JPH06293899A - フラックス除去用洗浄剤 - Google Patents
フラックス除去用洗浄剤Info
- Publication number
- JPH06293899A JPH06293899A JP10488093A JP10488093A JPH06293899A JP H06293899 A JPH06293899 A JP H06293899A JP 10488093 A JP10488093 A JP 10488093A JP 10488093 A JP10488093 A JP 10488093A JP H06293899 A JPH06293899 A JP H06293899A
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- Japan
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- acid
- cleaning agent
- hydroxyisobutyric
- flux
- hydroxyisobutyrate
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 従来のハロゲン系有機溶媒を用いる方法に比
べて、環境保全性に優れ、且つ低毒性で安全性が高く、
フラックスの溶解除去性に優れ、操作性の良いフラック
ス残渣除去用洗浄剤を提供することにある。 【構成】 α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルお
よび有機カルボン酸を有効成分として含むフラックス除
去用洗浄剤。
べて、環境保全性に優れ、且つ低毒性で安全性が高く、
フラックスの溶解除去性に優れ、操作性の良いフラック
ス残渣除去用洗浄剤を提供することにある。 【構成】 α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルお
よび有機カルボン酸を有効成分として含むフラックス除
去用洗浄剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フラックス除去用洗浄
剤に関するものであり、更に詳しくは、電気、電子回路
部品あるいは精密機械部品等のハンダ接合時にハンダと
部品との接合力を強める為に塗布されるフラックスを、
ハンダ接合後に部品から洗浄除去するのに適したフラッ
クス除去用洗浄剤に関する。ハンダ接合後のフラックス
洗浄工程は、プリント回路製造、プリント配線板製造あ
るいは精密機械部品組立てなど多くの場面で用いられて
いる。
剤に関するものであり、更に詳しくは、電気、電子回路
部品あるいは精密機械部品等のハンダ接合時にハンダと
部品との接合力を強める為に塗布されるフラックスを、
ハンダ接合後に部品から洗浄除去するのに適したフラッ
クス除去用洗浄剤に関する。ハンダ接合後のフラックス
洗浄工程は、プリント回路製造、プリント配線板製造あ
るいは精密機械部品組立てなど多くの場面で用いられて
いる。
【０００２】
【従来技術およびその問題点】従来、電気、電子工業分
野におけるプリント回路またはプリント配線板製造工程
や、精密機械工業分野での組立工程等において、ハンダ
と基材とを強固に固着させるために予め基材表面にフラ
ックスを塗布している。フラックスはハンダおよび基材
表面を覆っている酸化皮膜を除去し、両者のぬれ性を良
好にするものであり、ハンダ接合の良否はフラックスの
性能に大きく依存するとも言える。しかし、フラックス
はその機能からも明らかなように通常若干の腐食性を有
する。このため、ハンダ接合後もフラックス残渣が基材
表面に残存するとその部分がしだいに腐食され、電気、
電子部品の場合は導電不良に、精密機械部品では強度劣
化や故障の原因になる。このため、フラックス残渣が付
着したままでは製品とならず、通常この様な部品の仕上
げ工程ではフラックス残査を除去するための溶媒洗浄を
行っている。
野におけるプリント回路またはプリント配線板製造工程
や、精密機械工業分野での組立工程等において、ハンダ
と基材とを強固に固着させるために予め基材表面にフラ
ックスを塗布している。フラックスはハンダおよび基材
表面を覆っている酸化皮膜を除去し、両者のぬれ性を良
好にするものであり、ハンダ接合の良否はフラックスの
性能に大きく依存するとも言える。しかし、フラックス
はその機能からも明らかなように通常若干の腐食性を有
する。このため、ハンダ接合後もフラックス残渣が基材
表面に残存するとその部分がしだいに腐食され、電気、
電子部品の場合は導電不良に、精密機械部品では強度劣
化や故障の原因になる。このため、フラックス残渣が付
着したままでは製品とならず、通常この様な部品の仕上
げ工程ではフラックス残査を除去するための溶媒洗浄を
行っている。
【０００３】従来、このハンダ接合後のフラックス残渣
の除去洗浄剤、いわゆるフラックス除去用洗浄剤として
は、フロン１１３（１、１、２−トリクロロ−１、２、
２−トリフルオロエタン）、メチルクロロホルム（１、
１、１−トリクロロエタン）およびトリクロロエチレン
などハロゲン系溶剤を主体にしたものが広く用いられて
いる。特にフロン１１３は不燃性で毒性も低く、安定性
も優れおり、しかも金属、プラスチック、エラストマー
等の基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質
があるため、幅広く用いられていた。しかし、フロン１
１３およびメチルクロロホルムは成層圏のオゾン層を破
壊し、ひいては皮膚ガンの発生を引き起こす原因となる
ことから、その使用が急速に制限されつつある。また、
トリクロロエチレンは発ガン性の疑いが持たれるなどこ
れも安全性の面から使用が制限されつつある。
の除去洗浄剤、いわゆるフラックス除去用洗浄剤として
は、フロン１１３（１、１、２−トリクロロ−１、２、
