JPH06295670A - 蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材 - Google Patents
蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材Info
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- JPH06295670A JPH06295670A JP8358993A JP8358993A JPH06295670A JP H06295670 A JPH06295670 A JP H06295670A JP 8358993 A JP8358993 A JP 8358993A JP 8358993 A JP8358993 A JP 8358993A JP H06295670 A JPH06295670 A JP H06295670A
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス基板上に、特に陰極線管のフェースプ
レート上に蛍光膜を容易に効率よく形成することのでき
る蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材を提供
する 【構成】 熱転写性蛍光体層が導電性ベースフィルム上
に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス
基板に対向させ、記録電極を通じて前記導電性ベースフ
ィルムに電流を流すことにより導電性ベースフィルム中
にジュール熱を発生させ、その熱により前記熱転写性蛍
光体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成する
ことにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成することを
特徴とする蛍光膜形成方法
レート上に蛍光膜を容易に効率よく形成することのでき
る蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材を提供
する 【構成】 熱転写性蛍光体層が導電性ベースフィルム上
に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス
基板に対向させ、記録電極を通じて前記導電性ベースフ
ィルムに電流を流すことにより導電性ベースフィルム中
にジュール熱を発生させ、その熱により前記熱転写性蛍
光体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成する
ことにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成することを
特徴とする蛍光膜形成方法
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板上に、特に
陰極線管のフェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よ
く形成する方法及びそれに用いる転写材に関する。
陰極線管のフェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よ
く形成する方法及びそれに用いる転写材に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、陰極線管のフェースプレート上に
蛍光膜を形成する方法として、スラリー塗布露光法や沈
降法が用いられている。
蛍光膜を形成する方法として、スラリー塗布露光法や沈
降法が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記した蛍
光膜を形成するスラリー塗布露光法は、蛍光体を例えば
ポリビニルアルコールと重クロム酸アンモニウムからな
る感光性樹脂中に分散させたスラリーを、フェースプレ
ート上に回転塗布・乾燥し、紫外線で所望のパターンを
露光する。その後水により現像し未露光部を除去し蛍光
膜を形成する方法である。
光膜を形成するスラリー塗布露光法は、蛍光体を例えば
ポリビニルアルコールと重クロム酸アンモニウムからな
る感光性樹脂中に分散させたスラリーを、フェースプレ
