JPH0629274A - 処理液循環ろ過装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理槽内における処理液の澱みを防止するこ
とができ、ウエハへのパーティクルの付着を低減するこ
とができるようにする。 【構成】 処理槽１０の底面略全域に、平板状でかつ例
えば平面視略矩形をなし、注入管１８と連通する散気板
２０を配置する。なお散気板２０の上面全体にはは処理
液１２の吹き出し口を複数個形成し、その板面略中央近
傍の吹き出し口においては液吹き出し方向を散気板２０
の略中央方向に、またその他の部分の吹き出し口におい
ては、液吹き出し方向を散気板２０の下面に対して略垂
直方向に形成する。このような散気板２０から処理液１
２を吹き出させることによって、処理槽１０内には澱み
のない整流的な処理液１２の流れが形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造にお
けるウエハ洗浄液等の処理液の循環ろ過装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造においてはウエハ洗浄
液等の処理液中のパーティクルを除去するため、処理槽
中の処理液をフィルタに通し再び処理槽に戻す処理液循
環ろ過装置が用いられている。すなわち図７に示す如
く、処理槽１０はその上端側の外側周縁にオーバーフロ
ー槽１１を設けてなり、処理槽１０よりオーバーフロー
した処理液１２がここに流れ込むようになっている。こ
のオーバーフロー槽１１には往管１３の一端が取り付け
られており、オーバーフロー槽１１内の処理液１２はポ
ンプ１４によって往管１３内に吸引される。そして往管
１３から所定メッシュのフィルタ１５に送り込まれ、そ
こでろ過され復管１６に送りだされる。復管１６内の処
理液１２はさらに、先端に液吹き出し部分１７ａを備え
かつその液吹き出し部分１７ａが処理槽１０の底面略中
央に配置された散気管１７に送られ、液吹き出し部分１
７ａより吹き出されて処理槽１０に戻る。

【０００３】ところで、散気管１７の液吹き出し部分１
７ａは例えばその上部の管部分１７ｂを略中心にして放
射状に形成されており、処理液１２は液吹き出し部分１
７ａから上方に向けて放射状に吹き出される。その結
果、処理槽１０内には図８で示した如く底面側から上方
に向かう処理液１２の流れ１２ａが生じ、この流れ１２
ａと共にパーティクルも上方に向かって流れる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
な散気管１７を用いて処理液１２の吹き出しを行った場
合、上記した処理液１２の流れ１２ａが図８に示した如
く処理槽１０の底面と側面との隅角部にはなく、その部
分に処理液１２の澱み１２ｂが生じてパーティクルが滞
留するという現象が生じていた。そして、このような処
理槽１０にウエハを浸漬すると、澱み１２ｂ内のパーテ
ィクルがウエハに多量に付着してしまうという問題が発
生していた。本発明は上記課題に鑑みてなされたもので
あり、処理槽内における処理液の澱みを防止することが
でき、ウエハへのパーティクルの付着を低減することが
できる処理液循環ろ過装置を提供することを目的として
いる。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、処理槽からオーバーフローした処理液をポ
ンプによりフィルタに通し、その後散気板を介して前記
処理槽に戻し循環させる処理液循環ろ過装置において、
前記散気板は平板状をなし、かつ一面に複数の吹き出し
口を設けたものであって、その吹き出し口を上方に向け
た状態で前記処理槽の底面に配置され、又は前記処理液
の吹き出し口を内方に向けた状態で前記処理槽の相対す
る側面に沿って立設され、若しくは前記処理槽の底面に
配置されかつ前記処理槽の相対する側面に沿って立設さ
れているようにしたものである。また前記処理槽の底面
に配置される散気板は、その板面略中央近傍の吹き出し
口において液吹き出し方向を前記略中央に向けて形成し
たものである。