２−トリフルオロエタン）、メチルクロロホルム（１、
１、１−トリクロロエタン）およびトリクロロエチレン
などハロゲン系溶剤を主体にしたものが広く用いられて
いる。特にフロン１１３は不燃性で毒性も低く、安定性
も優れおり、しかも金属、プラスチック、エラストマー
等の基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質
があるため、幅広く用いられていた。しかし、フロン１
１３およびメチルクロロホルムは成層圏のオゾン層を破
壊し、ひいては皮膚ガンの発生を引き起こす原因となる
ことから、その使用が急速に制限されつつある。また、
トリクロロエチレンは発ガン性の疑いが持たれるなどこ
れも安全性の面から使用が制限されつつある。
【０００４】このためフロン１１３に代わり得る洗浄性
を持ち、しかもオゾン層破壊の懸念のない代替フロン系
洗浄剤の開発が活発に行われている。例えば、１，２−
ジフルオロエタンを主成分とするもの（特開平１ー１３
２６９４号公報）、１、１−ジクロロ−２、２、２−ト
リフルオロエタンとジメトキシメタンの混合物（特開平
２ー１７８３９６号公報）およびヘキサフルオロベンゼ
ンを主成分とするもの（特開平３ー１６７２９８号公
報）など多くの代替フロンが提案されている。しかし、
これらの溶剤も性能的にフロン１１３に及ばないほか、
将来的にはこれらのハロゲン系溶媒も環境問題と安全性
の問題から全面的に使用規制される方向に進んでいるた
め本質的な解決にはほど遠い。
を持ち、しかもオゾン層破壊の懸念のない代替フロン系
洗浄剤の開発が活発に行われている。例えば、１，２−
ジフルオロエタンを主成分とするもの（特開平１ー１３
２６９４号公報）、１、１−ジクロロ−２、２、２−ト
リフルオロエタンとジメトキシメタンの混合物（特開平
２ー１７８３９６号公報）およびヘキサフルオロベンゼ
ンを主成分とするもの（特開平３ー１６７２９８号公
報）など多くの代替フロンが提案されている。しかし、
これらの溶剤も性能的にフロン１１３に及ばないほか、
将来的にはこれらのハロゲン系溶媒も環境問題と安全性
の問題から全面的に使用規制される方向に進んでいるた
め本質的な解決にはほど遠い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように当業技術分
野では、非ハロゲン系溶剤を主成分とし、環境破壊性物
質の大気および水系への排出がなく、発ガン性等の毒性
や安全性上の問題もなく、しかも基材を損なうことなく
フラックス残渣を完全に除去できる高い溶解力を有する
フラックス除去用洗浄剤の開発が重要な課題になってい
る。
野では、非ハロゲン系溶剤を主成分とし、環境破壊性物
質の大気および水系への排出がなく、発ガン性等の毒性
や安全性上の問題もなく、しかも基材を損なうことなく
フラックス残渣を完全に除去できる高い溶解力を有する
フラックス除去用洗浄剤の開発が重要な課題になってい
る。
【０００６】本発明は、前述したような従来のフラック
ス除去用洗浄剤の持つ欠点を克服し、非ハロゲン系溶媒
からなり、洗浄除去能力が高く、環境破壊性物質の生成
がなく、毒性や不快臭がなく、しかも沸点も比較的高く
安全なフラックス除去用洗浄剤を提供することを目的と
してなされたものである。
ス除去用洗浄剤の持つ欠点を克服し、非ハロゲン系溶媒
からなり、洗浄除去能力が高く、環境破壊性物質の生成
がなく、毒性や不快臭がなく、しかも沸点も比較的高く
安全なフラックス除去用洗浄剤を提供することを目的と
してなされたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の好
ましい性質を有するフラックス洗浄剤を開発すべく鋭意
研究を重ねた結果、α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエ
ステル類および有機カルボン酸を含む混合物がその目的
に適合することを見いだし、本発明に到達した。
ましい性質を有するフラックス洗浄剤を開発すべく鋭意
研究を重ねた結果、α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエ
ステル類および有機カルボン酸を含む混合物がその目的
に適合することを見いだし、本発明に到達した。
【０００８】すなわち、本発明は、α−ヒドロキシイソ
酪酸アルキルエステルおよび有機カルボン酸を有効成分
として含むことを特徴とするフラックス除去用洗浄剤に
関する。
酪酸アルキルエステルおよび有機カルボン酸を有効成分
として含むことを特徴とするフラックス除去用洗浄剤に
関する。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おける洗浄剤は、有効成分としてα−ヒドロキシイソ酪
酸アルキルエステルと有機カルボン酸が含有されている
ことが必須条件である。
おける洗浄剤は、有効成分としてα−ヒドロキシイソ酪
酸アルキルエステルと有機カルボン酸が含有されている
ことが必須条件である。
【００１０】本発明に用いるα−ヒドロキシイソ酪酸ア
ルキルエステルとしては、α−ヒドロキシイソ酪酸メチ
ル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイ
ソ酪酸イソプロピル、またはα−ヒドロキシイソ酪酸ブ
チルなどが挙げられ、特にα−ヒドロキシイソ酪酸メチ
ル、またはα−ヒドロキシイソ酪酸エチルが洗浄力など
の点から好ましい。これらのα−ヒドロキシイソ酪酸ア
ルキルエステルは単独で用いてもよいし、また２種以上
を組み合わせて用いてもよい。
ルキルエステルとしては、α−ヒドロキシイソ酪酸メチ
ル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイ
ソ酪酸イソプロピル、またはα−ヒドロキシイソ酪酸ブ
チルなどが挙げられ、特にα−ヒドロキシイソ酪酸メチ