ート上に回転塗布・乾燥し、紫外線で所望のパターンを
露光する。その後水により現像し未露光部を除去し蛍光
膜を形成する方法である。
【0004】したがって、スラリー塗布露光法によって
蛍光膜を形成すると、工程数が多く、装置も複雑であり
生産性に欠けるという欠点があった。また、沈降法によ
る蛍光膜の形成方法は、蛍光体と結合剤(水ガラス等)
を含む懸濁液中で、蛍光体をフェースプレート上に沈降
させた後、静かに上澄液を流しだして、蛍光膜を形成す
るという方法である。
蛍光膜を形成すると、工程数が多く、装置も複雑であり
生産性に欠けるという欠点があった。また、沈降法によ
る蛍光膜の形成方法は、蛍光体と結合剤(水ガラス等)
を含む懸濁液中で、蛍光体をフェースプレート上に沈降
させた後、静かに上澄液を流しだして、蛍光膜を形成す
るという方法である。
【0005】したがって、蛍光体を沈降させるのに時間
がかかり、また所定のパターンを形成することが困難で
あるという欠点があった。この発明の目的は以上のよう
な問題点を解決し、ガラス基板上に、特に陰極線管のフ
ェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よく形成するこ
とのできる蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写
材を提供することである。
がかかり、また所定のパターンを形成することが困難で
あるという欠点があった。この発明の目的は以上のよう
な問題点を解決し、ガラス基板上に、特に陰極線管のフ
ェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よく形成するこ
とのできる蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写
材を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、近年プリンターな
どによく使用されている熱転写記録方法を利用すれば、
非常に簡単にしかも効率よく陰極線管のフェースプレー
ト上に蛍光体を形成することを見いだした。また、熱転
写記録方法において、熱源として導電性フィルムに記録
電極を通じて電流を流すことによって発生するジュール
熱を利用する通電転写記録方法を利用すれば、非常に迅
速にしかも効率よく陰極線管のフェースプレート上に蛍
光膜を形成することが出来ることを見いだした。通電転
写記録方法によると、サーマルヘッドを使用する通常の
熱転写記録方法に比べて、更に次のようなメリットが生
じるのである。 (1)サーマルヘッド方式では、サーマルヘッド自体が
発熱するため、ヘッドが冷却する時間が必要であり、走
査をそれほど速くできないが、通電転写では記録電極自
体は発熱しないので、先の冷却時間が不要であり、走査
が非常に速く行える。その結果サーマルヘッドを使用す
る場合に比べて、さらに短時間で転写が行える。 (2)サーマルヘッド方式では、通常ポリエチレンテレ
フタレートなどの基材を通して間接的にインク層に熱を
伝えているため、熱効率がそれほど良くないが、通電転
写記録方法では、基材の中で熱を発生させるため、直接
的にインク層に熱がつたわり、熱効率が非常に良い。そ
の結果、印加エネルギーが少なくて済んだり、インクバ
インダーの選択の幅が非常に広がる。
を解決するために鋭意検討した結果、近年プリンターな
どによく使用されている熱転写記録方法を利用すれば、
非常に簡単にしかも効率よく陰極線管のフェースプレー
ト上に蛍光体を形成することを見いだした。また、熱転
写記録方法において、熱源として導電性フィルムに記録
電極を通じて電流を流すことによって発生するジュール
熱を利用する通電転写記録方法を利用すれば、非常に迅
速にしかも効率よく陰極線管のフェースプレート上に蛍
光膜を形成することが出来ることを見いだした。通電転
写記録方法によると、サーマルヘッドを使用する通常の
熱転写記録方法に比べて、更に次のようなメリットが生
じるのである。 (1)サーマルヘッド方式では、サーマルヘッド自体が
発熱するため、ヘッドが冷却する時間が必要であり、走
査をそれほど速くできないが、通電転写では記録電極自
体は発熱しないので、先の冷却時間が不要であり、走査
が非常に速く行える。その結果サーマルヘッドを使用す
る場合に比べて、さらに短時間で転写が行える。 (2)サーマルヘッド方式では、通常ポリエチレンテレ
