JPH0794459A - 洗浄方法及びその装置 - Google Patents
洗浄方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH0794459A JPH0794459A JP23342193A JP23342193A JPH0794459A JP H0794459 A JPH0794459 A JP H0794459A JP 23342193 A JP23342193 A JP 23342193A JP 23342193 A JP23342193 A JP 23342193A JP H0794459 A JPH0794459 A JP H0794459A
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- Japan
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- cleaning
- cleaned
- electric field
- cleaning liquid
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 洗浄効果を向上させること。
【構成】 二重槽に構成されている洗浄槽１３の内槽１
２の壁の中に互いに平行な一対の電極１４Ａ、１４Ｂを
埋設し、電源装置１５により半導体ウエハ１に対して平
行な電場を発生させ、ノズル２６及び循環ポンプ２７で
循環する洗浄液で半導体ウエハ１の表面から分離された
微粒子を前記電場により電気泳動法で除去するように構
成されてた洗浄装置１０である。 【効果】 電場により電離した洗浄液により、被洗浄物
の表面から離れた微粒子を、再度、その被洗浄物の表面
に付着させることなく排出することができ、洗浄効果が
促進される。
２の壁の中に互いに平行な一対の電極１４Ａ、１４Ｂを
埋設し、電源装置１５により半導体ウエハ１に対して平
行な電場を発生させ、ノズル２６及び循環ポンプ２７で
循環する洗浄液で半導体ウエハ１の表面から分離された
微粒子を前記電場により電気泳動法で除去するように構
成されてた洗浄装置１０である。 【効果】 電場により電離した洗浄液により、被洗浄物
の表面から離れた微粒子を、再度、その被洗浄物の表面
に付着させることなく排出することができ、洗浄効果が
促進される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、半導体ウエ
ハのような被洗浄物の洗浄方法及びその装置に関する。
ハのような被洗浄物の洗浄方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術のこの種の洗浄方法は、被洗浄
物の表面に付着している微粒子を洗浄液でその被洗浄物
の表面から離し、その微粒子が被洗浄物の表面に再び付
着するのを防ぐために、その洗浄液を循環させ、その液
流を被洗浄物に平行な流れになるように調整して、洗浄
効果を高めるようにしていた。
物の表面に付着している微粒子を洗浄液でその被洗浄物
の表面から離し、その微粒子が被洗浄物の表面に再び付
着するのを防ぐために、その洗浄液を循環させ、その液
流を被洗浄物に平行な流れになるように調整して、洗浄
効果を高めるようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この洗浄方法
では、洗浄液に粘性力があるため、被洗浄物の表面では
洗浄液の流れは零であり、その表面から一旦離れた微粒
子も再付着するという好ましくない現象が見受けられ
る。この発明の洗浄方法及びその装置は、このような問
題点を解決しようとするものである。
では、洗浄液に粘性力があるため、被洗浄物の表面では
洗浄液の流れは零であり、その表面から一旦離れた微粒
子も再付着するという好ましくない現象が見受けられ
る。この発明の洗浄方法及びその装置は、このような問
題点を解決しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、この発明の洗浄方法は、被洗浄物を循環する洗浄液
に浸漬すると同時に、その被洗浄物に電場を掛け、洗浄
液で、その被洗浄物の表面から離れた微粒子を電場方向
へ泳動させる方法を採った。
に、この発明の洗浄方法は、被洗浄物を循環する洗浄液
に浸漬すると同時に、その被洗浄物に電場を掛け、洗浄
液で、その被洗浄物の表面から離れた微粒子を電場方向
