JPH06298672A - キラリティ識別剤およびクロマトグラフィー用分離剤 - Google Patents
キラリティ識別剤およびクロマトグラフィー用分離剤Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学異性体混合物をクロマトグラフィーを用
いて分離するためのキラリティ識別剤および充填剤を提
供する。 【構成】 【化１】 で示されるオルガノシラン化合物、例えばＬ−酒石酸−
バリンが結合したアミノプロピルトリエトキシシランが
表面にヒドロキシ基をもつ無機担体にグラフトされた形
のキラリティ識別剤。図１において、１はＮ−３,５−
ジニトロベンゾイル−(Ｓ)−１−フェニルエチルアミン
のピーク、２はＮ−３,５−ジニトロベンゾイル−(Ｒ)
−１−フェニルエチルアミンのピークを示す。
いて分離するためのキラリティ識別剤および充填剤を提
供する。 【構成】 【化１】 で示されるオルガノシラン化合物、例えばＬ−酒石酸−
バリンが結合したアミノプロピルトリエトキシシランが
表面にヒドロキシ基をもつ無機担体にグラフトされた形
のキラリティ識別剤。図１において、１はＮ−３,５−
ジニトロベンゾイル−(Ｓ)−１−フェニルエチルアミン
のピーク、２はＮ−３,５−ジニトロベンゾイル−(Ｒ)
−１−フェニルエチルアミンのピークを示す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は上記一般式で示される
酒石酸モノアミド化合物の用途に関するものである。上
記用途には、アミノ酸、オキシ酸等の光学異性体を直接
分離し得る配位子交換機能部とアミンやアミノ酸、カル
ボン酸等の光学異性体の誘導体を分離し得る水素結合相
互作用部位を合わせ持つキラリティ識別剤およびクロマ
トグラフィー充填剤としての用途が含まれる。
酒石酸モノアミド化合物の用途に関するものである。上
記用途には、アミノ酸、オキシ酸等の光学異性体を直接
分離し得る配位子交換機能部とアミンやアミノ酸、カル
ボン酸等の光学異性体の誘導体を分離し得る水素結合相
互作用部位を合わせ持つキラリティ識別剤およびクロマ
トグラフィー充填剤としての用途が含まれる。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】酒石
酸を利用した液体クロマトグラフィーによる光学分割法
としては、酒石酸のモノ−ｎ−オクチルアミド［(１)ジ
ャーナル・オブ・リキッド・クロマトグラフィー(Ｊ．
Ｌiq．Ｃhromatogr．)第９巻第５５１頁(１９８６)］ま
たはジ−イソプロピルアミド誘導体［(２)第４６回分析
科学討論会講演要旨集第５３頁(１９８５年)］を液相分
離剤として用いる方法が知られているが、これらは分離
剤を移動相に使用するため溶離液から分離剤を再分離す
ることが必要なため、煩雑である。
酸を利用した液体クロマトグラフィーによる光学分割法
としては、酒石酸のモノ−ｎ−オクチルアミド［(１)ジ
ャーナル・オブ・リキッド・クロマトグラフィー(Ｊ．
Ｌiq．Ｃhromatogr．)第９巻第５５１頁(１９８６)］ま
たはジ−イソプロピルアミド誘導体［(２)第４６回分析
科学討論会講演要旨集第５３頁(１９８５年)］を液相分
離剤として用いる方法が知られているが、これらは分離
剤を移動相に使用するため溶離液から分離剤を再分離す
ることが必要なため、煩雑である。
【０００３】分離剤として(Ｒ,Ｒ)−酒石酸−モノ−イ
ソプロピルアミド(３)、(Ｒ,Ｒ)−酒石酸−モノ−１−
(α−ナフチル)エチルアミド［(４)日本分析化学会第３
４年会講演要旨集第３１０頁(１９８５年)］および(Ｒ,
Ｒ)−酒石酸−モノ−イソプロピルアミド［(５)第４８
回分析化学討論会講演要旨集第１３頁(１９８７年)］を
シリカゲルに共有結合させて固定相とするものもある
が、いずれも配位子交換型でないため光学分割能が低
い。そのほか、(Ｒ,Ｒ)酒石酸をシリカゲルに共有結合
させて固定相とする方法があり［(６)フレゼニウス・ツ
ァイトシュリフト・フュル・アナリティシェ・ヘミー(F
resenius Z. Anal. Chem.)第３２０巻第５１−５４
頁］、これは正相系でのキラル識別に有効な水素結合相
互作用機能を有するアミノ酸アミド部位を持たないため
正相系における光学分割能が極めて乏しいという欠点を
有する。この発明は、上記のような欠点をもたない分離
剤を提供しようとするものである。
ソプロピルアミド(３)、(Ｒ,Ｒ)−酒石酸−モノ−１−
(α−ナフチル)エチルアミド［(４)日本分析化学会第３
４年会講演要旨集第３１０頁(１９８５年)］および(Ｒ,
Ｒ)−酒石酸−モノ−イソプロピルアミド［(５)第４８
回分析化学討論会講演要旨集第１３頁(１９８７年)］を
シリカゲルに共有結合させて固定相とするものもある
が、いずれも配位子交換型でないため光学分割能が低
い。そのほか、(Ｒ,Ｒ)酒石酸をシリカゲルに共有結合
させて固定相とする方法があり［(６)フレゼニウス・ツ
ァイトシュリフト・フュル・アナリティシェ・ヘミー(F
resenius Z. Anal. Chem.)第３２０巻第５１−５４
頁］、これは正相系でのキラル識別に有効な水素結合相
互作用機能を有するアミノ酸アミド部位を持たないため
正相系における光学分割能が極めて乏しいという欠点を
有する。この発明は、上記のような欠点をもたない分離
剤を提供しようとするものである。
【０００４】
一般式：
【化２】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、同一または異なって、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはハロゲ
ン原子を表し、少なくともその１つはアルコキシ基また
はハロゲン原子である。Ｒ4は低級アルキレン基、Ｒ5は
光学活性アミノ酸またはそのＤ異性体から１個のアミノ
基と１個のカルボキシ基を除いた残基、Ｒ6は、水素ま
たは低級アルキル基であるか、またはＲ6はＲ5と一緒に
なってイミノ酸またはそのＤ異性体から１個のイミノ基
と１個のカルボキシ基を除いた残基(但し、上記Ｒ5にお
いて、残っているＯＨ、ＮＨ、ＮＨ2は基−Ｙ−Ｚ−で
置換されていてもよい。ここで−Ｙ−は−ＣＯ−または
−ＣＯＮＨ−、Ｚは低級アルキル、単環もしくは２環ア
リール基または単環もしくは２環アラルキル基であ
る)。なお酒石酸部分およびアミノ酸もしくはイミノ酸
部分は光学活性形である。］で示されるオルガノシラン
化合物が、表面にヒドロキシ基をもつ無機担体にグラフ
トされた形の構造を有する、キラリティ識別剤およびク
ロマトグラフィー用充填剤を提供するものである。
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはハロゲ
ン原子を表し、少なくともその１つはアルコキシ基また
はハロゲン原子である。Ｒ4は低級アルキレン基、Ｒ5は
光学活性アミノ酸またはそのＤ異性体から１個のアミノ
基と１個のカルボキシ基を除いた残基、Ｒ6は、水素ま
たは低級アルキル基であるか、またはＲ6はＲ5と一緒に
なってイミノ酸またはそのＤ異性体から１個のイミノ基
と１個のカルボキシ基を除いた残基(但し、上記Ｒ5にお