フタレートなどの基材を通して間接的にインク層に熱を
伝えているため、熱効率がそれほど良くないが、通電転
写記録方法では、基材の中で熱を発生させるため、直接
的にインク層に熱がつたわり、熱効率が非常に良い。そ
の結果、印加エネルギーが少なくて済んだり、インクバ
インダーの選択の幅が非常に広がる。
【0007】すなわち、本発明の要旨は、少なくとも蛍
光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体層が
導電性ベースフィルム上に形成された転写材の、前記熱
転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、記録電極を通
じて前記導電性ベースフィルムに電流を流すことにより
導電性ベースフィルム中にジュール熱を発生させ、その
熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパター
ン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス
基板上に形成するということを特徴とする蛍光膜形成方
法、およびそれに用いる、少なくとも蛍光体と熱溶融性
バインダーとを含む熱転写性蛍光体層を導電性ベースフ
ィルム上に有することを特徴とする蛍光膜形成用転写材
に存する。
光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体層が
導電性ベースフィルム上に形成された転写材の、前記熱
転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、記録電極を通
じて前記導電性ベースフィルムに電流を流すことにより
導電性ベースフィルム中にジュール熱を発生させ、その
熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパター
ン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス
基板上に形成するということを特徴とする蛍光膜形成方
法、およびそれに用いる、少なくとも蛍光体と熱溶融性
バインダーとを含む熱転写性蛍光体層を導電性ベースフ
ィルム上に有することを特徴とする蛍光膜形成用転写材
に存する。
【0008】以下、陰極線管のフェースプレート上に蛍
光膜を形成する場合を例に挙げて、本発明について詳し
く述べる。熱転写記録方法とは、現在パーソナルワープ
ロや、カラープリンター等で広く利用されているよう
に、基材上に熱溶融性インクを有したインクリボンを、
インク層の背面側からサーマルヘッド等の加熱源により
所望箇所のみ加熱圧着して、所望のパターンを形成する
方法である。
光膜を形成する場合を例に挙げて、本発明について詳し
く述べる。熱転写記録方法とは、現在パーソナルワープ
ロや、カラープリンター等で広く利用されているよう
に、基材上に熱溶融性インクを有したインクリボンを、
インク層の背面側からサーマルヘッド等の加熱源により
所望箇所のみ加熱圧着して、所望のパターンを形成する
方法である。
【0009】本発明の蛍光膜形成用転写材は、少なくと
も蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体
層を導電性ベースフィルム上に有する。導電性ベースフ
ィルムとしては、錫、銅、銀等の金属粉や、導電性カー
ボンを練り込んだポリカーボネート、ポリスルフォン、
ポリエーテルスルフォン、ポリイミド等の耐熱性のよい
単層樹脂フィルムが使用できる。これらのフィルムの厚
さは、1〜50μmのものが望ましい。あるいは、前記
導電性粉末をポリエステルやポリウレタン、アクリル樹
脂などのバインダー中に分散させた溶液を、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)などの樹脂フィルムの上に
塗工して塗工導電層を形成した2層樹脂フィルムを使用
することもできる。前記バインダーは、イソシアネート
や、メラミンなどの架橋剤により塗工後に硬化させるこ
とが、さらに好ましい。支持体のフィルムの厚さは、1
〜20μm、また導電性塗工物の乾燥塗工厚さは、1〜
30μmの範囲が望ましい。これら導電性フィルムは、
0.5〜100Ωcmの抵抗値を持つものが望ましい。こ