へ泳動させる方法を採った。
【０００５】その洗浄方法を実現する洗浄装置として
は、洗浄槽内で洗浄液が循環するように洗浄液を供給す
る洗浄液供給装置の他に、被洗浄物に対して水平方向に
電場を形成する一対の電極と、これらの電極で電場を発
生させる電源装置と、被洗浄物の表面から離れた微粒子
を漉すフィルター装置とから構成した。
は、洗浄槽内で洗浄液が循環するように洗浄液を供給す
る洗浄液供給装置の他に、被洗浄物に対して水平方向に
電場を形成する一対の電極と、これらの電極で電場を発
生させる電源装置と、被洗浄物の表面から離れた微粒子
を漉すフィルター装置とから構成した。
【０００６】
【作用】従って、洗浄液で被洗浄物の表面から離れた微
粒子をその平行な電場により直ちにその電場方向に泳動
させることができる。
粒子をその平行な電場により直ちにその電場方向に泳動
させることができる。
【０００７】
【実施例】以下、この発明の洗浄装置の実施例を図１及
び図２を用いて説明する。図１はこの発明の第１の実施
例である洗浄装置の一部断面図であり、図２はこの発明
の第２の実施例である洗浄装置であって、同図Ａはその
上面図、同図Ｂはその一部断面側面図である。
び図２を用いて説明する。図１はこの発明の第１の実施
例である洗浄装置の一部断面図であり、図２はこの発明
の第２の実施例である洗浄装置であって、同図Ａはその
上面図、同図Ｂはその一部断面側面図である。
【０００８】先ず、図１を用いて、この発明の洗浄装置
の第１の実施例を説明する。この洗浄装置１０は、望ま
しくない、除去された微粒子を含んだ洗浄液を一時貯蔵
しておく直方体の外槽１１と、その外槽１１の内部に在
って、同心的に設置されて、洗浄液を満たす内槽１２と
の二重槽に構成されている洗浄槽１３と、その内槽１２
の壁の中に埋設され、被洗浄物に対して平行な電場を発
生させる互いに平行な一対の電極１４Ａ、１４Ｂと、そ
のための電源装置１５と、洗浄槽１３内で洗浄液が循環
するように洗浄液を供給する、複数の吹き出し口１６Ａ
を備えたノズル１６、循環ポンプ１７、パイプ１８など
からなる洗浄液供給装置と前記外槽１１の洗浄液に含ま
れている微粒子を漉すフィルター１９とから構成されて
いる。
の第１の実施例を説明する。この洗浄装置１０は、望ま
しくない、除去された微粒子を含んだ洗浄液を一時貯蔵
しておく直方体の外槽１１と、その外槽１１の内部に在
って、同心的に設置されて、洗浄液を満たす内槽１２と
の二重槽に構成されている洗浄槽１３と、その内槽１２
の壁の中に埋設され、被洗浄物に対して平行な電場を発
生させる互いに平行な一対の電極１４Ａ、１４Ｂと、そ
のための電源装置１５と、洗浄槽１３内で洗浄液が循環
するように洗浄液を供給する、複数の吹き出し口１６Ａ
を備えたノズル１６、循環ポンプ１７、パイプ１８など
からなる洗浄液供給装置と前記外槽１１の洗浄液に含ま
れている微粒子を漉すフィルター１９とから構成されて
いる。
【０００９】次に、このような構成の洗浄装置１０を用
いて、被洗浄物、例えば、半導体ウエハを洗浄する場合
の洗浄方法を説明する。先ず、前記洗浄槽１３に洗浄液
を張り、支持板３に保持され、キャリヤー２に収納され
た一枚または複数の半導体ウエハ１を、その半導体ウエ
ハ１が前記電場と平行になるような状態で、洗浄液が満
たされた前記内槽１２内に浸漬し、装着、固定する。
いて、被洗浄物、例えば、半導体ウエハを洗浄する場合
の洗浄方法を説明する。先ず、前記洗浄槽１３に洗浄液
を張り、支持板３に保持され、キャリヤー２に収納され
た一枚または複数の半導体ウエハ１を、その半導体ウエ
ハ１が前記電場と平行になるような状態で、洗浄液が満
たされた前記内槽１２内に浸漬し、装着、固定する。
【００１０】この場合、洗浄液として、例えば、ＮＨ4
ＯＨ、Ｈ2 Ｏ2 、Ｈ2 Ｏの混合液を用いる。そしてこの
洗浄液を前記循環ポンプ１７を作動させ、ノズル１６の
吹き出し口１６Ａから供給しながら、前記電源装置１５
で電極１４Ａ、１４Ｂ間に電圧を掛け、電場を発生させ
る。この図示の実施例では、ノズル１６を内槽１２の底
面に配置し、洗浄液を上昇の循環流で発生させている。
ＯＨ、Ｈ2 Ｏ2 、Ｈ2 Ｏの混合液を用いる。そしてこの
洗浄液を前記循環ポンプ１７を作動させ、ノズル１６の
吹き出し口１６Ａから供給しながら、前記電源装置１５
で電極１４Ａ、１４Ｂ間に電圧を掛け、電場を発生させ
る。この図示の実施例では、ノズル１６を内槽１２の底
面に配置し、洗浄液を上昇の循環流で発生させている。
