JPH06295671A - 蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材 - Google Patents
蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材Info
- Publication number
- JPH06295671A JPH06295671A JP5083590A JP8359093A JPH06295671A JP H06295671 A JPH06295671 A JP H06295671A JP 5083590 A JP5083590 A JP 5083590A JP 8359093 A JP8359093 A JP 8359093A JP H06295671 A JPH06295671 A JP H06295671A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer material
- phosphor
- layer
- forming
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/265—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used for the production of optical filters or electrical components
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス基板上に、特に陰極線管のフェースプ
レート上に蛍光膜を容易に効率よく形成することのでき
る蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材を提供
する 【構成】 熱転写性蛍光体層が導電性ベースフィルム上
に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス
基板に対向させ、前記転写材にレーザーを照射し、その
熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパター
ン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス
基板上に形成することを特徴とする蛍光膜形成方法及び
該転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィルム、または
熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中間層のうち
少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有することを特徴と
する蛍光膜形成用転写材
レート上に蛍光膜を容易に効率よく形成することのでき
る蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材を提供
する 【構成】 熱転写性蛍光体層が導電性ベースフィルム上
に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス
基板に対向させ、前記転写材にレーザーを照射し、その
熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパター
ン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス
基板上に形成することを特徴とする蛍光膜形成方法及び
該転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィルム、または
熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中間層のうち
少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有することを特徴と
する蛍光膜形成用転写材
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板上に、特に
陰極線管のフェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よ
く形成する方法及びそれに用いる転写材に関する。
陰極線管のフェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よ
く形成する方法及びそれに用いる転写材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、陰極線管のフェースプレート上に
蛍光膜を形成する方法として、スラリー塗布露光法や沈
降法が用いられている。
蛍光膜を形成する方法として、スラリー塗布露光法や沈
降法が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記した蛍
光膜を形成するスラリー塗布露光法は、蛍光体を例えば
ポリビニルアルコールと重クロム酸アンモニウムからな
る感光性樹脂中に分散させたスラリーを、フェースプレ
ート上に回転塗布・乾燥し、紫外線で所望のパターンを
露光する。その後水により現像し未露光部を除去し蛍光