れら導電性フィルムとしては、市販のものを使用するこ
とも可能である。例えばBayer製マクロホール(ポ
リカーボネート樹脂、厚み15μm)、東レTX−1
(ポリイミド樹脂、厚み10μm)などが好適に使用で
きる。
も蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体
層を導電性ベースフィルム上に有する。導電性ベースフ
ィルムとしては、錫、銅、銀等の金属粉や、導電性カー
ボンを練り込んだポリカーボネート、ポリスルフォン、
ポリエーテルスルフォン、ポリイミド等の耐熱性のよい
単層樹脂フィルムが使用できる。これらのフィルムの厚
さは、1〜50μmのものが望ましい。あるいは、前記
導電性粉末をポリエステルやポリウレタン、アクリル樹
脂などのバインダー中に分散させた溶液を、ポリエチレ
ンテレフタレート(PET)などの樹脂フィルムの上に
塗工して塗工導電層を形成した2層樹脂フィルムを使用
することもできる。前記バインダーは、イソシアネート
や、メラミンなどの架橋剤により塗工後に硬化させるこ
とが、さらに好ましい。支持体のフィルムの厚さは、1
〜20μm、また導電性塗工物の乾燥塗工厚さは、1〜
30μmの範囲が望ましい。これら導電性フィルムは、
0.5〜100Ωcmの抵抗値を持つものが望ましい。こ
れら導電性フィルムとしては、市販のものを使用するこ
とも可能である。例えばBayer製マクロホール(ポ
リカーボネート樹脂、厚み15μm)、東レTX−1
(ポリイミド樹脂、厚み10μm)などが好適に使用で
きる。
【0010】導電性ベースフィルムには、単層樹脂フィ
ルムでは熱転写性蛍光体層を設ける側に、アルミニウ
ム、銅等の金属薄膜層を設けることも可能である。ま
た、コーティングタイプの2層樹脂フィルムでは、支持
体と塗工導電層の間に前記金属薄膜層を設けることも可
能である。金属薄膜層は、従来公知の真空蒸着法や、化
学メッキ法などにより容易に設けることができる。金属
薄膜層の厚みは0.05〜1μm程度の範囲が好まし
い。
ルムでは熱転写性蛍光体層を設ける側に、アルミニウ
ム、銅等の金属薄膜層を設けることも可能である。ま
た、コーティングタイプの2層樹脂フィルムでは、支持
体と塗工導電層の間に前記金属薄膜層を設けることも可
能である。金属薄膜層は、従来公知の真空蒸着法や、化
学メッキ法などにより容易に設けることができる。金属
薄膜層の厚みは0.05〜1μm程度の範囲が好まし
い。
【0011】本発明に使用される例示蛍光体としては、
青色発光成分蛍光体として銀付活硫化亜鉛系蛍光体、例
えばZnS:Ag、ZnS:Ag、Alの少なくとも1
種、緑色発光成分蛍光体としては銅付活硫化亜鉛系蛍光
体、例えばZnS:Cu、Al蛍光体とZnS:Au、
Al蛍光体の混合蛍光体、ZnS:Cu、Al蛍光体、
金、銅、およびアルミニウム付活硫化亜鉛蛍光体(Zn
S:Au、Cu、Al)、銅およびアルミニウム付活硫
化亜鉛・カドミウム蛍光体[(Zn、Cd)S:Cu、
Al]の少なくとも1種、赤色発光成分蛍光体としてユ
ーロピウム付活希土類酸化物系蛍光体、例えばユーロピ
ウム付活酸硫化イットリウム蛍光体(Y2O2S:E
u)、ユーロピウム付活酸化イットリウム蛍光体(Y2
O3S:Eu)の少なくとも1種などの従来から陰極線
管に使用されている蛍光体を使用することができる。
又、これら蛍光体にはフィルター硬化を有する顔料を付
着したものも使用される。この種の顔料としては例えば
青色発光蛍光体にはアルミン酸コバルトや群青等の青色
顔料、緑色発光蛍光体にはTiO2・ZnO・CoO・
NiO系等の緑色顔料、赤色発光蛍光体にはべんがらや
硫セレン化カドミウム等の赤色顔料がある。蛍光体の大
きさとしては、1〜20μmの範囲が望ましく、2〜8
μmの範囲がより望ましい。
青色発光成分蛍光体として銀付活硫化亜鉛系蛍光体、例
えばZnS:Ag、ZnS:Ag、Alの少なくとも1
種、緑色発光成分蛍光体としては銅付活硫化亜鉛系蛍光
体、例えばZnS:Cu、Al蛍光体とZnS:Au、
Al蛍光体の混合蛍光体、ZnS:Cu、Al蛍光体、
金、銅、およびアルミニウム付活硫化亜鉛蛍光体(Zn
S:Au、Cu、Al)、銅およびアルミニウム付活硫
化亜鉛・カドミウム蛍光体[(Zn、Cd)S:Cu、
Al]の少なくとも1種、赤色発光成分蛍光体としてユ