いて、残っているＯＨ、ＮＨ、ＮＨ2は基−Ｙ−Ｚ−で
置換されていてもよい。ここで−Ｙ−は−ＣＯ−または
−ＣＯＮＨ−、Ｚは低級アルキル、単環もしくは２環ア
リール基または単環もしくは２環アラルキル基であ
る)。なお酒石酸部分およびアミノ酸もしくはイミノ酸
部分は光学活性形である。］で示されるオルガノシラン
化合物が、表面にヒドロキシ基をもつ無機担体にグラフ
トされた形の構造を有する、キラリティ識別剤およびク
ロマトグラフィー用充填剤を提供するものである。
【０００５】上記の一般式(I)において、Ｒ1、Ｒ2およ
びＲ3のアルキル基としては、炭素原子数１−２０のも
のが好ましく、１−１２のものがさらに好ましく、１−
６のものが最も好ましい。好適なものは低級アルキル基
であり、これには炭素原子数１−６のものが含まれる。
アルキル基は直鎖または分枝鎖の何れでもよい。代表的
なアルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3
は同一でも異なってもよい。アルコキシ基としては、上
記のようなアルキル基が酸素原子と結合して生ずる基が
含まれる。好適なものは低級アルコキシ基である。ハロ
ゲン原子としては、塩素、臭素、よう素等が含まれる。
びＲ3のアルキル基としては、炭素原子数１−２０のも
のが好ましく、１−１２のものがさらに好ましく、１−
６のものが最も好ましい。好適なものは低級アルキル基
であり、これには炭素原子数１−６のものが含まれる。
アルキル基は直鎖または分枝鎖の何れでもよい。代表的
なアルキル基の例は、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3
は同一でも異なってもよい。アルコキシ基としては、上
記のようなアルキル基が酸素原子と結合して生ずる基が
含まれる。好適なものは低級アルコキシ基である。ハロ
ゲン原子としては、塩素、臭素、よう素等が含まれる。
【０００６】上記の一般式(I)において、Ｒ4の低級アル
キレン基としては、炭素原子数１−６の直鎖または分枝
鎖の基、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、１
−メチルエチレン、２−メチルトリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が含まれ
る。
キレン基としては、炭素原子数１−６の直鎖または分枝
鎖の基、例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、１
−メチルエチレン、２−メチルトリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が含まれ
る。
【０００７】Ｒ6の低級アルキル基としては、炭素原子
数１−６のものが最も好ましい。代表的な低級アルキル
基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等が含まれる。
数１−６のものが最も好ましい。代表的な低級アルキル
基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等が含まれる。
【０００８】単環または２環アリール基としては、ベン
ゼン核を１個または２個有する基、例えばフェニル、ト
リル、キシリル、クメリル、ナフチルまたはメチルナフ
チルが含まれる。単環もしくは２環アラルキル基として
は、同様にベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、１
−ナフチルエチル等が含まれる。これらはニトロ基で置
換されていてもよい。単環もしくは２環アリール基また
は単環もしくは２環アラルキル基の環上にニトロ基が存
在する場合、これが通常１−５個、好ましくは１−３
個、例えば１個または２個が置換可能な任意の位置に結
合し得る。具体的には、例えば３,５−ジニトロフェニ
ル、３−ニトロベンジル等が含まれる。
ゼン核を１個または２個有する基、例えばフェニル、ト
リル、キシリル、クメリル、ナフチルまたはメチルナフ
チルが含まれる。単環もしくは２環アラルキル基として
は、同様にベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、１
−ナフチルエチル等が含まれる。これらはニトロ基で置
換されていてもよい。単環もしくは２環アリール基また
は単環もしくは２環アラルキル基の環上にニトロ基が存
在する場合、これが通常１−５個、好ましくは１−３
個、例えば１個または２個が置換可能な任意の位置に結
合し得る。具体的には、例えば３,５−ジニトロフェニ
ル、３−ニトロベンジル等が含まれる。
【０００９】Ｒ4およびＲ6に不斉炭素が含まれていても
よい。アミノ酸としては、アスパラギン、アスパラギン
酸、アミノ酪酸、アラニン、β−アラニン、アルギニ
ン、イソロイシン、オルニチン、グルタミン、グルタミ
ン酸、セリン、チロシン、トリプトファン、トレオニ
ン、ノルロイシン、バリン、ヒスチジン、フェニルグリ
シン、フェニルアラニン、メチオニン、リジン、ロイシ
ン等が含まれ、イミノ酸としては、プロリン、ヒドロキ
シプロリン、ヒスチジン等が含まれる。これらの多くは
天然に存在するものおよびその同族体である。これらは
通常α炭素原子に結合したカルボキシ基およびアミノ
（イミノ）基から結合手を出しているが、ω炭素原子に
結合した基から出している場合もある（例：リジン）。
なお、酒石酸部分は光学活性形、すなわち(Ｒ,Ｒ)−酒
石酸［ｄ−または、L−またはR(R*,R*)-(天然形)酒石
酸］形、および(Ｓ,Ｓ)酒石酸［ｌ−またはD−または
S(R*,R*)-酒石酸］形のいずれか、またはそのいずれか
が優勢な混合物である。また、アミノ酸もしくはイミノ
酸部分は光学活性形、すなわちＬまたはＤ形である。
よい。アミノ酸としては、アスパラギン、アスパラギン
酸、アミノ酪酸、アラニン、β−アラニン、アルギニ
ン、イソロイシン、オルニチン、グルタミン、グルタミ
ン酸、セリン、チロシン、トリプトファン、トレオニ
ン、ノルロイシン、バリン、ヒスチジン、フェニルグリ
シン、フェニルアラニン、メチオニン、リジン、ロイシ
ン等が含まれ、イミノ酸としては、プロリン、ヒドロキ
シプロリン、ヒスチジン等が含まれる。これらの多くは
天然に存在するものおよびその同族体である。これらは
通常α炭素原子に結合したカルボキシ基およびアミノ
（イミノ）基から結合手を出しているが、ω炭素原子に
結合した基から出している場合もある（例：リジン）。
なお、酒石酸部分は光学活性形、すなわち(Ｒ,Ｒ)−酒
石酸［ｄ−または、L−またはR(R*,R*)-(天然形)酒石
酸］形、および(Ｓ,Ｓ)酒石酸［ｌ−またはD−または
S(R*,R*)-酒石酸］形のいずれか、またはそのいずれか
が優勢な混合物である。また、アミノ酸もしくはイミノ
酸部分は光学活性形、すなわちＬまたはＤ形である。
【００１０】本発明において、表面にヒドロキシ基を持
つ無機担体としては、例えばシリカゲル、多孔性ガラス
等のけい素含有担体が好ましく、担体の形状は球状、破
砕状等の何れの形状でも差し支えないが、高収率のクロ
マトグラフ用カラムを得るために、できるだけ粒径の揃
った微細な粒子が好ましい。「グラフトされた形の構