膜を形成する方法である。
光膜を形成するスラリー塗布露光法は、蛍光体を例えば
ポリビニルアルコールと重クロム酸アンモニウムからな
る感光性樹脂中に分散させたスラリーを、フェースプレ
ート上に回転塗布・乾燥し、紫外線で所望のパターンを
露光する。その後水により現像し未露光部を除去し蛍光
膜を形成する方法である。
【０００４】したがって、スラリー塗布露光法によって
蛍光膜を形成すると、工程数が多く、装置も複雑であり
生産性に欠けるという欠点があった。また、沈降法によ
る蛍光膜の形成方法は、蛍光体と結合剤（水ガラス等）
を含む懸濁液中で、蛍光体をフェースプレート上に沈降
させた後、静かに上澄液を流しだして、蛍光膜を形成す
るという方法である。
蛍光膜を形成すると、工程数が多く、装置も複雑であり
生産性に欠けるという欠点があった。また、沈降法によ
る蛍光膜の形成方法は、蛍光体と結合剤（水ガラス等）
を含む懸濁液中で、蛍光体をフェースプレート上に沈降
させた後、静かに上澄液を流しだして、蛍光膜を形成す
るという方法である。
【０００５】したがって、蛍光体を沈降させるのに時間
がかかり、また所定のパターンを形成することが困難で
あるという欠点があった。本発明の目的は以上のような
問題点を解決し、ガラス基板上に、特に陰極線管のフェ
ースプレート上に蛍光膜を容易に効率よく形成すること
のできる蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材
を提供することである。
がかかり、また所定のパターンを形成することが困難で
あるという欠点があった。本発明の目的は以上のような
問題点を解決し、ガラス基板上に、特に陰極線管のフェ
ースプレート上に蛍光膜を容易に効率よく形成すること
のできる蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材
を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、近年ノンインパク
ト記録方法としてよく検討されている熱転写記録方法に
おいて、熱源としてレーザーを用いるレーザー熱転写記
録方法を利用すれば、非常に迅速にしかも効率よく陰極
線管のフェースプレート上に蛍光膜を形成することが出
来ることを見いだした。熱転写記録方法とは、例えば基
材上に熱溶融性インクを有したインクリボンを、インク
層の背面側からサーマルヘッドやレーザーなどの加熱素
子で加熱圧着することにより、インクを被記録紙に溶融
転写する方法であるが、その中で特にレーザーを加熱源
として利用すると、通常のサーマルヘッドを使用する場
合に比べて、更に次のようなメリットが生じるのであ
る。 （１）サーマルヘッドではヘッドの蓄熱があり、走査を
それほど速くできないが、レーザーではそのようなこと
が無いため、走査を非常に速く行え、サーマルヘッドを
使用する場合に比べて、さらに短時間で転写が行える。 （２）サーマルヘッド方式では加熱ドットの大きさが約
５０ないし２００μｍであるが、レーザーでは、１０μ
ｍ程度の加熱ドットを作ることができ、形成されるパタ
ーンの追随性が非常に良い。
を解決するために鋭意検討した結果、近年ノンインパク
ト記録方法としてよく検討されている熱転写記録方法に
おいて、熱源としてレーザーを用いるレーザー熱転写記
録方法を利用すれば、非常に迅速にしかも効率よく陰極
線管のフェースプレート上に蛍光膜を形成することが出
来ることを見いだした。熱転写記録方法とは、例えば基
材上に熱溶融性インクを有したインクリボンを、インク
層の背面側からサーマルヘッドやレーザーなどの加熱素
子で加熱圧着することにより、インクを被記録紙に溶融
転写する方法であるが、その中で特にレーザーを加熱源
として利用すると、通常のサーマルヘッドを使用する場
合に比べて、更に次のようなメリットが生じるのであ
る。 （１）サーマルヘッドではヘッドの蓄熱があり、走査を
それほど速くできないが、レーザーではそのようなこと
が無いため、走査を非常に速く行え、サーマルヘッドを
使用する場合に比べて、さらに短時間で転写が行える。 （２）サーマルヘッド方式では加熱ドットの大きさが約
５０ないし２００μｍであるが、レーザーでは、１０μ
ｍ程度の加熱ドットを作ることができ、形成されるパタ
ーンの追随性が非常に良い。
【０００７】すなわち、本発明の蛍光膜形成方法は、少
なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性
蛍光体層がベースフィルム上に形成された転写材の、前
記熱転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、前記転写
材にレーザーを照射し、その熱により前記熱転写性蛍光
体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成するこ
とにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成するものであ
る。
なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性
蛍光体層がベースフィルム上に形成された転写材の、前
記熱転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、前記転写
材にレーザーを照射し、その熱により前記熱転写性蛍光