【０００６】

【作用】本発明によれば散気板をその吹き出し口を上方
に向けた状態で処理槽の底面に配置した場合、フィルタ
を通過した処理液は前記散気板より前記処理槽の上方へ
向けて吹き出され、澱むことなく前記処理槽の上方に向
けて流れる。また散気板をその吹き出し口を内方に向け
た状態で前記処理槽の相対する側面に沿って立設した場
合、フィルタを通過した処理液は前記散気板より前記処
理槽の内方に向けて吹き出され、前記散気板間の略中間
位置で集まって処理槽の上方へ向けて流れる。さらに散
気板を前記底面に配置しかつ相対する側面に沿って立設
した場合、底面の散気板より吹き出された処理液は前記
処理槽の上方に向けて流れ、側面の散気板より吹き出さ
れた処理液は前記散気板間の略中間位置で集まって処理
槽の上方へ向けて流れる。その結果、上記いずれの位置
に散気板を配置した場合でも、前記処理槽内には最終的
に上方へ向けての整流的な処理液の流れが形成され、処
理槽内に処理液の澱みは生じない。

【０００７】また本発明において、処理槽の底面に配置
する散気板の板面略中央近傍の吹き出し口における液吹
き出し方向を略中央に向けて形成すると、前記散気板の
略中央近傍の吹き出し口から吹き出された処理液は処理
槽の略中央部に集まる。その結果前記処理槽の略中央部
の処理液の流れが速くなり、処理液は処理槽上部で澱む
ことなくオーバーフロー槽に流れ込む。

【０００８】

【実施例】以下、本発明に係る処理液循環ろ過装置の実
施例を図面に基づいて説明する。なお、図において従来
例と同じ構成部品には同じ番号を付して説明を省略す
る。図１は本発明に係る処理液循環ろ過装置の一実施例
を示した模式図であり、図７で示した従来の散気管１７
の代わりに平板状の散気板２０を用いている。すなわち
本実施例においては、処理槽１０の底面略全域に散気板
２０が配置されている。また復管１６のフィルタ１５側
と反対の端部には注入管１８が接続されており、散気板
２０はその注入管１８に連通した状態で接続されてい
る。

【０００９】図２及び図３はそれぞれ散気板２０の一例
を示した断面図及び平面図である。図例の如く散気板２
０は平板状でかつ例えば平面視略矩形をなし、内部に注
入管１８と連通する空間（図示せず）が設けられ、散気
板２０の上面全体には、この空間と連通する処理液１２
の吹き出し口２１が複数個形成されている。また図２中
矢印で示したように散気板２０の板面略中央近傍の吹き
出し口２１においては、その液吹き出し方向を散気板２
０の略中央方向４０に形成しており、その他の部分の吹
き出し口２１においては、液吹き出し方向を散気板２０
の下面に対して略垂直方向に形成している。

【００１０】このような散気板２０を上記の如く処理槽
１０の底面略全域に配置した場合の処理液１２の流れを
図４に示す。図４に示したように、散気板２０を用いる
と処理液１２は散気板２０の略中央近傍の吹き出し口２
１から散気板２０の略中央に向けて吹き出し、その他の
部分の吹き出し口２１からは処理槽１０の上方へ向けて
略真っ直ぐに吹き出す。その結果、処理槽１０の略中央
部においては処理液１２が集まって流れが速くなり、処
理液１２は処理槽１０上部で澱むことなくオーバーフロ
ー槽１１に流れ込む。また処理槽１０のその他の部分に
おいても、処理液１２は澱むことなく上方へ向けて略真
っ直ぐに流れる。つまり、処理槽１０内に澱みのない整
流的な処理液１２の流れが形成されることとなり、これ
によって処理液１２の澱みによるパーティクルの滞留が
防止される。

【００１１】なお、処理槽１０内のパーティクルを含ん
だ処理液１２は、図７に示した従来例と同様にオーバー
フロー槽１１に流れ込み、ポンプ１４によって往管１３
よりフィルタ１５に送られてろ過される。そしてその
後、復管１６及び注入管１８を経て散気板２０に送ら
れ、散気板２０より上記の如く吹き出されて再び処理槽
１０内に戻る。従って上記実施例装置では、散気板２０
を用いることによって処理液１２中のパーティクルが効
率良くフィルタ１５でろ過され、処理槽１０内に常にパ
ーティクルの少ない処理液１２が満される。このため、
パーティクルをあまり付着させることなくウエハを処理
槽１０内で処理することができる。