造」とは、結果として２つの部分のグラフト生成物とし
て定義された構造をもっている限り、実際にそのものを
得た製造法が１段階グラフト化であるか多段階グラフト
化であるか、および多段階の場合の反応順序を問わず包
含させる趣旨である。なお、グラフトに際し、式Ｉの化
合物の基Ｒ1〜Ｒ3の一部または全部（通常１〜２個）が
担体のヒドロキシ基と反応してエーテル型結合−Ｏ−Ｓ
ｉを形成する。
つ無機担体としては、例えばシリカゲル、多孔性ガラス
等のけい素含有担体が好ましく、担体の形状は球状、破
砕状等の何れの形状でも差し支えないが、高収率のクロ
マトグラフ用カラムを得るために、できるだけ粒径の揃
った微細な粒子が好ましい。「グラフトされた形の構
造」とは、結果として２つの部分のグラフト生成物とし
て定義された構造をもっている限り、実際にそのものを
得た製造法が１段階グラフト化であるか多段階グラフト
化であるか、および多段階の場合の反応順序を問わず包
含させる趣旨である。なお、グラフトに際し、式Ｉの化
合物の基Ｒ1〜Ｒ3の一部または全部（通常１〜２個）が
担体のヒドロキシ基と反応してエーテル型結合−Ｏ−Ｓ
ｉを形成する。
【００１１】上記の式(Ｉ)で示されるクロマトグラフィ
ー用充填剤を調製するに際しては種々のグラフト法が採
用できるが、このようなグラフト法としては例えば以下
のような方法が挙げられる。表面にヒドロキシ基を有す
る無機担体に、アミノアルキルシランを反応させて、無
機担体の表面にアミノアルキルシリル残基を導入し、こ
れに光学活性なアミノ酸もしくはイミノ酸および酒石酸
(官能基は適宜保護してよい)を反応させ、脱水縮合させ
る方法。
ー用充填剤を調製するに際しては種々のグラフト法が採
用できるが、このようなグラフト法としては例えば以下
のような方法が挙げられる。表面にヒドロキシ基を有す
る無機担体に、アミノアルキルシランを反応させて、無
機担体の表面にアミノアルキルシリル残基を導入し、こ
れに光学活性なアミノ酸もしくはイミノ酸および酒石酸
(官能基は適宜保護してよい)を反応させ、脱水縮合させ
る方法。
【００１２】具体的には、表面にヒドロキシ基を有する
無機担体に、一般式(II)
無機担体に、一般式(II)
【化３】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は前述と同じ意味を有
する。］で示されるアミノアルキルシランを反応させ
て、無機担体の表面にアミノアルキルシリル残基を導入
し、次いでこれに一般式
する。］で示されるアミノアルキルシランを反応させ
て、無機担体の表面にアミノアルキルシリル残基を導入
し、次いでこれに一般式
【化４】 で示されるカルボン酸またはそのカルボキシ基における
反応性誘導体および一般式
反応性誘導体および一般式
【化５】 で示されるカルボン酸またはそのカルボキシ基における
反応性誘導体を順次反応させ、脱水縮合させることによ
り目的とする充填剤が得られる。上式中、Ｐ1、Ｐ2、Ｐ
3およびＰ4は、アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキ
シ基の保護基としてペプチド化学で常用される保護基で
ある。このような保護基は、その脱離法と共に「新実験
化学講座」第１４巻に記載されている。
反応性誘導体を順次反応させ、脱水縮合させることによ
り目的とする充填剤が得られる。上式中、Ｐ1、Ｐ2、Ｐ
3およびＰ4は、アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキ
シ基の保護基としてペプチド化学で常用される保護基で
ある。このような保護基は、その脱離法と共に「新実験
化学講座」第１４巻に記載されている。
【００１３】具体的には、「アミノ保護基」は、例えば
「新実験化学講座」第１４巻第２５５５−２５６９頁に
記載されており、例えば、アシル型のものとして、ホル
ミル(ＨＣl／ＣＨ3ＯＨで脱離)、アセチル(酸またはア
ルカリで脱離)等の低級アルカノイル基、２−クロロプ
ロピオニル(酸またはアルカリで脱離)等のハロ低級アル
カノイル基、ベンゾイル(酸またはアルカリで脱離)等の
アリールカルボニル基、フェニルプロピオニル(酸また
はアルカリで脱離)等のアリール低級アルカノイル基、
ウレタン型のものとして、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、第３級ブトキシカルボニル(ＨＢrまたは
ＨＣl／ＡcＯＨで脱離)等の低級アルコキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル(Ｈ2／Ｐd、ＨＩまたは
ＨＢrまたはＨＣl／ＡcＯＨ等で脱離)、２−(ｐ−ビフ
ェニリル)イソプロポキシカルボニル(ＡcＯＨ／ＨＣＯ
ＯＨ、トリフルオロ酢酸等で脱離)等のアリール低級ア
ルキルオキシカルボニル基、アラルキル型のものとし
て、ベンジル(Ｈ2／Ｐd、Ｎa／ＮＨ3で脱離)、トリチル
(Ｈ2／Ｐdで脱離)等のアリール低級アルキル基、および
アゾメチン型のものとして、ベンジリデン(Ｈ2／Ｐd、
ＨＣlで脱離)等のアリール低級アルキリデン基が挙げら
れる。
「新実験化学講座」第１４巻第２５５５−２５６９頁に
記載されており、例えば、アシル型のものとして、ホル
ミル(ＨＣl／ＣＨ3ＯＨで脱離)、アセチル(酸またはア
ルカリで脱離)等の低級アルカノイル基、２−クロロプ
ロピオニル(酸またはアルカリで脱離)等のハロ低級アル
カノイル基、ベンゾイル(酸またはアルカリで脱離)等の
アリールカルボニル基、フェニルプロピオニル(酸また
はアルカリで脱離)等のアリール低級アルカノイル基、
ウレタン型のものとして、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、第３級ブトキシカルボニル(ＨＢrまたは
ＨＣl／ＡcＯＨで脱離)等の低級アルコキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル(Ｈ2／Ｐd、ＨＩまたは
ＨＢrまたはＨＣl／ＡcＯＨ等で脱離)、２−(ｐ−ビフ
ェニリル)イソプロポキシカルボニル(ＡcＯＨ／ＨＣＯ
ＯＨ、トリフルオロ酢酸等で脱離)等のアリール低級ア
ルキルオキシカルボニル基、アラルキル型のものとし
て、ベンジル(Ｈ2／Ｐd、Ｎa／ＮＨ3で脱離)、トリチル
(Ｈ2／Ｐdで脱離)等のアリール低級アルキル基、および
アゾメチン型のものとして、ベンジリデン(Ｈ2／Ｐd、
ＨＣlで脱離)等のアリール低級アルキリデン基が挙げら
れる。
【００１４】「ヒドロキシ保護基」は、例えば「新実験
化学講座」第１４巻第２４９７−２５１６頁に記載され
ており、メチル(酸化後、加水分解で脱離)、３級ブチル
(ＣＦ3ＣＯ2Ｈで脱離)等の低級アルキル基、ベンジル
（Ｈ2／Ｐｄ、ＮＨ3／Ｎａで脱離）、トリチル（酢酸で
脱離）等のアリール低級アルキル基、トリメチルシリル
（Ｃ2Ｈ5ＯＨで脱離）、３級ブチルメチルシリル（酢酸
で脱離）等のトリ低級アルキルシリル基、ベンジルオキ
シメチル（ＮＨ3／Ｎａで脱離）等のアリール低級アル
コキシ低級アルキル基、エトキシカルボニル（ＫＯＨ／