体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成するこ
とにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成するものであ
る。
【０００８】また、本発明に用いる蛍光膜形成用転写材
は、少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱
転写性蛍光体層をベースフィルム上に形成されたもので
あるが、前記転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィル
ム、または熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中
間層のうち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有するこ
とが、特に好ましい。その理由としては、赤外線吸収剤
を使用することによって、レーザーの光熱変換効率が上
がるため、出力が比較的弱いが扱い易い半導体レーザー
も使用可能になるからである。
は、少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱
転写性蛍光体層をベースフィルム上に形成されたもので
あるが、前記転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィル
ム、または熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中
間層のうち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有するこ
とが、特に好ましい。その理由としては、赤外線吸収剤
を使用することによって、レーザーの光熱変換効率が上
がるため、出力が比較的弱いが扱い易い半導体レーザー
も使用可能になるからである。
【０００９】以下、陰極線管のフェースプレート上に蛍
光膜を形成する場合を例に挙げて、本発明について詳し
く述べる。本発明に用いる蛍光膜形成用転写材は、少な
くとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍
光体層がベースフィルム上に形成されたものであるが、
前記転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィルム、また
は熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中間層のう
ち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有することが、特
に好ましい。
光膜を形成する場合を例に挙げて、本発明について詳し
く述べる。本発明に用いる蛍光膜形成用転写材は、少な
くとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍
光体層がベースフィルム上に形成されたものであるが、
前記転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィルム、また
は熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中間層のう
ち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有することが、特
に好ましい。
【００１０】ベースフィルムとしては、従来より公知の
フィルムから適したものを選択し、使用することができ
る。例えば、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリイミド、セロハン等の比較
的耐熱性のよい樹脂フィルムが挙げられる。厚さは、１
〜２００μｍのものが望ましい。本発明に使用される例
示蛍光体としては、青色発光成分蛍光体として銀付活硫
化亜鉛系蛍光体、例えばＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ、
Ａｌの少なくとも１種、緑色発光成分蛍光体としては銅
付活硫化亜鉛系蛍光体、例えばＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ蛍光
体とＺｎＳ：Ａｕ、Ａｌ蛍光体の混合蛍光体、ＺｎＳ：
Ｃｕ、Ａｌ蛍光体、金、銅、およびアルミニウム付活硫
化亜鉛蛍光体（ＺｎＳ：Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ）、銅および
アルミニウム付活硫化亜鉛・カドミウム蛍光体［（Ｚ
ｎ、Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、Ａｌ］の少なくとも１種、赤色発
光成分蛍光体としてユーロピウム付活希土類酸化物系蛍
光体、例えばユーロピウム付活酸硫化イットリウム蛍光
体（Ｙ 2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ）、ユーロピウム付活酸化イットリ
ウム蛍光体（Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ）の少なくとも１種などの