【００１２】図５は本発明に係る処理液循環ろ過装置の
他の実施例を示した模式図であり、この実施例において
は２つの散気板３０、３１を処理槽１０の側面に沿った
状態でかつ相対するように立設した場合を示している。
それぞれの散気板３０、３１は、復管１６の端部に接続
された注入管１８、１９の先端側に連通状態で接続され
ており、それぞれの処理液１２の吹き出し口（図示せ
ず）はその液吹き出し方向が内方に向けた状態、例えば
相対する散気板３０、３１に向けた状態に形成されてい
る。このような散気板３０、３１が立設された処理槽１
０内の処理液１２の流れを図６に示す。

【００１３】図例の如く、処理液１２は散気板３０、３
１からそれぞれ相対する散気板３１、３０に向けて吹き
出され、散気板３０、３１の略中間付近で集まり上方に
向けて流れる。すなわち、この実施例においても処理槽
１０内に澱みのない整流的な処理液１２の流れが形成さ
れる。その結果、前述した実施例と同様に処理液１２の
澱みによるパーティクルの滞留が防止され、パーティク
ルが効率良くフィルタ１５によりろ過されるため、処理
槽１０内には常にパーティクルの少ない処理液１２が満
たされることとなる。従って、この実施例においてもパ
ーティクルの付着の少ないウエハを得ることができる。

【００１４】また、処理槽１０の底面に散気板２０が配
置されると共に、処理槽１０の側面に沿った状態でかつ
相対するように２つの散気板３０、３１を立設した場合
においても、処理槽１０内に澱みのない整流的な処理液
１２の流れが形成される。従って処理液１２のパーティ
クルを効率良くろ過することができ、ウエハへのパーテ
ィクルの付着を低減することができる。

【００１５】

【発明の効果】以上説明したように本発明の処理液循環
ろ過装置によれば、処理槽内の処理液を整流的に流すこ
とができ、パーティクルの滞留を防止して処理液中のパ
ーティクルを効率的にろ過することができるので、処理
槽でウエハを処理する際のウエハへのパーティクルの付
着を低減することができる。従って半導体製造の歩留り
を向上させることができる。また処理槽の底面に配置さ
れる散気板においては、処理槽の略中央部に処理液を集
めて流れを速くするので、処理槽上部における澱みを防
止することができ、その部分におけるパーティクルの滞
留を防ぐことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の処理液循環ろ過装置の一実施例を示し
た模式図である。

【図２】散気板の一例を示した断面図である。

【図３】散気板の一例を示した平面図である。

【図４】図１の処理槽における処理液の流れを示した模
式図である。

【図５】本発明の処理液循環ろ過装置の他の実施例を示
した模式図である。

【図６】図６の処理槽における処理液の流れを示した模
式図である。

【図７】従来の処理液循環ろ過装置の一例を示した模式
図である。

【図８】図７の処理槽における処理液の流れを示した模
式図である。

【符号の説明】

１０ 処理槽 １２ 処理液 １４ ポンプ １５ フィルタ ２０、３０、３１ 散気板 ２１ 吹き出し口 ４０ 中央方向

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理槽からオーバーフローした処理液を
   ポンプによりフィルタに通し、その後散気板を介して前
   記処理槽に戻し循環させる処理液循環ろ過装置におい
   て、 前記散気板は平板状をなし、かつ一面に複数の吹き出し
   口を設けたものであって、 該吹き出し口を上方に向けた状態で前記処理槽の底面に
   配置され、及び／又は前記処理液の吹き出し口を内方に
   向けた状態で前記処理槽の相対する側面に沿って立設さ
   れていることを特徴とする処理液循環ろ過装置。
2. 【請求項２】 前記処理槽の底面に配置される散気板
   は、その板面略中央近傍の吹き出し口において液吹き出
   し方向を前記略中央に向けて形成したことを特徴とする
   請求項１記載の処理液循環ろ過装置。