ーロピウム付活希土類酸化物系蛍光体、例えばユーロピ
ウム付活酸硫化イットリウム蛍光体(Y2O2S:E
u)、ユーロピウム付活酸化イットリウム蛍光体(Y2
O3S:Eu)の少なくとも1種などの従来から陰極線
管に使用されている蛍光体を使用することができる。
又、これら蛍光体にはフィルター硬化を有する顔料を付
着したものも使用される。この種の顔料としては例えば
青色発光蛍光体にはアルミン酸コバルトや群青等の青色
顔料、緑色発光蛍光体にはTiO2・ZnO・CoO・
NiO系等の緑色顔料、赤色発光蛍光体にはべんがらや
硫セレン化カドミウム等の赤色顔料がある。蛍光体の大
きさとしては、1〜20μmの範囲が望ましく、2〜8
μmの範囲がより望ましい。
【0012】熱溶融性バインダーとしては、パラフィン
ワックスやマイクロクリスタリンワックスおよびカルナ
バワックス、各種合成ワックスのようなワックス類、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリ
レート共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等
のような熱可塑性樹脂を使用することができる。その
他、必要に応じて、石油樹脂、ロジン誘導体、各種可塑
剤、流動パラフィンなどの柔軟材、及び蛍光体分散のた
めの各種分散剤などを用いることも可能である。
ワックスやマイクロクリスタリンワックスおよびカルナ
バワックス、各種合成ワックスのようなワックス類、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリ
レート共重合体、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂等
のような熱可塑性樹脂を使用することができる。その
他、必要に応じて、石油樹脂、ロジン誘導体、各種可塑
剤、流動パラフィンなどの柔軟材、及び蛍光体分散のた
めの各種分散剤などを用いることも可能である。
【0013】蛍光体と熱溶融性バインダーの比率は蛍光
体20〜80重量%に対し熱溶融性バインダー80〜2
0重量%が望ましい。導電性ベースフィルム上に上記熱
転写性蛍光体層を設ける方法としては、蛍光体を分散さ
せた熱溶融性バインダーをホットメルトコーティングや
ソルベントコーティング、あるいはエマルジョンコーテ
ィングなどの方法で塗工することにより設けることがで
きる。熱転写性蛍光体層の厚みは3〜60μmの範囲が
望ましく、5〜30μmの範囲がさらに好ましい。これ
は薄すぎるとガラス基板上に形成される蛍光膜中の蛍光
体料量が不足する傾向を示し、厚すぎると熱転写性蛍光
体層への熱伝導等が不十分となって、所定のパターン形
成が困難になる傾向を示すからである。
体20〜80重量%に対し熱溶融性バインダー80〜2
0重量%が望ましい。導電性ベースフィルム上に上記熱
転写性蛍光体層を設ける方法としては、蛍光体を分散さ
せた熱溶融性バインダーをホットメルトコーティングや
ソルベントコーティング、あるいはエマルジョンコーテ
ィングなどの方法で塗工することにより設けることがで
きる。熱転写性蛍光体層の厚みは3〜60μmの範囲が
望ましく、5〜30μmの範囲がさらに好ましい。これ
は薄すぎるとガラス基板上に形成される蛍光膜中の蛍光
体料量が不足する傾向を示し、厚すぎると熱転写性蛍光
体層への熱伝導等が不十分となって、所定のパターン形
成が困難になる傾向を示すからである。
【0014】上記転写材には、必要に応じて、熱転写性
蛍光体層の、基材への接着性や、逆に基材からの剥離性
を上げるために、基材と熱転写性蛍光体層の間にそれぞ
れ接着層や剥離層を設けることができる。接着層や剥離
層の厚みは0.1〜2μmの範囲が望ましい。その他、
フェースプレート面への接着性を上げるために、上記熱
転写性蛍光体層の基材とは反対側にさらに、接着層を設
けることも可能である。この接着層の厚みとしては0.
1〜2μmの範囲が望ましい。
蛍光体層の、基材への接着性や、逆に基材からの剥離性
を上げるために、基材と熱転写性蛍光体層の間にそれぞ
れ接着層や剥離層を設けることができる。接着層や剥離
層の厚みは0.1〜2μmの範囲が望ましい。その他、
フェースプレート面への接着性を上げるために、上記熱
転写性蛍光体層の基材とは反対側にさらに、接着層を設
けることも可能である。この接着層の厚みとしては0.