【００１１】この循環する洗浄液の効果により半導体ウ
エハ１の表面に付着していた好ましくない微粒子がその
表面から離れ、離れた微粒子は洗浄液中のイオンにより
帯電し、前記電極１４Ａ、１４Ｂによって生じた、半導
体ウエハ１に平行な電場により電極の方へ、電気泳動し
て行くことになる。
エハ１の表面に付着していた好ましくない微粒子がその
表面から離れ、離れた微粒子は洗浄液中のイオンにより
帯電し、前記電極１４Ａ、１４Ｂによって生じた、半導
体ウエハ１に平行な電場により電極の方へ、電気泳動し
て行くことになる。
【００１２】この時、上昇する洗浄液の循環流でその微
粒子は内槽１２の液面に達し、外槽１１に流れ出され、
この流れ出された微粒子は循環ポンプ１７によってこの
循環ポンプ１７を通り、フィルター１９で補足される。
このようにして、半導体ウエハ１の表面に付着していた
微粒子が完全に除去されることになる。
粒子は内槽１２の液面に達し、外槽１１に流れ出され、
この流れ出された微粒子は循環ポンプ１７によってこの
循環ポンプ１７を通り、フィルター１９で補足される。
このようにして、半導体ウエハ１の表面に付着していた
微粒子が完全に除去されることになる。
【００１３】このような洗浄方法により被洗浄物の洗浄
を行うことができるが、洗浄液により被洗浄物の表面か
ら一旦離された微粒子の、その被洗浄物への再付着を防
がなけれならない。従って、被洗浄物の表面から一旦離
された微粒子を速やかにその被洗浄物から遠ざける必要
がある。そのためには、被洗浄物の種類、形状、大きさ
などに応じて洗浄液及びその流量などを変え、また、前
記電極１４Ａ、１４Ｂに印加する電源装置１５の電圧を
加減することである。
を行うことができるが、洗浄液により被洗浄物の表面か
ら一旦離された微粒子の、その被洗浄物への再付着を防
がなけれならない。従って、被洗浄物の表面から一旦離
された微粒子を速やかにその被洗浄物から遠ざける必要
がある。そのためには、被洗浄物の種類、形状、大きさ
などに応じて洗浄液及びその流量などを変え、また、前
記電極１４Ａ、１４Ｂに印加する電源装置１５の電圧を
加減することである。
【００１４】次に、この発明の洗浄装置の第２の実施例
を図２を用いて説明する。この実施例の洗浄装置２０が
第１の実施例の洗浄装置１０と大きく異なる点は、洗浄
槽２３を構成する外槽２１及び内槽２２が円筒で、それ
らを同心円状に配置、構成した点である。従って、電極
１４Ａ、１４Ｂの一方、例えば、電極２４Ａを円筒形に
構成して、内槽２２の壁の中に埋設し、他の電極２４Ｂ
を円柱状に構成して内槽２２の底面の中心部に植立、設
置し、これらの電極２４Ａ、２４Ｂ間に電源装置２５で
電圧を掛け、電場を発生させるように構成している。
を図２を用いて説明する。この実施例の洗浄装置２０が
第１の実施例の洗浄装置１０と大きく異なる点は、洗浄
槽２３を構成する外槽２１及び内槽２２が円筒で、それ
らを同心円状に配置、構成した点である。従って、電極
１４Ａ、１４Ｂの一方、例えば、電極２４Ａを円筒形に
構成して、内槽２２の壁の中に埋設し、他の電極２４Ｂ
を円柱状に構成して内槽２２の底面の中心部に植立、設
置し、これらの電極２４Ａ、２４Ｂ間に電源装置２５で
電圧を掛け、電場を発生させるように構成している。
【００１５】そして、前記内槽２２の底面において、そ
の外周コーナーに沿って、複数の吹き出し口２６ａを備
えた環状のノズル２６Ａを設置し、また、前記電極１４
Ｂの周りに、複数の吹き出し口２６ｂを備えた環状のノ
ズル２６Ｂを設置し、これらのノズル２６Ａ、２６Ｂ、
循環ポンプ２７及びフィルター２９などをパイプ２８で
接続して、内槽２２内で洗浄液を上昇の循環流として発
生させ、外槽２１に溢れた洗浄液を回収し、フィルター
２９で漉して、また内槽２２へ供給、循環させるように
構成している。
の外周コーナーに沿って、複数の吹き出し口２６ａを備
えた環状のノズル２６Ａを設置し、また、前記電極１４
Ｂの周りに、複数の吹き出し口２６ｂを備えた環状のノ
ズル２６Ｂを設置し、これらのノズル２６Ａ、２６Ｂ、
循環ポンプ２７及びフィルター２９などをパイプ２８で
接続して、内槽２２内で洗浄液を上昇の循環流として発
生させ、外槽２１に溢れた洗浄液を回収し、フィルター
２９で漉して、また内槽２２へ供給、循環させるように
構成している。
【００１６】このような構成の第２の洗浄装置２０も、
洗浄の原理は前記第１の洗浄装置１０のそれとほぼ同様
であるので、その説明は省略する。