ル、またはα−ヒドロキシイソ酪酸エチルが洗浄力など
の点から好ましい。これらのα−ヒドロキシイソ酪酸ア
ルキルエステルは単独で用いてもよいし、また２種以上
を組み合わせて用いてもよい。
【００１１】α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル
の濃度は、５０〜９９．９重量％の範囲にあることが好
ましい。より好ましくは８５〜９９．５重量％の範囲で
ある。α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル濃度が
５０％未満の場合は、本発明の特長である洗浄性、安全
性、操作性の良さなど損なわれることがある。
の濃度は、５０〜９９．９重量％の範囲にあることが好
ましい。より好ましくは８５〜９９．５重量％の範囲で
ある。α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステル濃度が
５０％未満の場合は、本発明の特長である洗浄性、安全
性、操作性の良さなど損なわれることがある。
【００１２】本発明に用いる有機カルボン酸としては、
α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルを主剤とする
溶液系に溶解するもので、洗浄性、操作性および安全性
等を考慮するとα−ヒドロキシイソ酪酸、乳酸、グリコ
ール酸、リンゴ酸、酒石酸、およびクエン酸等のような
ヒドロキシカルボン酸や、蓚酸、または琥珀酸のような
多価カルボン酸が好ましい。これらの有機カルボン酸の
併用によりフラックスに対する洗浄力は大幅に向上す
る。有機カルボン酸の濃度は、０．１〜５０重量％の範
囲にあることが好ましい。より好ましくは０．５〜１５
重量％の範囲である。
α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステルを主剤とする
溶液系に溶解するもので、洗浄性、操作性および安全性
等を考慮するとα−ヒドロキシイソ酪酸、乳酸、グリコ
ール酸、リンゴ酸、酒石酸、およびクエン酸等のような
ヒドロキシカルボン酸や、蓚酸、または琥珀酸のような
多価カルボン酸が好ましい。これらの有機カルボン酸の
併用によりフラックスに対する洗浄力は大幅に向上す
る。有機カルボン酸の濃度は、０．１〜５０重量％の範
囲にあることが好ましい。より好ましくは０．５〜１５
重量％の範囲である。
【００１３】本発明における有効成分の内、いずれか一
方が欠けた場合には洗浄力が悪くなる。本発明の洗浄剤
は更に親水性有機溶媒または水などを加えることがで
き、それにより洗浄性、操作性および安全性等の改善を
計ることができる。
方が欠けた場合には洗浄力が悪くなる。本発明の洗浄剤
は更に親水性有機溶媒または水などを加えることがで
き、それにより洗浄性、操作性および安全性等の改善を
計ることができる。
【００１４】併用される親水性有機溶媒としては、例え
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ピロ
リドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、
乳酸メチル、乳酸エチル、グリコール酸ブチル、α−メ
トキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸メチル、
ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリル、γ−ブ
チロラクトン、ジメチルスルホキシドまたはスルホラン
などが挙げられる。これらの親水性有機溶媒および水は
２種類以上を組み合わせて用いることもできる。濃度は
５〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。また、洗
浄力の向上などのため、界面活性剤類を必要により併用
することもできる。
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ピロ
リドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、
乳酸メチル、乳酸エチル、グリコール酸ブチル、α−メ
トキシイソ酪酸メチル、β−メトキシイソ酪酸メチル、
ニトロメタン、ニトロエタン、アセトニトリル、γ−ブ
チロラクトン、ジメチルスルホキシドまたはスルホラン
などが挙げられる。これらの親水性有機溶媒および水は
２種類以上を組み合わせて用いることもできる。濃度は
５〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。また、洗
浄力の向上などのため、界面活性剤類を必要により併用
することもできる。
【００１５】本発明の洗浄剤が適用されるハンダおよび
フラックスは特に制限されず、通常使用されているもの
の中から任意に選ぶことができる。
フラックスは特に制限されず、通常使用されているもの
の中から任意に選ぶことができる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例によって
具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定され
るものではない。
具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定され
るものではない。
【００１７】実施例１〜１１ プリント基板（銅張積層板）全面に市販のフラックス
〔タムラＦ−Ａ１−４、（株）タムラ製作所製〕を均一
に塗布した後、１００℃で予備乾燥し、次いで２２０℃
で焼き付けしたものを被洗物として用いた。洗浄試験
は、被洗物の基板を第１表に示す本発明の洗浄剤中に４
０℃で１分間浸漬振盪した後、水洗、乾燥し、被洗物表
面の残存付着量を測定し、洗浄力を評価した。