1〜2μmの範囲が望ましい。
【0015】図1〜図3に本発明の転写材の実施例を挙
げる。各図中、(1)は蛍光体、(2)は熱溶融性バイ
ンダーを表す。図1は導電性フィルム(3)上に直接、
熱転写性蛍光体層(4)を設けた例であり、図2は、導
電性フィルム(3)上に金属薄膜層(5)を設け、金属
薄膜層(5)と熱転写性蛍光体層の間に(6)として接
着層または剥離層を設けた例であり、図3は金属薄膜層
(5)、塗工導電層(8)を設けた基材(7)上に熱転
写性蛍光体層(4)、接着層(9)を設けた例である。
げる。各図中、(1)は蛍光体、(2)は熱溶融性バイ
ンダーを表す。図1は導電性フィルム(3)上に直接、
熱転写性蛍光体層(4)を設けた例であり、図2は、導
電性フィルム(3)上に金属薄膜層(5)を設け、金属
薄膜層(5)と熱転写性蛍光体層の間に(6)として接
着層または剥離層を設けた例であり、図3は金属薄膜層
(5)、塗工導電層(8)を設けた基材(7)上に熱転
写性蛍光体層(4)、接着層(9)を設けた例である。
【0016】本発明の転写材を使用して通電転写を行う
場合、電極ユニットとしては、従来公知の通電転写方法
に使用されている電極ユニットがすべて使用可能であ
る。金属薄膜層を有しない転写材を使用する場合には、
例えば、図4、図5に示すように互いに反対の極性を有
し近接している一対の電極(10)と(11)が多数集
合してなる電極ユニット(12)が使用可能である。ま
た、金属薄膜層を有する転写材を使用する場合には、例
えば、図6、図7、図8に示すように多数の電極(1
3)を有する記録電極(14)と、それから少し離れ
た、該記録電極と反対の極性を有する1個の帰路電極
(15)からなる電極ユニットが使用可能である。
場合、電極ユニットとしては、従来公知の通電転写方法
に使用されている電極ユニットがすべて使用可能であ
る。金属薄膜層を有しない転写材を使用する場合には、
例えば、図4、図5に示すように互いに反対の極性を有
し近接している一対の電極(10)と(11)が多数集
合してなる電極ユニット(12)が使用可能である。ま
た、金属薄膜層を有する転写材を使用する場合には、例
えば、図6、図7、図8に示すように多数の電極(1
3)を有する記録電極(14)と、それから少し離れ
た、該記録電極と反対の極性を有する1個の帰路電極
(15)からなる電極ユニットが使用可能である。
【0017】上記転写材と電極を使って記録する場合に
は、記録電極と帰路電極の間に電圧10〜20V、周波
数2〜10KHz、パルス幅100〜500μ秒のパル
ス信号を印加し、記録電極下の導電性シート中にジュー
ル熱を発生させれば、熱点写生蛍光体層を転写させるこ
とが可能になる。上記の熱転写性転写材を用い、陰極線
管のフェースプレート上に蛍光膜を形成する。
は、記録電極と帰路電極の間に電圧10〜20V、周波
数2〜10KHz、パルス幅100〜500μ秒のパル
ス信号を印加し、記録電極下の導電性シート中にジュー
ル熱を発生させれば、熱点写生蛍光体層を転写させるこ
とが可能になる。上記の熱転写性転写材を用い、陰極線
管のフェースプレート上に蛍光膜を形成する。
【0018】上記転写材を、その熱転写性蛍光体層がフ
ェースプレートと対向する様にフェースプレート上に重
ねて当接せしめその上から電極ユニットにて圧着する。
電極ユニットを走査しながら、記録電極と帰路電極の間
に電流を流した後、転写材を引き剥すと熱転写性蛍光体
層が転写される。蛍光体層の表面は平滑性の優れたもの
となる。
ェースプレートと対向する様にフェースプレート上に重
ねて当接せしめその上から電極ユニットにて圧着する。
電極ユニットを走査しながら、記録電極と帰路電極の間
に電流を流した後、転写材を引き剥すと熱転写性蛍光体
層が転写される。蛍光体層の表面は平滑性の優れたもの
となる。
【0019】ついで、フェースプレートを転写された蛍
光体層と共に焼成するが、この焼成は蛍光体や付着顔料
以外の有機成分を除去することを主目的とするもので、
従って蛍光体や付着顔料に悪影響を及ぼさぬ限り、上記
目的に応じた好適温度を任意に採用して良いが、通常は
400〜500℃の範囲から選択することが望ましい。
かくして蛍光膜が形成される。
光体層と共に焼成するが、この焼成は蛍光体や付着顔料
以外の有機成分を除去することを主目的とするもので、
従って蛍光体や付着顔料に悪影響を及ぼさぬ限り、上記
目的に応じた好適温度を任意に採用して良いが、通常は
400〜500℃の範囲から選択することが望ましい。
かくして蛍光膜が形成される。
【0020】