従来から陰極線管に使用されている蛍光体を使用するこ
とができる。又、これら蛍光体にはフィルター硬化を有
する顔料を付着したものも使用される。この種の顔料と
しては例えば青色発光蛍光体にはアルミン酸コバルトや
群青等の青色顔料、緑色発光蛍光体にはＴｉＯ2・Ｚｎ
Ｏ・ＣｏＯ・ＮｉＯ系等の緑色顔料、赤色発光蛍光体に
はべんがらや硫セレン化カドミウム等の赤色顔料があ
る。蛍光体の大きさとしては、１〜２０μｍの範囲が望
ましく、２〜８μｍの範囲がより望ましい。
フィルムから適したものを選択し、使用することができ
る。例えば、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリイミド、セロハン等の比較
的耐熱性のよい樹脂フィルムが挙げられる。厚さは、１
〜２００μｍのものが望ましい。本発明に使用される例
示蛍光体としては、青色発光成分蛍光体として銀付活硫
化亜鉛系蛍光体、例えばＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ、
Ａｌの少なくとも１種、緑色発光成分蛍光体としては銅
付活硫化亜鉛系蛍光体、例えばＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ蛍光
体とＺｎＳ：Ａｕ、Ａｌ蛍光体の混合蛍光体、ＺｎＳ：
Ｃｕ、Ａｌ蛍光体、金、銅、およびアルミニウム付活硫
化亜鉛蛍光体（ＺｎＳ：Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ）、銅および
アルミニウム付活硫化亜鉛・カドミウム蛍光体［（Ｚ
ｎ、Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、Ａｌ］の少なくとも１種、赤色発
光成分蛍光体としてユーロピウム付活希土類酸化物系蛍
光体、例えばユーロピウム付活酸硫化イットリウム蛍光
体（Ｙ 2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ）、ユーロピウム付活酸化イットリ
ウム蛍光体（Ｙ2Ｏ3Ｓ：Ｅｕ）の少なくとも１種などの
従来から陰極線管に使用されている蛍光体を使用するこ
とができる。又、これら蛍光体にはフィルター硬化を有
する顔料を付着したものも使用される。この種の顔料と
しては例えば青色発光蛍光体にはアルミン酸コバルトや
群青等の青色顔料、緑色発光蛍光体にはＴｉＯ2・Ｚｎ
Ｏ・ＣｏＯ・ＮｉＯ系等の緑色顔料、赤色発光蛍光体に
はべんがらや硫セレン化カドミウム等の赤色顔料があ
る。蛍光体の大きさとしては、１〜２０μｍの範囲が望
ましく、２〜８μｍの範囲がより望ましい。
【００１１】熱溶融性バインダーとしては、パラフィン
ワックスやマイクロクリスタリンワックスおよびカルナ
バワックス、各種合成ワックスのようなワックス類、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリ
レート共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等
のような熱可塑性樹脂を使用することができる。その
他、必要に応じて、石油樹脂、ロジン誘導体、各種可塑
剤、流動パラフィンなどの柔軟材、及び蛍光体分散のた
めの各種分散剤などを用いることも可能である。
ワックスやマイクロクリスタリンワックスおよびカルナ
バワックス、各種合成ワックスのようなワックス類、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリ
レート共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等
のような熱可塑性樹脂を使用することができる。その
他、必要に応じて、石油樹脂、ロジン誘導体、各種可塑
剤、流動パラフィンなどの柔軟材、及び蛍光体分散のた
めの各種分散剤などを用いることも可能である。
【００１２】蛍光体と熱溶融性バインダーの比率は蛍光
体２０〜８０重量％に対し熱溶融性バインダー８０〜２
０重量％が望ましい。ベースフィルム上に上記熱転写性
蛍光体層を設ける方法としては、蛍光体を分散させた熱
溶融性バインダーをホットメルトコーティングやソルベ
ントコーティング、あるいはエマルジョンコーティング
などの方法で塗工することにより設けることができる。
熱転写性蛍光体層の厚みは３〜６０μｍの範囲が望まし
く、５〜３０μｍの範囲がさらに好ましい。これは薄す
ぎるとガラス基板上に形成される蛍光膜中の蛍光体料量
が不足する傾向を示し、厚すぎると熱転写性蛍光体層へ
の熱伝導等が不十分となって、所定のパターン形成が困
難になる傾向を示すからである。
体２０〜８０重量％に対し熱溶融性バインダー８０〜２
０重量％が望ましい。ベースフィルム上に上記熱転写性
蛍光体層を設ける方法としては、蛍光体を分散させた熱
溶融性バインダーをホットメルトコーティングやソルベ
ントコーティング、あるいはエマルジョンコーティング
などの方法で塗工することにより設けることができる。
熱転写性蛍光体層の厚みは３〜６０μｍの範囲が望まし
く、５〜３０μｍの範囲がさらに好ましい。これは薄す
ぎるとガラス基板上に形成される蛍光膜中の蛍光体料量
が不足する傾向を示し、厚すぎると熱転写性蛍光体層へ
の熱伝導等が不十分となって、所定のパターン形成が困
難になる傾向を示すからである。
【００１３】上記転写材には、必要に応じて、熱転写性