〔タムラＦ−Ａ１−４、（株）タムラ製作所製〕を均一
に塗布した後、１００℃で予備乾燥し、次いで２２０℃
で焼き付けしたものを被洗物として用いた。洗浄試験
は、被洗物の基板を第１表に示す本発明の洗浄剤中に４
０℃で１分間浸漬振盪した後、水洗、乾燥し、被洗物表
面の残存付着量を測定し、洗浄力を評価した。
【００１８】比較例１〜２ 比較のために、フラックス洗浄剤にフロン１１３あるい
は乳酸メチルを用いたこと以外は、上記実施例の方法に
準じて洗浄試験を行った。
は乳酸メチルを用いたこと以外は、上記実施例の方法に
準じて洗浄試験を行った。
【００１９】上記の実施例および比較例の結果を第１表
に示す。なお、残存付着量の測定は目視および金属顕微
鏡にて判定した。 ○：目視および金属顕微鏡にて残渣なし。 △：目視では残渣ないが、金属顕微鏡ではあり。 ×：目視にて残渣あり。
に示す。なお、残存付着量の測定は目視および金属顕微
鏡にて判定した。 ○：目視および金属顕微鏡にて残渣なし。 △：目視では残渣ないが、金属顕微鏡ではあり。 ×：目視にて残渣あり。
【００２０】
【００２１】
【発明の効果】本発明のフラックス除去用洗浄剤は、極
めて洗浄性に優れているうえ、環境保全上の問題もな
く、且つ安全性も高い。また、本発明は次のような利点
を有す。 （１）フラックスに対する溶解性が極めて高く、洗浄除
去性に優れる。 （２）環境破壊性物質の大気または水系への排出がな
い。 （３）生分解性であり、自然界への蓄積がない。 （４）低毒性であり、発ガン性などもない。 （５）沸点及び引火点が比較的高く、操作性や安全性も
著しく向上する。 （６）水溶性であり、水系での使用が可能である。 （７）基材を侵さない。
めて洗浄性に優れているうえ、環境保全上の問題もな
く、且つ安全性も高い。また、本発明は次のような利点
を有す。 （１）フラックスに対する溶解性が極めて高く、洗浄除
去性に優れる。 （２）環境破壊性物質の大気または水系への排出がな
い。 （３）生分解性であり、自然界への蓄積がない。 （４）低毒性であり、発ガン性などもない。 （５）沸点及び引火点が比較的高く、操作性や安全性も
著しく向上する。 （６）水溶性であり、水系での使用が可能である。 （７）基材を侵さない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:32）
Claims (4)
- 【請求項１】 α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステ
ルおよび有機カルボン酸を有効成分として含むことを特
徴とするフラックス除去用洗浄剤。 - 【請求項２】 洗浄剤が、水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、グ
リコール酸ブチル、α−メトキシイソ酪酸メチル、β−
メトキシイソ酪酸メチル、ニトロメタン、ニトロエタ
ン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、ジメチルス
ルホキシドおよびスルホランの中から選ばれた少なくと
も１種以上を含有するものである請求項１記載の洗浄
剤。 - 【請求項３】 α−ヒドロキシイソ酪酸アルキルエステ
ルが、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシ
イソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピル
およびα−ヒドロキシイソ酪酸ブチルの中から選ばれた
少なくとも１種である請求項１に記載の洗浄剤。 - 【請求項４】 有機カルボン酸が、α−ヒドロキシイソ
酪酸、乳酸、グリコール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン
酸、蓚酸および琥珀酸の中から選ばれた少なくとも１種
である請求項１に記載の洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10488093A JPH06293899A (ja) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | フラックス除去用洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10488093A JPH06293899A (ja) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | フラックス除去用洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06293899A true JPH06293899A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=14392509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10488093A Pending JPH06293899A (ja) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | フラックス除去用洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06293899A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
-
1993
- 1993-04-08 JP JP10488093A patent/JPH06293899A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
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