ＣＨ3ＯＨで脱離）等の低級アルコキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル（Ｈ2Ｏ2／ＣＨ3ＣＯ2Ｈで脱
離）等のアリール低級アルコキシカルボニル基、アセチ
ル（酸または塩基で脱離）、ホルミル（ＫＨＣＯ3／Ｈ2
Ｏ／ＣＨ3ＯＨで脱離）等の低級アルカノイル基、硝酸
（Ｎａ2Ｓで脱離）、スルホン酸（Ｎａ／Ｈｇ／ＣＨ3Ｏ
Ｈで脱離）等の酸残基、メチレンアセタール（ＣＨ3Ｃ
Ｏ2Ｈ−（ＣＯ3ＣＯ2）2Ｏ−Ｈ2ＳＯ4で脱離）、エチリ
デンアセタール（ＣＨ3ＣＯＯＨで脱離）等の低級アル
キリデンアセタール基、ベンジリデンアセタール（酸で
脱離）等のアリールアセタール基等が挙げられる。
化学講座」第１４巻第２４９７−２５１６頁に記載され
ており、メチル(酸化後、加水分解で脱離)、３級ブチル
(ＣＦ3ＣＯ2Ｈで脱離)等の低級アルキル基、ベンジル
（Ｈ2／Ｐｄ、ＮＨ3／Ｎａで脱離）、トリチル（酢酸で
脱離）等のアリール低級アルキル基、トリメチルシリル
（Ｃ2Ｈ5ＯＨで脱離）、３級ブチルメチルシリル（酢酸
で脱離）等のトリ低級アルキルシリル基、ベンジルオキ
シメチル（ＮＨ3／Ｎａで脱離）等のアリール低級アル
コキシ低級アルキル基、エトキシカルボニル（ＫＯＨ／
ＣＨ3ＯＨで脱離）等の低級アルコキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル（Ｈ2Ｏ2／ＣＨ3ＣＯ2Ｈで脱
離）等のアリール低級アルコキシカルボニル基、アセチ
ル（酸または塩基で脱離）、ホルミル（ＫＨＣＯ3／Ｈ2
Ｏ／ＣＨ3ＯＨで脱離）等の低級アルカノイル基、硝酸
（Ｎａ2Ｓで脱離）、スルホン酸（Ｎａ／Ｈｇ／ＣＨ3Ｏ
Ｈで脱離）等の酸残基、メチレンアセタール（ＣＨ3Ｃ
Ｏ2Ｈ−（ＣＯ3ＣＯ2）2Ｏ−Ｈ2ＳＯ4で脱離）、エチリ
デンアセタール（ＣＨ3ＣＯＯＨで脱離）等の低級アル
キリデンアセタール基、ベンジリデンアセタール（酸で
脱離）等のアリールアセタール基等が挙げられる。
【００１５】「カルボキシ保護基」は、例えば「新実験
化学講座」第１４巻第２５３５−２５４４頁に記載され
ており、例えばメチル(酸またはアルカリで脱離)、エチ
ル(同前)、第３級ブチル(ＨＣl／ＣＨ2Ｃl2、ＣＦ3ＣＯ
ＯＨ、ＴsＯＨ／ＡcＯＨ等で脱離)等の低級アルキル
基、２,２,２−トリクロロエチル(Ｚn／ＡcＯＨ、ＨＣ
ＯＯＨ等で脱離)等のハロ低級アルキル基、メチルチオ
エチル(ＣＨ3Ｉついでアルカリ処理で脱離)等の低級ア
ルキルチオ低級アルキル基、メトキシメチル(酸で脱離)
等の低級アルコキシ低級アルキル基、トシルエチル(Ｎa
ＯＨ／ジオキサンで脱離)等のアリールスルホニル低級
アルキル基、ｐ−ニトロフェニルチオエチル(スルホン
に酸化後アルカリで脱離)等の置換されていてもよいア
リールチオ低級アルキル基、ベンジル(Ｈ2／Ｐd、Ｎa／
ＮＨ3、ＮaＯＨ／ジオキサン、ＨＢr／ＡcＯＨ等で脱
離)、ｐ−メトキシベンジル(Ｈ2／Ｐd、ＣＦ3ＣＯＯ
Ｈ、ＨＣＯＯＨ等で脱離)、２,４,６−トリメトキシベ
ンジル(ＨＢr／ＡcＯＨで脱離)、ぺンタメチルベンジル
(ＣＦ3ＣＯＯＨで脱離)、ｐ−ニトロベンジル(Ｈ2／Ｐ
ｄ、ＮaＯＨで脱離)、ベンズヒドリル(Ｈ2／Ｐd、ＮaＯ
Ｈで脱離)、トリチル(ＮaＯＨ、ＨＣl／ＣＨ3ＯＨで脱
離)、アントラニルメチル(ＨＢr／ＡcＯＨ、ＮaＯＨ、
ＣＦ3ＣＯＯＨで脱離)等の置換されていてもよいアリー
ル低級アルキル基、ヒドロキサム酸(ＨＩＯ4で脱離)等
が挙げられる。上記「カルボキシ保護基」、「ヒドロキ
シ保護基」および「アミノ保護基」の語は、ペプチド合
成において用いられるこれらの語と同じ意味を有する。
化学講座」第１４巻第２５３５−２５４４頁に記載され
ており、例えばメチル(酸またはアルカリで脱離)、エチ
ル(同前)、第３級ブチル(ＨＣl／ＣＨ2Ｃl2、ＣＦ3ＣＯ
ＯＨ、ＴsＯＨ／ＡcＯＨ等で脱離)等の低級アルキル
基、２,２,２−トリクロロエチル(Ｚn／ＡcＯＨ、ＨＣ
ＯＯＨ等で脱離)等のハロ低級アルキル基、メチルチオ
エチル(ＣＨ3Ｉついでアルカリ処理で脱離)等の低級ア
ルキルチオ低級アルキル基、メトキシメチル(酸で脱離)
等の低級アルコキシ低級アルキル基、トシルエチル(Ｎa
ＯＨ／ジオキサンで脱離)等のアリールスルホニル低級
アルキル基、ｐ−ニトロフェニルチオエチル(スルホン
に酸化後アルカリで脱離)等の置換されていてもよいア
リールチオ低級アルキル基、ベンジル(Ｈ2／Ｐd、Ｎa／
ＮＨ3、ＮaＯＨ／ジオキサン、ＨＢr／ＡcＯＨ等で脱
離)、ｐ−メトキシベンジル(Ｈ2／Ｐd、ＣＦ3ＣＯＯ
Ｈ、ＨＣＯＯＨ等で脱離)、２,４,６−トリメトキシベ
ンジル(ＨＢr／ＡcＯＨで脱離)、ぺンタメチルベンジル
(ＣＦ3ＣＯＯＨで脱離)、ｐ−ニトロベンジル(Ｈ2／Ｐ
ｄ、ＮaＯＨで脱離)、ベンズヒドリル(Ｈ2／Ｐd、ＮaＯ
Ｈで脱離)、トリチル(ＮaＯＨ、ＨＣl／ＣＨ3ＯＨで脱
離)、アントラニルメチル(ＨＢr／ＡcＯＨ、ＮaＯＨ、
ＣＦ3ＣＯＯＨで脱離)等の置換されていてもよいアリー
ル低級アルキル基、ヒドロキサム酸(ＨＩＯ4で脱離)等
が挙げられる。上記「カルボキシ保護基」、「ヒドロキ
シ保護基」および「アミノ保護基」の語は、ペプチド合
成において用いられるこれらの語と同じ意味を有する。
【００１６】アミノアルキルシランとしてはω−アミノ
アルキルアルコキシシランまたはω−アミノアルキルハ
ロゲノシランが好ましく、例えばω−アミノプロピルト
リエトキシシラン、ω−アミノプロピルトリクロロシラ
ン等を挙げることができる。上記の製造法において、無
機担体の表面にオルガノシランを導入する反応は、ヒド
ロキシ基を有する化合物のシリル化に繁用される常法に
したがって行うことができる。この反応は、一般に有機
溶媒中、比較的緩和な温度で行われる。いずれかのカル
ボン酸またはそのカルボキシ基における反応性誘導体
と、アミノアルキルシリル基を導入した無機担体または
アミノ酸部分を結合した上記担体との反応は、例えばペ
プチド合成において繁用されるアミド結合形成反応の常
法にしたがって行うことができる。反応性誘導体として
は、酸ハライド、酸無水物(例えばアルキル炭酸混合酸
無機物)、活性エステルまたは活性アミド(例えばイミダ
ゾリド)が用いられる、酸自体を用いる場合には、反応
を縮合剤の存在下に行うのが有利である。縮合剤として
は、カルボジイミド類、カルボニルジイミダゾール類、
ウッドワード試薬、Ｎ−アルコキシカルボニル−２−ア
ルコキシ−１,２−ジヒドロキノリン等が用いられる。
反応条件は反応させる化合物の組み合わせによって異な
り、有機溶媒または水性溶媒中、冷却ないしは室温また
は加温下、適宜第３級有機アミンのような塩基を存在さ
せて行う。保護基の脱離は常法によって行う。
アルキルアルコキシシランまたはω−アミノアルキルハ
ロゲノシランが好ましく、例えばω−アミノプロピルト
リエトキシシラン、ω−アミノプロピルトリクロロシラ
ン等を挙げることができる。上記の製造法において、無
機担体の表面にオルガノシランを導入する反応は、ヒド
ロキシ基を有する化合物のシリル化に繁用される常法に
したがって行うことができる。この反応は、一般に有機
溶媒中、比較的緩和な温度で行われる。いずれかのカル
ボン酸またはそのカルボキシ基における反応性誘導体