蛍光体層の、基材への接着性や、逆に基材からの剥離性
を上げるために、基材と熱転写性蛍光体層の間にそれぞ
れ接着層や剥離層を設けることができる。接着層や剥離
層の厚みは０．１〜２μｍの範囲が望ましい。その他、
フェースプレート面への接着性を上げるために、上記熱
転写性蛍光体層の基材とは反対側にさらに、接着層を設
けることも可能である。この接着層の厚みとしては０．
１〜２μｍの範囲が望ましい。
蛍光体層の、基材への接着性や、逆に基材からの剥離性
を上げるために、基材と熱転写性蛍光体層の間にそれぞ
れ接着層や剥離層を設けることができる。接着層や剥離
層の厚みは０．１〜２μｍの範囲が望ましい。その他、
フェースプレート面への接着性を上げるために、上記熱
転写性蛍光体層の基材とは反対側にさらに、接着層を設
けることも可能である。この接着層の厚みとしては０．
１〜２μｍの範囲が望ましい。
【００１４】また、出力の小さい半導体レーザーを使う
場合には、前記転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィ
ルム、または熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の
中間層のうち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有する
ことが、特に好ましいが、赤外線吸収剤としては、例え
ば、カーボンブラックや、特開昭６３−３１９１９１号
公報に記載されているようなシアニン系色素、スクワリ
ウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色
素、アズレニウム系色素、フタロシアニン系色素、など
公知の赤外線吸収剤を使用することができる。
場合には、前記転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィ
ルム、または熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の
中間層のうち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有する
ことが、特に好ましいが、赤外線吸収剤としては、例え
ば、カーボンブラックや、特開昭６３−３１９１９１号
公報に記載されているようなシアニン系色素、スクワリ
ウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色
素、アズレニウム系色素、フタロシアニン系色素、など
公知の赤外線吸収剤を使用することができる。
【００１５】赤外線吸収剤を熱転写性蛍光体層に含有さ
せるためには、蛍光体と一緒に熱溶融性バインダーの中
に分散させ、塗工すればよい。また、ベースフィルムの
中に分散させるには、フィルムを押し出し成型する際
に、樹脂中に予め、練り込んでおけば簡単に製造でき
る。中間層として設ける場合には、適当な樹脂バインダ
ーとの溶液を作り、熱転写性蛍光体層を塗工する前に、
同様に塗工することにより形成できる。尚、熱転写性蛍
光体層や中間層が発熱する場合は、ベースフィルムはレ
ーザーを透過するものであることが好ましい。
せるためには、蛍光体と一緒に熱溶融性バインダーの中
に分散させ、塗工すればよい。また、ベースフィルムの
中に分散させるには、フィルムを押し出し成型する際
に、樹脂中に予め、練り込んでおけば簡単に製造でき
る。中間層として設ける場合には、適当な樹脂バインダ
ーとの溶液を作り、熱転写性蛍光体層を塗工する前に、
同様に塗工することにより形成できる。尚、熱転写性蛍
光体層や中間層が発熱する場合は、ベースフィルムはレ
ーザーを透過するものであることが好ましい。
【００１６】図１〜図３に本発明の転写材の実施例を挙
げる。各図中、（１）は蛍光体、（２）は熱溶融性バイ
ンダー、（３）は赤外線吸収剤を表す。図１はベースフ
ィルム（４）上に赤外線吸収剤（３）を含有した熱転写
性蛍光体層（５）を設けた例であり、図２は、基材
（４）と熱転写性蛍光体層（５）の間に、（６）として
赤外線吸収剤（３）を含有した接着層または剥離層を設
けた例であり、図３は図１の構成例にさらに接着層
（７）を設け、かつ基材（４）中に赤外線吸収剤（３）
を含有させた例である。
げる。各図中、（１）は蛍光体、（２）は熱溶融性バイ
ンダー、（３）は赤外線吸収剤を表す。図１はベースフ
ィルム（４）上に赤外線吸収剤（３）を含有した熱転写
性蛍光体層（５）を設けた例であり、図２は、基材
（４）と熱転写性蛍光体層（５）の間に、（６）として
赤外線吸収剤（３）を含有した接着層または剥離層を設
けた例であり、図３は図１の構成例にさらに接着層
（７）を設け、かつ基材（４）中に赤外線吸収剤（３）
を含有させた例である。
【００１７】上記の熱転写材から熱転写性蛍光体層を転
写させるのには様々なレーザーを用いることができる。
例えば、アルゴンやクリプトンのようなイオンガスレー
ザー；銅、金、カドミウム等の金属蒸気レーザー；ルビ
ーやＹＡＧ等の固体状レーザー；７５０〜８７０ｎｍの
赤外領域におけるガリウムひ素輻射等のダイオードレー
ザーが挙げられる。実際には、サイズが小さくて、経費
も安く、安定性、信頼性、調節のしやすさの点からいっ
てＹＡＧレーザーやダイオードレーザーを使用するのが
望ましい。
写させるのには様々なレーザーを用いることができる。