【実施例】以下実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、その要旨を越えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。なお実施例中、「部」は「重量部」
を示す。 [実施例1]厚さ0.1μmのアルミニウム蒸着層を有
した厚さ15μmのポリカーボネート製の導電性フィル
ム(商品名;マクロホール、Bayer製;体積固有抵
抗1.0Ω・cm)のアルミニウム蒸着層の上に、下記
組成のインキを、乾燥塗工厚みが15μmになるよう
に、マイクログラビア法により塗工し、転写材を得た。
するが、その要旨を越えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。なお実施例中、「部」は「重量部」
を示す。 [実施例1]厚さ0.1μmのアルミニウム蒸着層を有
した厚さ15μmのポリカーボネート製の導電性フィル
ム(商品名;マクロホール、Bayer製;体積固有抵
抗1.0Ω・cm)のアルミニウム蒸着層の上に、下記
組成のインキを、乾燥塗工厚みが15μmになるよう
に、マイクログラビア法により塗工し、転写材を得た。
【0021】
【表1】 組成 エチレン−酢酸ビニル樹脂エマルジョン 10部 (固形分40%) パラフィンワックスエマルジョン 20部 (固形分40%) 蛍光体粉末(ZnS:Cu、Al;粒径4.5μm) 24部 水 30部 この転写材をインキ側がフェースプレートに接触するよ
うにフェースプレート上に重ね、図8に記載したような
10ドット/mmの電極を有する試作記録電極で押さえ
た後、記録電極と帰路電極の間に下記条件で電流を流し
ながら、記録電極を走査させた。転写材を引き剥すと、
きれいなストライプ状の蛍光体層がフェースプレート上
に得られた。
うにフェースプレート上に重ね、図8に記載したような
10ドット/mmの電極を有する試作記録電極で押さえ
た後、記録電極と帰路電極の間に下記条件で電流を流し
ながら、記録電極を走査させた。転写材を引き剥すと、
きれいなストライプ状の蛍光体層がフェースプレート上
に得られた。
【0022】
【表2】 記録ライン密度 10ドット/mm 記録電極印加電圧 18V 周波数 4KHz 記録速度 50mm/秒 印加パターン 1ライン印加有り2ライン印加
無し 上記フェースプレートを、450℃にて30分間焼成す
ることにより有機成分を除去し、蛍光膜が形成された。 [実施例2]厚さ0.1μmのアルミニウム蒸着層を有
した厚さ10μmのアラミド製の導電性フィルム(商品
名;TX−1、東レ製;体積固有抵抗 0.8Ω・c
m)のアルミニウム蒸着層の上に、下記組成のインキ
を、乾燥塗工厚みが15μmになるように、マイクログ
ラビア法により塗工し、転写材を得た。
無し 上記フェースプレートを、450℃にて30分間焼成す
ることにより有機成分を除去し、蛍光膜が形成された。 [実施例2]厚さ0.1μmのアルミニウム蒸着層を有
した厚さ10μmのアラミド製の導電性フィルム(商品
名;TX−1、東レ製;体積固有抵抗 0.8Ω・c
m)のアルミニウム蒸着層の上に、下記組成のインキ
を、乾燥塗工厚みが15μmになるように、マイクログ
ラビア法により塗工し、転写材を得た。
【0023】
【表3】 組成 エチレン−酢酸ビニル樹脂 1部 パラフィンワックス 8部 合成ワックス 1部 蛍光体粉末(ZnS:Cu、Al;粒径4.5μm) 40部 この転写材をインキ側がフェースプレートに接触するよ
うにフェースプレート上に重ね、実施例1と同様に10
ドット/mmの電極を有する試作記録電極で押さえた
後、記録電極と帰路電極の間に実施例1と同じ条件で電
流を流しながら、記録電極を走査させた。転写材を引き
剥すと、きれいなストライプ状の蛍光体層がフェースプ
レート上に得られた。
うにフェースプレート上に重ね、実施例1と同様に10
ドット/mmの電極を有する試作記録電極で押さえた
後、記録電極と帰路電極の間に実施例1と同じ条件で電
流を流しながら、記録電極を走査させた。転写材を引き
剥すと、きれいなストライプ状の蛍光体層がフェースプ
レート上に得られた。
【0024】
【表4】 記録ライン密度 10ドット/mm 記録電極印加電圧 20V 周波数 5KHz 記録速度 80mm/秒 印加パターン 1ライン印加有り2ライン印加
無し 上記フェースプレートを、450℃にて30分間焼成す
ることにより有機成分を除去し、蛍光膜を形成した。
無し 上記フェースプレートを、450℃にて30分間焼成す