と、アミノアルキルシリル基を導入した無機担体または
アミノ酸部分を結合した上記担体との反応は、例えばペ
プチド合成において繁用されるアミド結合形成反応の常
法にしたがって行うことができる。反応性誘導体として
は、酸ハライド、酸無水物(例えばアルキル炭酸混合酸
無機物)、活性エステルまたは活性アミド(例えばイミダ
ゾリド)が用いられる、酸自体を用いる場合には、反応
を縮合剤の存在下に行うのが有利である。縮合剤として
は、カルボジイミド類、カルボニルジイミダゾール類、
ウッドワード試薬、Ｎ−アルコキシカルボニル−２−ア
ルコキシ−１,２−ジヒドロキノリン等が用いられる。
反応条件は反応させる化合物の組み合わせによって異な
り、有機溶媒または水性溶媒中、冷却ないしは室温また
は加温下、適宜第３級有機アミンのような塩基を存在さ
せて行う。保護基の脱離は常法によって行う。
【００１７】本発明によって得られる充填剤は、常法に
従ってクロマトグラフ用のカラムに充填し、液体クロマ
トグラフィーによる光学異性体混合物の光学分割の固定
相として使用することができる。すなわち、適当な直径
と長さを有するガラス、ステンレス、チタン等のカラム
に充填し、入口側から光学異性体の混合物を含む溶液を
逆入し、適当な溶媒と溶媒条件、特に通常よく用いられ
る順相分配または逆相分配の条件を用いて展開、分画す
ることにより、種々の光学異性体混合物の分離、分析を
行うことができる。
従ってクロマトグラフ用のカラムに充填し、液体クロマ
トグラフィーによる光学異性体混合物の光学分割の固定
相として使用することができる。すなわち、適当な直径
と長さを有するガラス、ステンレス、チタン等のカラム
に充填し、入口側から光学異性体の混合物を含む溶液を
逆入し、適当な溶媒と溶媒条件、特に通常よく用いられ
る順相分配または逆相分配の条件を用いて展開、分画す
ることにより、種々の光学異性体混合物の分離、分析を
行うことができる。
【００１８】
【発明の効果】この発明の化合物(Ｉ)は、光学異性体に
対する相互作用の差が著しいので、この性質をキラリテ
ィ識別作用として利用することができる。それ故、この
発明の充填剤は、すぐれたキラリティ識別性を有する。
したがって、この発明の充填剤は、種々の光学異性体混
合物、例えば、種々のエステル、アルコール、カルボン
酸、アミンおよびアミノアルコール類並びにそれらの誘
導体の光学異性体混合物をクロマトグラフィー方式で分
離できる。これは、充填剤として、最も広い対象をもつ
部類に入る。特に、光学異性体を分離するためのキラル
認識作用として、固定相のキラル部位とサンプル間の種
々の相互作用が存在するが、従来、正相系で効果を発揮
する水素結合相互作用と逆相系(水系)で効果を発揮する
配位子交換相互作用を併せ持つ固定相は見当たらず、本
願固定相はそれを併せ持っている点で優れている、即
ち、正相系でアミン、カルボン酸、アルコールの光学異
性体を分離することができ、逆相系(水系)で、アミノ酸
やオキシ酸の光学異性体を直接分離することができるた
め、きわめて広範囲の化合物の光学分割が可能である。
使用できる溶離液の種類は、既存の固定相の中で最も広
い部類に入る(高い濃度の酸や塩基以外が殆ど制限がな
い)ため、分割を成功させるための移動相の修飾が種々
の広範囲に試みることが可能である。
対する相互作用の差が著しいので、この性質をキラリテ
ィ識別作用として利用することができる。それ故、この
発明の充填剤は、すぐれたキラリティ識別性を有する。
したがって、この発明の充填剤は、種々の光学異性体混
合物、例えば、種々のエステル、アルコール、カルボン
酸、アミンおよびアミノアルコール類並びにそれらの誘
導体の光学異性体混合物をクロマトグラフィー方式で分
離できる。これは、充填剤として、最も広い対象をもつ
部類に入る。特に、光学異性体を分離するためのキラル
認識作用として、固定相のキラル部位とサンプル間の種
々の相互作用が存在するが、従来、正相系で効果を発揮
する水素結合相互作用と逆相系(水系)で効果を発揮する
配位子交換相互作用を併せ持つ固定相は見当たらず、本
願固定相はそれを併せ持っている点で優れている、即
ち、正相系でアミン、カルボン酸、アルコールの光学異
性体を分離することができ、逆相系(水系)で、アミノ酸
やオキシ酸の光学異性体を直接分離することができるた
め、きわめて広範囲の化合物の光学分割が可能である。
使用できる溶離液の種類は、既存の固定相の中で最も広
い部類に入る(高い濃度の酸や塩基以外が殆ど制限がな
い)ため、分割を成功させるための移動相の修飾が種々
の広範囲に試みることが可能である。
【００１９】しかも、この発明の充填剤は製造工程が少
ないため製造が容易であり、基礎をなす化合物が化学的
に安定であるから耐久性にも優れているという利点を有
する。また、カラムとして高い理論段数が得られ、品質
のばらつきが少ない。以下、本発明を実施例により説明
するが、この実施例は本発明を限定するものではない。
ないため製造が容易であり、基礎をなす化合物が化学的
に安定であるから耐久性にも優れているという利点を有
する。また、カラムとして高い理論段数が得られ、品質
のばらつきが少ない。以下、本発明を実施例により説明
するが、この実施例は本発明を限定するものではない。
【００２０】
実施例１：シリカゲル(平均粒径５μm、平均孔径１２０
Å、表面積３３０ｍ2／ｇ)２００ｇを減圧下１２０℃で
２時間乾燥した後、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン２００ｇを１ｌの脱水デトラヒドロフランに溶かし
た液に加え、３時間過熱還流した。静置し、十分にゲル
を沈降させ、上澄を傾捨した。これにメタノールを加え
て攪拌し、同様に上澄を傾捨した。さらに、残留物をテ
トラヒドロフラン、クロロホルム・メタノール混液、ク
ロロホルム、ヘキサン各５００mlで洗浄し、乾燥して、
３−アミノプロピルシリル化シリカゲル(以下ＡＰＳと
略す)を得た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.３２
％、Ｃ：４.７８％であり、これは、このものの１ｇに
対し、３−アミノプロピルシリル基が約０.９４ミリモ
ルグラフトされたことに相当する。
Å、表面積３３０ｍ2／ｇ)２００ｇを減圧下１２０℃で
２時間乾燥した後、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン２００ｇを１ｌの脱水デトラヒドロフランに溶かし
た液に加え、３時間過熱還流した。静置し、十分にゲル
を沈降させ、上澄を傾捨した。これにメタノールを加え
て攪拌し、同様に上澄を傾捨した。さらに、残留物をテ
トラヒドロフラン、クロロホルム・メタノール混液、ク
ロロホルム、ヘキサン各５００mlで洗浄し、乾燥して、
３−アミノプロピルシリル化シリカゲル(以下ＡＰＳと
略す)を得た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.３２
％、Ｃ：４.７８％であり、これは、このものの１ｇに
対し、３−アミノプロピルシリル基が約０.９４ミリモ
ルグラフトされたことに相当する。
【００２１】次に、ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−バリ