例えば、アルゴンやクリプトンのようなイオンガスレー
ザー；銅、金、カドミウム等の金属蒸気レーザー；ルビ
ーやＹＡＧ等の固体状レーザー；７５０〜８７０ｎｍの
赤外領域におけるガリウムひ素輻射等のダイオードレー
ザーが挙げられる。実際には、サイズが小さくて、経費
も安く、安定性、信頼性、調節のしやすさの点からいっ
てＹＡＧレーザーやダイオードレーザーを使用するのが
望ましい。
【００１８】上記の熱転写性転写材を用い、陰極線管の
フェースプレート上に蛍光膜を形成する。上記転写材を
フェースプレート上に重ねて当接せしめ、その上から透
明のガラス板で圧着したり、または転写材とフェースプ
レートの間を真空に吸引したりして密着させる。レーザ
ーで走引した後、転写材を引き剥すと熱転写性蛍光体層
が転写される。蛍光体層の表面は平滑性の優れたものと
なる。
フェースプレート上に蛍光膜を形成する。上記転写材を
フェースプレート上に重ねて当接せしめ、その上から透
明のガラス板で圧着したり、または転写材とフェースプ
レートの間を真空に吸引したりして密着させる。レーザ
ーで走引した後、転写材を引き剥すと熱転写性蛍光体層
が転写される。蛍光体層の表面は平滑性の優れたものと
なる。
【００１９】ついで、フェースプレートを転写された蛍
光体層と共に焼成するが、この焼成は蛍光体や付着顔料
以外の有機成分を除去することを主目的とするもので、
従って蛍光体や付着顔料に悪影響を及ぼさぬ限り、上記
目的に応じた好適温度を任意に採用して良いが、通常は
４００〜５００℃の範囲から選択することが望ましい。
かくして蛍光膜が形成される。
光体層と共に焼成するが、この焼成は蛍光体や付着顔料
以外の有機成分を除去することを主目的とするもので、
従って蛍光体や付着顔料に悪影響を及ぼさぬ限り、上記
目的に応じた好適温度を任意に採用して良いが、通常は
４００〜５００℃の範囲から選択することが望ましい。
かくして蛍光膜が形成される。
【００２０】
【実施例】以下実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、その要旨を越えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。なお実施例中、「部」は「重量部」
を示す。 ［実施例１］インキ塗布面の背面が耐熱滑性加工された
ポリエチレンテレフタレートフィルム（６μｍ厚）上
に、下記組成のインキを、乾燥塗工厚みが１５μｍにな
るように、マイクログラビア法により塗工し、転写材を
得た。
するが、その要旨を越えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。なお実施例中、「部」は「重量部」
を示す。 ［実施例１］インキ塗布面の背面が耐熱滑性加工された
ポリエチレンテレフタレートフィルム（６μｍ厚）上
に、下記組成のインキを、乾燥塗工厚みが１５μｍにな
るように、マイクログラビア法により塗工し、転写材を
得た。
【００２１】
【表１】 組成 エチレン−酢酸ビニル樹脂エマルジョン １０部 （固形分４０％） パラフィンワックスエマルジョン ２０部 （固形分４０％） 蛍光体粉末（ＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ；粒径４．５μｍ） ２４部 水 ３０部 この転写材をフェースプレート上に重ね、透明なガラス
板で押さえた後、ガラス板の上から、レーザー光（ＹＡ
Ｇレーザー出力０．５Ｗ、ビーム径２０μｍ）でストラ
イプ状に走査露光を行った。転写材を引き剥すと、きれ
いなストライプ状の蛍光体層がフェースプレート上に得
られた。
板で押さえた後、ガラス板の上から、レーザー光（ＹＡ
Ｇレーザー出力０．５Ｗ、ビーム径２０μｍ）でストラ
イプ状に走査露光を行った。転写材を引き剥すと、きれ
いなストライプ状の蛍光体層がフェースプレート上に得
られた。
【００２２】上記フェースプレートを、４５０℃にて３
０分間焼成することにより有機成分を除去し、蛍光膜を
形成した。 ［実施例２］インキ塗布面の背面が耐熱滑性加工された
ポリエチレンテレフタレートフィルム（６μｍ厚）上
に、下記組成のインキを、乾燥塗工厚みが１５μｍにな
るように、ホットメルトマイクログラビア法により塗工
し、転写材を得た。
０分間焼成することにより有機成分を除去し、蛍光膜を
形成した。 ［実施例２］インキ塗布面の背面が耐熱滑性加工された
ポリエチレンテレフタレートフィルム（６μｍ厚）上
に、下記組成のインキを、乾燥塗工厚みが１５μｍにな
るように、ホットメルトマイクログラビア法により塗工
し、転写材を得た。
【００２３】
【表２】 組成 エチレン−酢酸ビニル樹脂 １部 パラフィンワックス ８部 合成ワックス １部 蛍光体粉末（ＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ；粒径４．５μｍ） ４０部 赤外線吸収性色素 ２部 この転写材をフェースプレート上に重ね、実施例１と同
様に、透明なガラス板で押えながら、ガラス板の上から
レーザー光（ダイオードレーザー８３０ｎｍ；出力０．
１Ｗ、ビーム径１５μｍ）でストライプ状に走査露光を
行った。転写材を引き剥すと、きれいなストライプ状の
蛍光体層がフェースプレート上に得られた。
様に、透明なガラス板で押えながら、ガラス板の上から
レーザー光（ダイオードレーザー８３０ｎｍ；出力０．
