの下地基板
の両表面に印刷法によりガラスペーストを塗布した後、
加熱溶融してガラス膜を形成し、次に、ガラス膜を形成
した下地基板全体を加熱した状態で、その表面を、平滑
に表面加工した型でプレス成形し、さらにこのプレス成
形した表面に真空法で金属薄膜の反射膜を形成し、続い
てフォトリソグラフィー技術とエッチング技術で前記金
属薄膜の反射膜を光トラッキングのパターンに形成し、
さらにその上に印刷法によりガラスペーストを塗布した
後、加熱溶融してガラス膜とし、再びガラス膜を溶融し
た基板全体を加熱した状態でその表面を、平滑に表面加
工した型でプレス成形することにより磁気ディスク用基
板を製造するものである。
【００１１】
【作用】上記構成により、表面に凹凸無しに光トラッキ
ングサーボ用情報信号を基板内部に埋め込んだ磁気ディ
スク用基板になっているため、ディスク基板記録面はデ
ータ情報だけを詰め込むことができ、記録容量を大きく
できる。また、基板表面が平滑面であるので、記録面上
を磁気ヘッドが安定に浮上走行することができる。ま
た、本発明の製造方法を用いることによって、上記の磁
気ディスク用基板が容易に作れることになる。
ングサーボ用情報信号を基板内部に埋め込んだ磁気ディ
スク用基板になっているため、ディスク基板記録面はデ
ータ情報だけを詰め込むことができ、記録容量を大きく
できる。また、基板表面が平滑面であるので、記録面上
を磁気ヘッドが安定に浮上走行することができる。ま
た、本発明の製造方法を用いることによって、上記の磁
気ディスク用基板が容易に作れることになる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図１は本発明の実施例の磁気ディスク用基板を
示す概略断面図であり、図２は同磁気ディスク用基板の
概略斜視図である。
明する。図１は本発明の実施例の磁気ディスク用基板を
示す概略断面図であり、図２は同磁気ディスク用基板の
概略斜視図である。
【００１３】図１における２は磁気ディスク用基板１
（図２参照）の下地基板で、この下地基板２はドーナツ
板形状のアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）の焼結体で形成されて
おり、大きさが、内径２０．０ｍｍで外径６８．０ｍｍ
であり、板厚が０．９０ｍｍである。この下地基板２の
両面には厚み５０μｍのガラス層３、４がそれぞれ配設
されている。そして、これらのガラス層３、４の表面に
光トラッキングサーボのパターン形状の金の光反射膜
５、６がそれぞれ形成されている。さらに、これらのパ
ターン形状の光反射膜５、６を埋め込むように、ガラス
層３、４の表面上に、厚み２μｍの光透過性のガラス層
７、８がそれぞれ形成されており、これらのガラス層
７、８の表面が平滑に加工されて、磁気ディスク用基板
１として構成されている。
（図２参照）の下地基板で、この下地基板２はドーナツ
板形状のアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）の焼結体で形成されて
おり、大きさが、内径２０．０ｍｍで外径６８．０ｍｍ
であり、板厚が０．９０ｍｍである。この下地基板２の
両面には厚み５０μｍのガラス層３、４がそれぞれ配設
されている。そして、これらのガラス層３、４の表面に
光トラッキングサーボのパターン形状の金の光反射膜
５、６がそれぞれ形成されている。さらに、これらのパ
ターン形状の光反射膜５、６を埋め込むように、ガラス
層３、４の表面上に、厚み２μｍの光透過性のガラス層
７、８がそれぞれ形成されており、これらのガラス層
７、８の表面が平滑に加工されて、磁気ディスク用基板
１として構成されている。
【００１４】このように構成された磁気ディスク用基板
１の製造方法について、以下に詳しく説明する。平面度
が１８μｍで、面荒さＲmax が１１００ｎｍのドーナツ
板形状のアルミナの焼結体である下地基板２を準備し、
その下地基板２の両表面に、印刷法により、Ｎａ2 Ｏ−
ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系のガラスペーストを塗布
した後、空気中で７５０℃で加熱溶融してガラス膜とし
た。
１の製造方法について、以下に詳しく説明する。平面度
が１８μｍで、面荒さＲmax が１１００ｎｍのドーナツ
板形状のアルミナの焼結体である下地基板２を準備し、
その下地基板２の両表面に、印刷法により、Ｎａ2 Ｏ−
ＺｎＯ−Ｂ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 系のガラスペーストを塗布
した後、空気中で７５０℃で加熱溶融してガラス膜とし
た。
【００１５】このようにして作製した両面にガラス層を
もつアルミナ基板を０．１Ｐａの減圧中で７２０℃に加
熱した状態で、平滑に表面加工したプレス型を用いて、
その両表面を、２ｋｇ・ｃｍ-2の圧力でプレス成形する
ことで、それぞれのガラス層３、４の表面を平滑に加工
した。このプレス成形に用いた上下一対の型は、それぞ
れ、ともに、直径６８．１５ｍｍで厚さ２０ｍｍの円板
形状であり、プレス面が白金系合金の薄膜で被覆され、
さらにその表面が鏡面加工されたタングステンカーバイ