ン８.２ｇを脱水テトラヒドロフラン１８０mlに溶かし
た液を氷冷し、１−エトキシカルボニル−２−エトキシ
−１,２−ジヒドロキノリン(ＥＥＤＱ)１０.８ｇを加え
てさらに１時間氷冷攪拌した後、上記のＡＰＳ１５ｇを
加え懸濁させ室温で１夜攪拌した。反応物を濾過し、残
留物をクロロホルム・メタノール混液、メタノール、ク
ロロホルム、ヘキサン各１８０mlで２回ずつ洗浄し、乾
燥し、ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−バリルアミノプロ
ピルシリル基をグラフトしたシリカゲル１６.１ｇを得
た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.９２％、Ｃ：１
１.０％であった。続いて、このゲル１６.０ｇを５０％
トリフルオロ酢酸ジクロロメタン溶液１８０mlに加えて
懸濁させ、室温で１時間攪拌した。反応物を濾過し、残
留物をジクロロメタン１８０mlで洗浄した後、アンモニ
ア−ジクロロメタン溶液中で２０分間攪拌した。反応物
を濾過し、残留物をメタノール、ジクロロメタン、ヘキ
サン各１８０mlで２回ずつ洗浄し乾燥した。上記のゲル
より、ｔ−ブトキシカルボニル基を脱離させたグラフト
シリカゲル１４.９ｇを得た。このものの元素分析値は
Ｎ：２.０３％、Ｃ：７.９７％であった。
ン８.２ｇを脱水テトラヒドロフラン１８０mlに溶かし
た液を氷冷し、１−エトキシカルボニル−２−エトキシ
−１,２−ジヒドロキノリン(ＥＥＤＱ)１０.８ｇを加え
てさらに１時間氷冷攪拌した後、上記のＡＰＳ１５ｇを
加え懸濁させ室温で１夜攪拌した。反応物を濾過し、残
留物をクロロホルム・メタノール混液、メタノール、ク
ロロホルム、ヘキサン各１８０mlで２回ずつ洗浄し、乾
燥し、ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−バリルアミノプロ
ピルシリル基をグラフトしたシリカゲル１６.１ｇを得
た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.９２％、Ｃ：１
１.０％であった。続いて、このゲル１６.０ｇを５０％
トリフルオロ酢酸ジクロロメタン溶液１８０mlに加えて
懸濁させ、室温で１時間攪拌した。反応物を濾過し、残
留物をジクロロメタン１８０mlで洗浄した後、アンモニ
ア−ジクロロメタン溶液中で２０分間攪拌した。反応物
を濾過し、残留物をメタノール、ジクロロメタン、ヘキ
サン各１８０mlで２回ずつ洗浄し乾燥した。上記のゲル
より、ｔ−ブトキシカルボニル基を脱離させたグラフト
シリカゲル１４.９ｇを得た。このものの元素分析値は
Ｎ：２.０３％、Ｃ：７.９７％であった。
【００２２】さらに、このゲル１０.６ｇをジアセチル
−Ｌ−酒石酸無水物１１.５ｇを溶かした脱水テトラヒ
ドロフランに加えて懸濁し、４時間半加熱還流した。放
冷後、反応物を濾過し、残留物をメタノール、クロロホ
ルム、ヘキサン各１００mlで２回ずつ洗浄し、乾燥し
て、ジアセチル−Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３
−カルボキシ−２,３−ジアセトキシプロピオニル−Ｌ
−バリルアミノプロピルシリル基をグラフトしたシリカ
ゲル１１.６ｇを得た。このものの元素分析値は、Ｎ：
１.８３％、Ｃ：１２.４％であった。
−Ｌ−酒石酸無水物１１.５ｇを溶かした脱水テトラヒ
ドロフランに加えて懸濁し、４時間半加熱還流した。放
冷後、反応物を濾過し、残留物をメタノール、クロロホ
ルム、ヘキサン各１００mlで２回ずつ洗浄し、乾燥し
て、ジアセチル−Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３
−カルボキシ−２,３−ジアセトキシプロピオニル−Ｌ
−バリルアミノプロピルシリル基をグラフトしたシリカ
ゲル１１.６ｇを得た。このものの元素分析値は、Ｎ：
１.８３％、Ｃ：１２.４％であった。
【００２３】ここで、ＡＳＰおよびバリンの残留アミノ
基をふさぐため、無水酢酸２.４ｇを溶かした脱水テト
ラヒドロフラン１００mlに上記のゲル１１.５ｇを加え
て３時間加熱還流させた。反応物を濾過し、残留物をメ
タノール、クロロホルム、ヘキサン各１００mlで２回ず
つ洗浄し、乾燥し、１１.１ｇのゲルを得た。このもの
の元素分析値は、Ｎ：１.７２％、Ｃ：１２.２％であっ
た。
基をふさぐため、無水酢酸２.４ｇを溶かした脱水テト
ラヒドロフラン１００mlに上記のゲル１１.５ｇを加え
て３時間加熱還流させた。反応物を濾過し、残留物をメ
タノール、クロロホルム、ヘキサン各１００mlで２回ず
つ洗浄し、乾燥し、１１.１ｇのゲルを得た。このもの
の元素分析値は、Ｎ：１.７２％、Ｃ：１２.２％であっ
た。
【００２４】最後に、このゲル６.０ｇを５％のアセト
ニトリルを含むｐＨ３.０の過塩素酸水溶液３００mlに
加えて懸濁し、８時間加熱還流した。放冷静置し、ゲル
を十分沈降させ、上澄を傾捨し、メタノール１５０mlを
加えて撹拌した。静置後、同様に上澄を傾捨し、残留物
をクロロホルム、ヘキサン各１５０mlで２回ずつ洗浄
し、乾燥し、Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３−カ
ルボキシ−２,３−ジヒドロキシプロピオニル−Ｌ−バ
リルアミノプロピルシリル基をグラフトした目的の充填
剤を５.０ｇ得た。このものの元素分析値はＮ：１.３７
％、Ｃ：７.５５％であった。これは、このものの１gに
対し、Ｌ−酒石酸−Ｌ−バリンが約０.４９ミリモルグ
ラフトされたことを示す。このようにして得られた充填
剤を内径４mm、長さ２５cmのステンレス製カラムにスラ
リー充填した。以上のように調整したカラムを用いて、
有機溶媒系(正相系)と銅イオン水溶液系(配位子交換系)
の２種類の異なる性質の溶離液により、各種混合物のラ
セミ体を分割した。有機系の結果の一例を第１表に、銅
系の結果の一例を第２表に示す。 温度：室温 溶離液：第１表および第２表に示す。 溶離液流量：１.０ml／分 検出器：紫外線吸収計(波長２５４nmまたは２３０ｎ
ｍ）
ニトリルを含むｐＨ３.０の過塩素酸水溶液３００mlに
加えて懸濁し、８時間加熱還流した。放冷静置し、ゲル
を十分沈降させ、上澄を傾捨し、メタノール１５０mlを
加えて撹拌した。静置後、同様に上澄を傾捨し、残留物
をクロロホルム、ヘキサン各１５０mlで２回ずつ洗浄
し、乾燥し、Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３−カ
ルボキシ−２,３−ジヒドロキシプロピオニル−Ｌ−バ
リルアミノプロピルシリル基をグラフトした目的の充填
剤を５.０ｇ得た。このものの元素分析値はＮ：１.３７
％、Ｃ：７.５５％であった。これは、このものの１gに
対し、Ｌ−酒石酸−Ｌ−バリンが約０.４９ミリモルグ
ラフトされたことを示す。このようにして得られた充填
剤を内径４mm、長さ２５cmのステンレス製カラムにスラ
リー充填した。以上のように調整したカラムを用いて、
有機溶媒系(正相系)と銅イオン水溶液系(配位子交換系)