洗浄の原理は前記第１の洗浄装置１０のそれとほぼ同様
であるので、その説明は省略する。
【００１７】
【発明の効果】従って、この発明の洗浄方法及びその装
置によれば、電場により電離した洗浄液により、被洗浄
物の表面から離れた微粒子を、再度、その被洗浄物の表
面に付着させることなく排出することができ、洗浄効果
が促進され、また、従来の洗浄方法と比較して、洗浄液
の循環液量を逓減させることができる。即ち、それだけ
性能の低い循環ポンプで十分に対応できるなどの優れた
効果を得ることができる。
置によれば、電場により電離した洗浄液により、被洗浄
物の表面から離れた微粒子を、再度、その被洗浄物の表
面に付着させることなく排出することができ、洗浄効果
が促進され、また、従来の洗浄方法と比較して、洗浄液
の循環液量を逓減させることができる。即ち、それだけ
性能の低い循環ポンプで十分に対応できるなどの優れた
効果を得ることができる。
【００１８】
【図１】 この発明の第１の実施例である洗浄装置の一
部断面図である。
部断面図である。
【図２】 この発明の第２の実施例である洗浄装置であ
って、同図Ａはその上面図、同図Ｂはその一部断面側面
図である。
って、同図Ａはその上面図、同図Ｂはその一部断面側面
図である。
１ 半導体ウエハ（被洗浄物） ２ キャリヤー ３ 支持板 １０ 第１の実施例の洗浄装置 １１ 外槽 １２ 内槽 １３ 洗浄槽 １４Ａ 電極 １４Ｂ 電極 １５ 電源装置 １６ ノズル １７ 循環ポンプ １８ パイプ １９ フィルター ２０ 第１の実施例の洗浄装置 ２１ 外槽 ２２ 内槽 ２３ 洗浄槽 ２４Ａ 電極 ２４Ｂ 電極 ２５ 電源装置 ２６Ａ ノズル ２６Ｂ ノズル ２７ 循環ポンプ ２８ パイプ ２９ フィルター
Claims (2)
- 【請求項１】 被洗浄物の表面に付着している望ましく
ない微粒子を洗浄、除去するに当たり、被洗浄物を循環
する洗浄液に浸漬すると同時に、その被洗浄物に電場を
掛け、洗浄液で、その被洗浄物の表面から離れた微粒子
を電場方向へ泳動させることを特徴とする被洗浄物の洗
浄方法。 - 【請求項２】 洗浄槽と、この洗浄槽内で洗浄液が循環
するように洗浄液を供給する洗浄液供給装置と、水平方
向に電場を形成する一対の電極と、これらの電極で電場
を発生させる電源装置と、被洗浄物の表面から離れた微
粒子を漉すフィルター装置とから構成された洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23342193A JPH0794459A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 洗浄方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23342193A JPH0794459A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 洗浄方法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0794459A true JPH0794459A (ja) | 1995-04-07 |
Family
ID=16954797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23342193A Pending JPH0794459A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 洗浄方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0794459A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100170531A1 (en) * | 2009-01-08 | 2010-07-08 | Neil Joseph Greeley | Methods of Removing Particles From Over Semiconductor Substrates |
| JP2010536570A (ja) * | 2007-08-29 | 2010-12-02 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 多結晶シリコンの清浄化方法 |