１Ｗ、ビーム径１５μｍ）でストライプ状に走査露光を
行った。転写材を引き剥すと、きれいなストライプ状の
蛍光体層がフェースプレート上に得られた。
【００２４】上記フェースプレートを、４５０℃にて３
０分間焼成することにより有機成分を除去し、蛍光膜を
形成した。
０分間焼成することにより有機成分を除去し、蛍光膜を
形成した。
【００２５】
【発明の効果】本発明によると、熱転写性蛍光体層は、
ガラス基板上に簡単に精度良く形成できるので、蛍光膜
の形成の生産性が非常に向上する。また、蛍光体層は、
レーザー光により任意のパターンに転写できるので、熱
転写性蛍光体層を有する転写材を、非常に効率よく生産
することができる。
ガラス基板上に簡単に精度良く形成できるので、蛍光膜
の形成の生産性が非常に向上する。また、蛍光体層は、
レーザー光により任意のパターンに転写できるので、熱
転写性蛍光体層を有する転写材を、非常に効率よく生産
することができる。
【図１】本発明の蛍光膜形成用転写材の一実施例を表す
断面図。
断面図。
【図２】本発明の蛍光膜形成用転写材の一実施例を表す
断面図。
断面図。
【図３】本発明の蛍光膜形成用転写材の一実施例を表す
断面図。
断面図。
【図４】本発明の転写方式の説明図。
１ 蛍光体 ２ 熱溶融性バインダー ３ 赤外線吸収剤 ４ ベースフィルム ５ 熱転写性蛍光体層 ６ 接着層または剥離層 ７ 接着層 ８ フェースプレート ９ ガラス板 １０ レンズ １１ レーザー光源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒田 勝彦 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 小栗 康生 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 内田 博 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダー
とを含む熱転写性蛍光体層がベースフィルム上に形成さ
れた転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス基板に対
向させ、前記転写材にレーザーを照射し、その熱により
前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパターン状に転
写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス基板上に
形成することを特徴とする蛍光膜形成方法 - 【請求項２】 少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダー
とを含む熱転写性蛍光体層をベースフィルム上に有する
蛍光膜形成用転写材において、前記転写材が熱転写性蛍
光体層、ベースフィルム、または熱転写性蛍光体層とベ
ースフィルムの間の中間層のうち少なくとも一層に赤外
線吸収剤を含有することを特徴とする蛍光膜形成用転写
材
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5083590A JPH06295671A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材 |
| PCT/JP1994/000359 WO1994020974A1 (fr) | 1993-03-11 | 1994-03-07 | Procede de realisation d'un film fluorescent, et materiau de transfert pour la realisation de ce film |
| EP94908503A EP0641008A4 (en) | 1993-03-11 | 1994-03-07 | Process for forming a fluorescent film and transfer material for forming the fluorescent film. |
| KR1019940704045A KR950701764A (ko) | 1993-03-11 | 1994-03-07 | 형광막 형성방법 및 형광막 형성용 전사재 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5083590A JPH06295671A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06295671A true JPH06295671A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=13806711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5083590A Pending JPH06295671A (ja) | 1993-03-11 | 1993-04-09 | 蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06295671A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000515083A (ja) * | 1996-07-23 | 2000-11-14 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 高解像度発光アレイの作成方法およびそれに対応する物品 |