ト製の型であった。プレス面の鏡面の精度は、平面度
２．０μｍで、面粗さＲa が３ｎｍであった。
もつアルミナ基板を０．１Ｐａの減圧中で７２０℃に加
熱した状態で、平滑に表面加工したプレス型を用いて、
その両表面を、２ｋｇ・ｃｍ-2の圧力でプレス成形する
ことで、それぞれのガラス層３、４の表面を平滑に加工
した。このプレス成形に用いた上下一対の型は、それぞ
れ、ともに、直径６８．１５ｍｍで厚さ２０ｍｍの円板
形状であり、プレス面が白金系合金の薄膜で被覆され、
さらにその表面が鏡面加工されたタングステンカーバイ
ト製の型であった。プレス面の鏡面の精度は、平面度
２．０μｍで、面粗さＲa が３ｎｍであった。
【００１６】さらにガラス層３、４の表面にスパッタ法
で金の薄膜の光反射膜５、６を形成し、続いてフォトリ
ソグラフィー法と化学エッチング法を用いて、幅５．２
μｍ、かつトラックピッチ６μｍで中心部から外径方向
に螺旋状の光トラッキングのパターンを加工した。
で金の薄膜の光反射膜５、６を形成し、続いてフォトリ
ソグラフィー法と化学エッチング法を用いて、幅５．２
μｍ、かつトラックピッチ６μｍで中心部から外径方向
に螺旋状の光トラッキングのパターンを加工した。
【００１７】さらに、このようにして両表面に光トラッ
キングパターンを形成した磁気ディスク用基板の両表面
に、上述と同様にして、印刷法により、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 系のガラスペーストを塗布したのち、空気
中で６００℃で加熱溶融してガラス膜とした。このよう
にして作製した両面にガラス層をもつ基板を０．１Ｐａ
の減圧中で５６０℃に加熱した状態で、上述の型と同様
の平滑に表面加工した型を用いて、その両表面を、２ｋ
ｇ・ｃｍ-2の圧力でプレス成形することで、それぞれの
ガラス層７、８の表面を平滑に加工して、磁気ディスク
用基板１を製造した。
キングパターンを形成した磁気ディスク用基板の両表面
に、上述と同様にして、印刷法により、ＰｂＯ−Ｂ2 Ｏ
3 −ＳｉＯ2 系のガラスペーストを塗布したのち、空気
中で６００℃で加熱溶融してガラス膜とした。このよう
にして作製した両面にガラス層をもつ基板を０．１Ｐａ
の減圧中で５６０℃に加熱した状態で、上述の型と同様
の平滑に表面加工した型を用いて、その両表面を、２ｋ
ｇ・ｃｍ-2の圧力でプレス成形することで、それぞれの
ガラス層７、８の表面を平滑に加工して、磁気ディスク
用基板１を製造した。
【００１８】このようにして得られた磁気ディスク用基
板１の表面の形状精度を測定した。その結果は、平面度
が２．０μｍで、面粗さＲa が３ｎｍであリ、プレス成
形に用いた型の表面が良好に転写されていることがわか
った。これらの平面度および面荒さＲmax の値は、現在
用いられている磁気ディスク用ガラス基板の表面加工精
度より優っていた。
板１の表面の形状精度を測定した。その結果は、平面度
が２．０μｍで、面粗さＲa が３ｎｍであリ、プレス成
形に用いた型の表面が良好に転写されていることがわか
った。これらの平面度および面荒さＲmax の値は、現在
用いられている磁気ディスク用ガラス基板の表面加工精
度より優っていた。
【００１９】また、この磁気ディスク用基板１の光トラ
ッキングについても評価した。評価には、市販の光記録
装置を改造して用いた。光ヘッドのレーザー光の波長は
８３０ｎｍであった。評価の結果、この磁気ディスク用
基板１は光トラキングサーボが良好に行える基板になっ
ていることがわかった。
ッキングについても評価した。評価には、市販の光記録
装置を改造して用いた。光ヘッドのレーザー光の波長は
８３０ｎｍであった。評価の結果、この磁気ディスク用
基板１は光トラキングサーボが良好に行える基板になっ
ていることがわかった。
【００２０】これらの磁気ディスク用基板１についての
評価結果を（表１）の試料ディスクＮｏ１の項に示し
た。芯の下地基板２として、アルミナの基板のかわり
に、ジルコニア（ＺｒＯ2 系セラミックス）、ムライト
（３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 系セラミックス）、コージ
ライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ2 Ｏ3 ・５ＳｉＯ2 系セラミ
ックス）、チタニア（ＴｉＯ2 系セラミックス）、アル
ミナ−ジルコニア複合体、あるいはＳｉＯ2 −Ｌｉ2 Ｏ
系結晶化ガラス、あるいは結晶性のセラミックスとガラ
スの複合焼結体材料であるアルミナ−ガラス複合焼結
体、ジルコニア−ガラス複合焼結体、ムライト−ガラス
複合焼結体あるいはチタニア−ガラス複合焼結体の下地
基板を用いても同様の磁気ディスク用基板を作製し、上
記と同様の評価を行った。また、光トラッキングサーボ
のパターンになる金属薄膜（光反射膜）５、６の材料と
して、金の代わりに、白金、パラジウム、白金−パラジ
ウム合金、イリジウム、ロジウム、パラジウム−ロジウ
ム合金、クロム、クロム−金合金、ニッケル、ニッケル
−クロム合金、あるいはコバルトを用いても同様の磁気
ディスク用基板を作製し、上記と同様の評価を行った。