ることにより有機成分を除去し、蛍光膜を形成した。
【0025】
【発明の効果】本発明によると、熱転写性蛍光体層は、
ガラス基板上に簡単に精度良く形成できるので、蛍光膜
の形成の生産性が非常に向上する。また、蛍光体層は、
任意のパターンに転写できるので、熱転写性蛍光体層を
有する転写材は、それほど印刷精度を要求されることも
なく、非常に効率よく生産することができる。
ガラス基板上に簡単に精度良く形成できるので、蛍光膜
の形成の生産性が非常に向上する。また、蛍光体層は、
任意のパターンに転写できるので、熱転写性蛍光体層を
有する転写材は、それほど印刷精度を要求されることも
なく、非常に効率よく生産することができる。
【図1】本発明の蛍光膜形成用転写材の一実施例を示す
断面図。
断面図。
【図2】本発明の蛍光膜形成用転写材の一実施例を示す
断面図。
断面図。
【図3】本発明の蛍光膜形成用転写材の一実施例を示す
断面図。
断面図。
【図4】通電転写法に使用される電極の一例の断面図。
【図5】通電転写法に使用される電極の一例の断面図。
【図6】通電転写法に使用される電極の一例の断面図。
【図7】通電転写法に使用される電極の一例の断面図。
【図8】本発明の通電転写法による転写工程の図。
1 蛍光体 2 熱溶融性バインダー 3 導電性フィルム 4 熱転写性蛍光体層 5 金属薄膜層 6 接着層または剥離層 7 基材 8 塗工導電層 9 接着層 10 電極 11 電極 12 電極ユニット 13 電極 14 記録電極 15 帰路電極 16 フェースプレート
フロントページの続き (72)発明者 黒田 勝彦 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 小栗 康生 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 内田 博 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項1】 少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダー
とを含む熱転写性蛍光体層が導電性ベースフィルム上に
形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス基
板に対向させ、記録電極を通じて前記導電性ベースフィ
ルムに電流を流すことにより導電性ベースフィルム中に
ジュール熱を発生させ、その熱により前記熱転写性蛍光
体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成するこ
とにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成することを特
徴とする蛍光膜形成方法 - 【請求項2】 少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダー
とを含む熱転写性蛍光体層を導電性ベースフィルム上に
有することを特徴とする蛍光膜形成用転写材
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8358993A JPH06295670A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8358993A JPH06295670A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06295670A true JPH06295670A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=13806682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8358993A Pending JPH06295670A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 蛍光膜形成方法およびそれに用いる蛍光膜形成用転写材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06295670A (ja) |
-
1993
- 1993-04-09 JP JP8358993A patent/JPH06295670A/ja active Pending
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