| JP2010062143A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-03-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
| JP2018502955A (ja) * | 2014-12-17 | 2018-02-01 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ | レーザーマーキングおよびレーザー溶接可能なポリマー材料 |
-
1993
- 1993-04-09 JP JP5083590A patent/JPH06295671A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000515083A (ja) * | 1996-07-23 | 2000-11-14 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 高解像度発光アレイの作成方法およびそれに対応する物品 |
| JP2010280902A (ja) * | 1996-07-23 | 2010-12-16 | Three M Innovative Properties Co | 高解像度発光アレイの作成方法およびそれに対応する物品 |
| JP2010062143A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-03-18 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法 |
| JP2018502955A (ja) * | 2014-12-17 | 2018-02-01 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ | レーザーマーキングおよびレーザー溶接可能なポリマー材料 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69728696T2 (de) | Organische Elektrolumineszenzanzeige und Verfahren zu deren Herstellung durch thermische Übertragung | |
| JPH0732797A (ja) | 転写紙 | |
| EP0641008A1 (en) | Method for forming fluorescent film, and transfer material for formation of the fluorescent film | |
| JPS63214481A (ja) | 感熱転写材 | |
| JPH06295671A (ja) | 蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材 | |
| JPS62105689A (ja) | 熱転写用受容シ−ト | |
| JPH11301121A (ja) | 蛍光剤入り感熱転写記録媒体及び画像形成方法 | |
| JPH1153496A (ja) | 印刷物 | |
| JPH06302270A (ja) | 蛍光膜形成方法 | |
| JPH06267415A (ja) | 蛍光膜形成方法及びそれに用いる蛍光膜形成用転写材 | |
| JPH06295672A (ja) | 熱転写方式による蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材 | |
| JPS62249793A (ja) | 感熱転写記録媒体 | |
| JPH02253988A (ja) | レーザ記録用熱転写シートおよびそれを使用した画像記録法 | |
| JPS6360788A (ja) | 放電転写記録媒体 | |
| JPH06267417A (ja) | 熱転写方式による蛍光膜形成方法 | |
| JPH06267419A (ja) | 熱転写方式による蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材 | |
| JPH06267418A (ja) | 熱転写方式による蛍光膜形成方法 | |
| JPH01135687A (ja) | 感熱転写記録媒体 | |
| JPH06295670A (ja) | 蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材 | |
| JPH06267416A (ja) | 熱転写方式による蛍光膜形成方法 | |
| JP2799863B2 (ja) | 昇華熱転写記録用受像媒体 | |
| JPH0864133A (ja) | 熱転写方式による蛍光膜形成用転写材 | |
| JPH0945241A (ja) | 蛍光膜形成用熱転写シート及び蛍光膜形成方法 | |
| JPH11323311A (ja) | 近赤外線吸収組成物 | |
| EP0331731B1 (en) | Thermal transfer material |