| WO2013018414A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置、処理液供給方法及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2018169163A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 倉敷紡績株式会社 | 半導体処理装置及び半導体処理流動体の計測方法 |
| CN110564719A (zh) * | 2019-08-20 | 2019-12-13 | 天津普瑞思生物科技有限公司 | 一种dna提纯方法以及专用设备 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP23342193A patent/JPH0794459A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010536570A (ja) * | 2007-08-29 | 2010-12-02 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 多結晶シリコンの清浄化方法 |
| US9421584B2 (en) | 2007-08-29 | 2016-08-23 | Wacker Chemie Ag | Method for purifying polycrystalline silicon |
| US20100170531A1 (en) * | 2009-01-08 | 2010-07-08 | Neil Joseph Greeley | Methods of Removing Particles From Over Semiconductor Substrates |
| US8226772B2 (en) * | 2009-01-08 | 2012-07-24 | Micron Technology, Inc. | Methods of removing particles from over semiconductor substrates |
| US8940102B2 (en) | 2009-01-08 | 2015-01-27 | Micron Technology, Inc. | Methods of removing particles from over semiconductor substrates |
| US10137481B2 (en) | 2009-01-08 | 2018-11-27 | Micron Technology, Inc. | Methods of removing particles from over semiconductor substrates |
| US11139159B2 (en) | 2009-01-08 | 2021-10-05 | Micron Technology, Inc. | Methods of removing particles from over semiconductor substrates |
| WO2013018414A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置、処理液供給方法及びコンピュータ記憶媒体 |
| US9308542B2 (en) | 2011-07-29 | 2016-04-12 | Tokyo Electron Limited | Treatment solution supply apparatus, treatment solution supply method, and computer storage medium |
| JP2018169163A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 倉敷紡績株式会社 | 半導体処理装置及び半導体処理流動体の計測方法 |
| CN110564719A (zh) * | 2019-08-20 | 2019-12-13 | 天津普瑞思生物科技有限公司 | 一种dna提纯方法以及专用设备 |
| CN110564719B (zh) * | 2019-08-20 | 2023-10-13 | 天津普瑞思生物科技有限公司 | 一种dna提纯方法以及专用设备 |
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