芯としての下地基板２の材料、および光トラッキングサ
ーボのパターンになる金属薄膜の材料を変えても、作製
した基板は磁気ディスク用として良好なものであること
がわかった。それらの評価結果についても、（表１），
（表２）および（表３）にまとめて示した。
評価結果を（表１）の試料ディスクＮｏ１の項に示し
た。芯の下地基板２として、アルミナの基板のかわり
に、ジルコニア（ＺｒＯ2 系セラミックス）、ムライト
（３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 系セラミックス）、コージ
ライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ2 Ｏ3 ・５ＳｉＯ2 系セラミ
ックス）、チタニア（ＴｉＯ2 系セラミックス）、アル
ミナ−ジルコニア複合体、あるいはＳｉＯ2 −Ｌｉ2 Ｏ
系結晶化ガラス、あるいは結晶性のセラミックスとガラ
スの複合焼結体材料であるアルミナ−ガラス複合焼結
体、ジルコニア−ガラス複合焼結体、ムライト−ガラス
複合焼結体あるいはチタニア−ガラス複合焼結体の下地
基板を用いても同様の磁気ディスク用基板を作製し、上
記と同様の評価を行った。また、光トラッキングサーボ
のパターンになる金属薄膜（光反射膜）５、６の材料と
して、金の代わりに、白金、パラジウム、白金−パラジ
ウム合金、イリジウム、ロジウム、パラジウム−ロジウ
ム合金、クロム、クロム−金合金、ニッケル、ニッケル
−クロム合金、あるいはコバルトを用いても同様の磁気
ディスク用基板を作製し、上記と同様の評価を行った。
芯としての下地基板２の材料、および光トラッキングサ
ーボのパターンになる金属薄膜の材料を変えても、作製
した基板は磁気ディスク用として良好なものであること
がわかった。それらの評価結果についても、（表１），
（表２）および（表３）にまとめて示した。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
【００２３】
【表３】
【００２４】
【発明の効果】以上に述べてきたように本発明によれ
ば、表面がきわめて平滑で、かつ光トラッキングサーボ
が可能な磁気ディスク用基板を容易に製造できることに
なるので、この磁気ディスク用基板の表面に光透過性の
磁気記録媒体薄膜を形成して作られる磁気ディスクは磁
気ヘッドの低浮上走行と光トラッキングサーボによる高
精度トラッキングが可能になる。また、サーボ情報とデ
ータ情報が分離しているので、ディスク基板記録面には
データ情報だけを詰め込むことができる。それらの結
果、円周方向の線記録密度の向上とディスクの直径方向
のトラック密度の向上が可能となり、磁気ディスク一枚
あたりの記録密度を大幅に向上できる。この磁気ディス
クを用いることによって、小型で大容量の固定磁気ディ
スク装置を実現することができる。
ば、表面がきわめて平滑で、かつ光トラッキングサーボ
が可能な磁気ディスク用基板を容易に製造できることに
なるので、この磁気ディスク用基板の表面に光透過性の
磁気記録媒体薄膜を形成して作られる磁気ディスクは磁
気ヘッドの低浮上走行と光トラッキングサーボによる高
精度トラッキングが可能になる。また、サーボ情報とデ
ータ情報が分離しているので、ディスク基板記録面には
データ情報だけを詰め込むことができる。それらの結
果、円周方向の線記録密度の向上とディスクの直径方向
のトラック密度の向上が可能となり、磁気ディスク一枚
あたりの記録密度を大幅に向上できる。この磁気ディス
クを用いることによって、小型で大容量の固定磁気ディ
スク装置を実現することができる。
【図１】本発明の実施例の磁気ディスク用基板を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図２】同磁気ディスク用基板の概略斜視図である。
１ 磁気ディスク用基板 ２ 芯の下地基板 ３、４ ガラス層 ５、６ 光反射膜 ７、８ 光透過性のガラス層
Claims (6)
- 【請求項１】 下地基板として、ドーナツ板形状の結晶
性のセラミックス焼結体材料、あるいは結晶化ガラス、
あるいは結晶性のセラミックスとガラスの複合焼結体材
料のいずれかを用い、この下地基板の両方の表面にガラ
ス材料の膜を被覆し、さらにその両方のガラス材料の膜
の表面に光トラッキングサーボのパターン形状の金属薄
膜の光反射膜を形成し、さらにこの光反射膜を形成した
ガラス材料の膜の表面に光透過性のガラス材料の薄膜を
形成し、このガラス材料の薄膜の表面を平滑に成形した
磁気ディスク用基板。 - 【請求項２】 結晶性のセラミックス焼結体材料が、ア
ルミナ（Ａｌ2 Ｏ3系セラミックス）、ジルコニア（Ｚ
ｒＯ2 系セラミックス）、ムライト（３Ａｌ 2 Ｏ3 ・２
ＳｉＯ2 系セラミックス）、コージライト（２ＭｇＯ・
２Ａｌ2 Ｏ3・５ＳｉＯ2 系セラミックス）、チタニア
（ＴｉＯ2 系セラミックス）あるいはそれらの複合体セ
ラミックスのいずれかの材料である請求項１記載の磁気
ディスク用基板。 - 【請求項３】 結晶化ガラスが、ＳｉＯ2 とＬｉ2 Ｏを
含むガラス材料である請求項１記載の磁気ディスク用基
板。 - 【請求項４】 結晶性のセラミックスとガラスの複合焼
