JPH0629643A - 非貫通穴を有するプリント配線板の製造方法 - Google Patents

非貫通穴を有するプリント配線板の製造方法

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Publication number
JPH0629643A
JPH0629643A JP18402992A JP18402992A JPH0629643A JP H0629643 A JPH0629643 A JP H0629643A JP 18402992 A JP18402992 A JP 18402992A JP 18402992 A JP18402992 A JP 18402992A JP H0629643 A JPH0629643 A JP H0629643A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
hole
printed wiring
treatment liquid
penetration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18402992A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Takada
裕二 高田
Ritsuji Toba
律司 鳥羽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0629643A publication Critical patent/JPH0629643A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】非貫通プリント配線板のめっきボイドを防止す
るために、非貫通穴内の異物除去を行なう方法を提供す
る。 【構成】非貫通プリント配線板の非貫通穴内に処理液を
満たした後、穴内処理液の突沸点以上の液温を有する別
の処理液に非貫通プリント配線板を浸漬する。 【効果】非貫通プリント配線板の異物づまりによるめっ
きボイドを大幅に減少させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、非貫通穴を有するプリ
ント基板の製造方法に係り、特に、非貫通穴におけるめ
っきボイドの発生を防止するための前処理を行う、非貫
通穴を有するプリント配線板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板は、配線の高密度化と、
搭載する部品の表面実装化に対応するため、非貫通穴が
多く使用されるようになった。
【0003】しかし、非貫通穴めっき工程において、異
物(基材くず等)が原因となり、めっきボイド(不析
出)欠陥が発生することが多い。
【0004】このようなめっきボイド欠陥の発生を防止
するための従来技術はなく、特開平2−108483号
公報等に開示されたレーザー加工法しかない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来は、非貫通穴内の
異物が原因となるめっき欠陥の発生を防止することはで
きず、さらに非貫通穴のアスペクト比が高くなった場合
には、めっき欠陥の発生率も高くなるという問題点があ
る。
【0006】本発明の目的は、非貫通プリント配線板め
っき処理において、非貫通穴内の異物を除去して、めっ
きボイドの発生を防止することができる、非貫通穴を有
するプリント基板の製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、前記目
的を達成するため、めっき前処理として、非貫通穴内に
処理液を満たした後、処理液の突沸点以上の液温を有す
る別の処理液に非貫通プリント配線板を浸漬する処理を
行って、穴内処理液の突沸により非貫通穴内の異物除去
を行なう。
【0008】
【作用】非貫通プリント配線板の非貫通穴内に処理液を
満たした後、穴内処理液の突沸点以上の液温となる別の
処理液に非貫通プリント配線板を浸漬することにより、
穴内処理液が、別の処理液におきかわる際に突沸して、
非貫通穴内の異物が除去される。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【0010】サンプルは、板厚3mmのガラスエポキシ
銅張積層板に、ドリル径0.3mmを用いて、深さ0.
5mmをあけたものを用いた。
【0011】「実施例1」図1に従来例としての標準工
法(サンプルA)を示す。
【0012】一般的な無電解銅めっき薬品を使用した標
準工法(脱気→脱脂→水洗→ソフトエッチング→水洗→
10%硫酸→水洗→プリディップ→増感剤→水洗→密着
促進剤→水洗→無電解銅めっき)でサンプルを処理し
た。これを従来例(サンプルA)とした。ただし脱気と
は、純水などの処理液を沸騰させて、その後、該処理液
を冷却してスルホール内の空気を除去する工程である。
【0013】図1に本発明工法(サンプルB)を示す。
【0014】前述標準工法の脱気処理後に、処理を追加
した。この処理方法は、苛性ソーダ溶液(240g/
l)を用いた。また大気圧(760mmHg)におい
て、純水の沸点は100℃、苛性ソーダ溶液(240g
/l)の沸点は108℃である。サンプルを純水を用い
て脱気処理後、苛性ソーダ溶液(液温108℃)に3分
間浸漬した。この処理方法は、非貫通穴内の純水が、苛
性ソーダ溶液におきかわる時に突沸して穴内の異物を除
去する方法である。そしてサンプルを取り出して、水洗
を5分間行なった。その後、前述標準工法の脱気工程か
らサンプルを処理した。これを、本発明工法(サンプル
B)とした。
【0015】サンプルA並びにサンプルBを、エポキシ
系樹脂に埋込み、研磨後、それぞれ100穴の断面観察
した。図2に断面観察結果を示す。従来方法によるサン
プルAは、2穴にめっきボイドが発生したが、サンプル
Bは、めっきボイドの発生はなかった。
【0016】「実施例2」図1に別の本発明工法(サン
プルC)を示す。
【0017】前述標準工法の脱気処理後に、苛性ソーダ
溶液(液温108℃)に3分間浸漬した。そして純水を
注入して、苛性ソーダ溶液の液温を60℃まで下げた。
その後、前述標準工法の脱脂工程からサンプルを処理し
た。これを本発明工法(サンプルC)とした。
【0018】サンプルCを、エポキシ系樹脂に埋込み、
研磨後100穴の断面観察した。図2に断面観察結果を
示す。サンプルCは、めっきボイドの発生はなかった。
【0019】すなわち、標準工法に非貫通穴内に純水な
どの処理液を満たした後、該処理液の突沸点以上の液温
となる苛性ソーダなどの処理液に非貫通プリント配線板
を浸漬することで、めっきボイドの発生を防止できる。
【0020】実施例1,2では、穴内処理液として純水
を用いたが、水に完全に溶解する溶液でもよく、また大
気圧でなくてもよい。
【0021】
【発明の効果】本発明によれば、非貫通穴内の異物を除
去して、めっきボイド欠陥のないめっきが得られ効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】標準工法と本発明工法の工程図である。
【図2】めっきボイド発生率の結果図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非貫通穴をあける工程、および、この非貫
    通穴を含めてめっきを行う工程を有するプリント基板の
    製造方法において、 めっき前処理として、非貫通穴内に処理液を満たし、脱
    気処理後、該処理液の突沸点以上の液温を有する別の処
    理液に、非貫通プリント配線板を浸漬する処理を行うこ
    と特徴とする、非貫通穴を有するプリント配線板の製造
    方法。
JP18402992A 1992-07-10 1992-07-10 非貫通穴を有するプリント配線板の製造方法 Pending JPH0629643A (ja)

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JP18402992A JPH0629643A (ja) 1992-07-10 1992-07-10 非貫通穴を有するプリント配線板の製造方法

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JPH0629643A true JPH0629643A (ja) 1994-02-04

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JP18402992A Pending JPH0629643A (ja) 1992-07-10 1992-07-10 非貫通穴を有するプリント配線板の製造方法

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JP (1) JPH0629643A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6544585B1 (en) 1997-09-02 2003-04-08 Ebara Corporation Method and apparatus for plating a substrate

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6544585B1 (en) 1997-09-02 2003-04-08 Ebara Corporation Method and apparatus for plating a substrate

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