の２種類の異なる性質の溶離液により、各種混合物のラ
セミ体を分割した。有機系の結果の一例を第１表に、銅
系の結果の一例を第２表に示す。 温度：室温 溶離液：第１表および第２表に示す。 溶離液流量：１.０ml／分 検出器：紫外線吸収計(波長２５４nmまたは２３０ｎ
ｍ）
【表１】
【表２】 この表において、保持係数（Ｋ1'およびＫ2')および分
離係数(α)は次式により計算される。
離係数(α)は次式により計算される。
【数１】 ｔ1：より弱く吸着される鏡像体の保持時間 ｔ2：より強く吸着される鏡像体の保持時間 ｔ0：カラムの死容積に相当する保持時間 分離係数は、α＝１の場合、全く光学分割能がないこと
を示し、１との差が大きくなるにしたがって光学分割能
が高くなることを示す。
を示し、１との差が大きくなるにしたがって光学分割能
が高くなることを示す。
【００２５】実施例２：実施例１においてｔ−ブトキシ
カルボニル−Ｌ−バリンの代わりにｔ−ブトキシカルボ
ニル−Ｄ−フェニルグリシンを用い、同様に操作して、
ジアセチル−Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３−カ
ルボキシ−２,３−ジアセトキシプロピオニル−Ｄ−フ
ェニルグリシルアミノプロピルシリル基をグラフトした
シリカゲルを得た。これを２０％トリフルオロ酢酸クロ
ロホルムに加え、懸濁させ、室温で３時間攪拌した。反
応物を濾過し、残留物をクロロホルム、メタノール、ク
ロロホルム、ヘキサンで２回ずつ洗浄した。乾燥して、
Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３−カルボキシ−
２,３−ジヒドロキシプロピオニル−Ｄ−フェニルグリ
シルアミノプロピルシリル基をグラフトした目的の充填
剤を得た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.４３％、
Ｃ：１０.５％であり、これは、このものの１ｇに対
し、Ｌ−酒石酸−Ｄ−フェニルグリシンが約０.５１ミ
リモルグラフトされたことを示す。このようにして得ら
れた充填剤を内径４mm、長さ２５cmのステンレス製カラ
ムにスラリー充填した。以上のように調整したカラムを
用いて、有機溶媒系(正相系)と銅イオン系(配位子交換
系)の２種の異なる性質の溶離液により、各種化合物の
ラセミ体を分割した。有機系の結果の一例を第３表に、
銅系の結果の一例を第４表に示す。 温度：室温 溶離液：第３表および第４表 溶離液流量：１.０ml／分 検出器：紫外線吸収計(波長２５４nmまたは２３０ｎ
ｍ）
カルボニル−Ｌ−バリンの代わりにｔ−ブトキシカルボ
ニル−Ｄ−フェニルグリシンを用い、同様に操作して、
ジアセチル−Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３−カ
ルボキシ−２,３−ジアセトキシプロピオニル−Ｄ−フ
ェニルグリシルアミノプロピルシリル基をグラフトした
シリカゲルを得た。これを２０％トリフルオロ酢酸クロ
ロホルムに加え、懸濁させ、室温で３時間攪拌した。反
応物を濾過し、残留物をクロロホルム、メタノール、ク
ロロホルム、ヘキサンで２回ずつ洗浄した。乾燥して、
Ｌ−酒石酸と同一の立体配置をもつ３−カルボキシ−
２,３−ジヒドロキシプロピオニル−Ｄ−フェニルグリ
シルアミノプロピルシリル基をグラフトした目的の充填
剤を得た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.４３％、
Ｃ：１０.５％であり、これは、このものの１ｇに対
し、Ｌ−酒石酸−Ｄ−フェニルグリシンが約０.５１ミ
リモルグラフトされたことを示す。このようにして得ら
れた充填剤を内径４mm、長さ２５cmのステンレス製カラ
ムにスラリー充填した。以上のように調整したカラムを
用いて、有機溶媒系(正相系)と銅イオン系(配位子交換
系)の２種の異なる性質の溶離液により、各種化合物の
ラセミ体を分割した。有機系の結果の一例を第３表に、
銅系の結果の一例を第４表に示す。 温度：室温 溶離液：第３表および第４表 溶離液流量：１.０ml／分 検出器：紫外線吸収計(波長２５４nmまたは２３０ｎ
ｍ）
【表３】
【表４】
【００２６】実施例３：アセトニトリル９０ｍｌにＮ−
［Ｎ'−Ｒ−１−(α−ナフチル)エチルカルバモイル］
スクシンイミデイト９.４ｇを溶かし、これにＮ6−ｔ−
ブトキシカルボニル−Ｌ−リジン７.４ｇとトリエチル
アミン３.０ｇの水溶液４５mlを加えて、１時間加熱還
流した。放冷後、濾過して残渣を除き、水４５０mlを加
えて希釈し、クエン酸で酸性化してクロロホルムで抽出
した。溶液を脱水し、濃縮して、Ｎ2−Ｒ−１−(α−ナ
フチル)エチルカルバモイル−Ｎ6−ｔ−ブトキシカルボ
ニル−Ｌ−リジン１１.８ｇを得た。
［Ｎ'−Ｒ−１−(α−ナフチル)エチルカルバモイル］
スクシンイミデイト９.４ｇを溶かし、これにＮ6−ｔ−
ブトキシカルボニル−Ｌ−リジン７.４ｇとトリエチル
アミン３.０ｇの水溶液４５mlを加えて、１時間加熱還
流した。放冷後、濾過して残渣を除き、水４５０mlを加
えて希釈し、クエン酸で酸性化してクロロホルムで抽出
した。溶液を脱水し、濃縮して、Ｎ2−Ｒ−１−(α−ナ
フチル)エチルカルバモイル−Ｎ6−ｔ−ブトキシカルボ
ニル−Ｌ−リジン１１.８ｇを得た。
【００２７】実施例２において、ｔ−ブトキシカルボニ
ル−Ｄ−フェニルグリシンの代わりに上記合成の化合物
を用い、同様にしてＬ−酒石酸と同一の立体配置をもつ
Ｎ6-(3-カルボキシ-2,３−ジヒドロキシプロピオニル)−Ｎ2
−［Ｒ−１−(α−ナフチル)エチルカルバモイル］−Ｌ
−リジルアミノプロピルシリル基をグラフトした目的の
充填剤を得た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.８２
％、Ｃ：１０.９％であり、これは、このものの１ｇに
対し、Ｎ6−(Ｌ−酒石酸)−Ｎ2−［Ｒ−１−(α−ナフ
チル)エチルカルバモイル］−Ｌ−リジンが約０.３３ミ
リモルグラフトされたことを示す。このようにして得ら
れた充填剤を内径４mm、長さ２５cmのステンレス製カラ
ムにスラリー充填した。以上のように調整したカラムを
用いて、有機溶媒系(正相系)と銅イオン水溶液系(配位
子交換系)の２種の異なる性質の溶離液により、各種化
合物のラセミ体を分割した。有機系の結果の一例を第５
表に、銅系の結果の一例を第６表に示す。 温度：室温 溶離液：第５表および第６表に示す。 溶離液流量：１.０ml／分 検出器：紫外線吸収計(波長２５４nmまたは２３０ｎ
ｍ）
ル−Ｄ−フェニルグリシンの代わりに上記合成の化合物
を用い、同様にしてＬ−酒石酸と同一の立体配置をもつ
Ｎ6-(3-カルボキシ-2,３−ジヒドロキシプロピオニル)−Ｎ2
−［Ｒ−１−(α−ナフチル)エチルカルバモイル］−Ｌ
−リジルアミノプロピルシリル基をグラフトした目的の
充填剤を得た。このものの元素分析値は、Ｎ：１.８２
％、Ｃ：１０.９％であり、これは、このものの１ｇに
対し、Ｎ6−(Ｌ−酒石酸)−Ｎ2−［Ｒ−１−(α−ナフ
チル)エチルカルバモイル］−Ｌ−リジンが約０.３３ミ
リモルグラフトされたことを示す。このようにして得ら