結体材料が、アルミナ、ジルコニアあるいはムライトの
いずれかのセラミックス粉末、あるいはそれらの混合粉
末と、ガラス粉末とを混合し焼結して作られた材料であ
る請求項１記載の磁気ディスク用基板。 - 【請求項５】 金属薄膜の光反射膜が、金、白金、パラ
ジウム、イリジウム、ロジウム、クロム、ニッケル、コ
バルトのいずれか、あるいはこれらのうちの二種類以上
からなる合金からなる請求項１記載の磁気ディスク用基
板。 - 【請求項６】 ドーナツ板形状の結晶性のセラミックス
焼結体材料、あるいは結晶化ガラス、あるいは結晶性の
セラミックスとガラスの複合焼結体材料のいずれかの下
地基板の両表面に印刷法によりガラスペーストを塗布し
た後、加熱溶融してガラス膜を形成し、次に、ガラス膜
を形成した下地基板全体を加熱した状態で、その表面
を、平滑に表面加工した型でプレス成形し、さらにこの
プレス成形した表面に真空法で金属薄膜の反射膜を形成
し、続いてフォトリソグラフィー技術とエッチング技術
で前記金属薄膜の反射膜を光トラッキングのパターンに
形成し、さらにその上に印刷法によりガラスペーストを
塗布した後、加熱溶融してガラス膜とし、再びガラス膜
を溶融した基板全体を加熱した状態でその表面を、平滑
に表面加工した型でプレス成形することにより磁気ディ
スク用基板を製造する磁気ディスク用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4119342A JPH06290451A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4119342A JPH06290451A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06290451A true JPH06290451A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=14759116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4119342A Pending JPH06290451A (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 磁気ディスク用基板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06290451A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005129918A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-05-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 薄膜電子部品用セラミック基板及びこれを用いた薄膜電子部品 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4842705A (ja) * | 1971-09-29 | 1973-06-21 | ||
| JPS5622266A (en) * | 1979-07-30 | 1981-03-02 | Fujitsu Ltd | Flexible magnetic disc unit |
| JPS578921A (en) * | 1980-06-19 | 1982-01-18 | Nec Corp | Magnetic recording body |
| JPS60229234A (ja) * | 1984-04-27 | 1985-11-14 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
| JPS61131229A (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-18 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気デイスク用基板とその製造方法 |
| JPH02177019A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-10 | Fujitsu Ltd | 磁気ディスクの製造方法 |
-
1992
- 1992-05-13 JP JP4119342A patent/JPH06290451A/ja active Pending
Patent Citations (6)
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| JP2005129918A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-05-19 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 薄膜電子部品用セラミック基板及びこれを用いた薄膜電子部品 |
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