れた充填剤を内径４mm、長さ２５cmのステンレス製カラ
ムにスラリー充填した。以上のように調整したカラムを
用いて、有機溶媒系(正相系)と銅イオン水溶液系(配位
子交換系)の２種の異なる性質の溶離液により、各種化
合物のラセミ体を分割した。有機系の結果の一例を第５
表に、銅系の結果の一例を第６表に示す。 温度：室温 溶離液：第５表および第６表に示す。 溶離液流量：１.０ml／分 検出器：紫外線吸収計(波長２５４nmまたは２３０ｎ
ｍ）
【表５】
【表６】
【図１】 Ｎ−３，５−ジニトロベンゾイル−(Ｒ,Ｓ)
−１−フェニルエチルアミンを本発明の分離剤を用いて
分割した場合の溶離曲線を示すグラフである。
−１−フェニルエチルアミンを本発明の分離剤を用いて
分割した場合の溶離曲線を示すグラフである。
【図２】 Ｄ,Ｌ−ナフチルグリシンを本発明の分離剤
を用いて分割した場合の溶離曲線を示すグラフである。
を用いて分割した場合の溶離曲線を示すグラフである。
【符号の説明】 １…Ｎ−３,５−ジニトロベンゾイル−(Ｓ)−１−フェ
ニルエチルアミンのピーク。 ２…Ｎ−３,５−ジニトロベンゾイル−(Ｒ)−１−フェ
ニルエチルアミンのピーク。 ３…Ｄ−ナフチルグリシンのピーク。 ４…Ｌ−ナフチルグリシンのピーク。
ニルエチルアミンのピーク。 ２…Ｎ−３,５−ジニトロベンゾイル−(Ｒ)−１−フェ
ニルエチルアミンのピーク。 ３…Ｄ−ナフチルグリシンのピーク。 ４…Ｌ−ナフチルグリシンのピーク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松下 靖弘 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 135号 株式会社住化分析センター内 (72)発明者 木須 直子 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 135号 株式会社住化分析センター内
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 ［式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、同一または異なって、
アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはハロゲ
ン原子を表し、少なくともその１つはアルコキシ基また
はハロゲン原子である。Ｒ4は低級アルキレン基、Ｒ5は
光学活性アミノ酸またはそのＤ異性体から１個のアミノ
基と１個のカルボキシ基を除いた残基、Ｒ6は、水素ま
たは低級アルキル基であるか、またはＲ6はＲ5と一緒に
なってイミノ酸またはそのＤ異性体から１個のイミノ基
と１個のカルボキシ基を除いた残基(但し、上記Ｒ5にお
いて、残っているＯＨ、ＮＨ、ＮＨ2は基−Ｙ−Ｚ−で
置換されていてもよい。ここで−Ｙ−は−ＣＯ−または
−ＣＯＮＨ−、Ｚは低級アルキル、単環もしくは２環ア
リール基または単環もしくは２環アラルキル基であ
る)。なお酒石酸部分およびアミノ酸もしくはイミノ酸
部分は光学活性形である。］で示されるオルガノシラン
化合物が、表面にヒドロキシ基をもつ無機担体にグラフ
トされた形の構造を有する、キラリティ識別剤。 - 【請求項２】 請求項１記載の化合物からなる、クロマ
トグラフィー用充填剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089956A JPH06298672A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | キラリティ識別剤およびクロマトグラフィー用分離剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089956A JPH06298672A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | キラリティ識別剤およびクロマトグラフィー用分離剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06298672A true JPH06298672A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=13985148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5089956A Pending JPH06298672A (ja) | 1993-04-16 | 1993-04-16 | キラリティ識別剤およびクロマトグラフィー用分離剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06298672A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1123558A (ja) * | 1997-06-27 | 1999-01-29 | Tosoh Corp | 分離法及びこれを用いた装置 |
| KR20030077238A (ko) * | 2002-03-25 | 2003-10-01 | 대한민국(부산대학교 총장) | Ｌｃ용 리간드 교환 키랄고정상 및 이들로 충진된 키랄칼럼 |
| JPWO2004025297A1 (ja) * | 2002-07-30 | 2006-01-12 | アステラス製薬株式会社 | 固相担体上における分子間の非特異相互作用の抑制方法 |
| JP2011007731A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Fuji Silysia Chemical Ltd | 親水性有機化合物の分離方法、および親水性相互作用クロマトグラフィー用充填剤 |
-
1993
- 1993-04-16 JP JP5089956A patent/JPH06298672A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1123558A (ja) * | 1997-06-27 | 1999-01-29 | Tosoh Corp | 分離法及びこれを用いた装置 |
| KR20030077238A (ko) * | 2002-03-25 | 2003-10-01 | 대한민국(부산대학교 총장) | Ｌｃ용 리간드 교환 키랄고정상 및 이들로 충진된 키랄칼럼 |
| JPWO2004025297A1 (ja) * | 2002-07-30 | 2006-01-12 | アステラス製薬株式会社 | 固相担体上における分子間の非特異相互作用の抑制方法 |
| EP1553412A4 (en) * | 2002-07-30 | 2008-05-14 | Reverse Proteomics Res Inst Co | METHOD FOR INHIBITING A NON-SPECIFIC INTERACTION BETWEEN MOLECULES ON A SOLID CARRIER |
| JP4560406B2 (ja) * | 2002-07-30 | 2010-10-13 | アステラス製薬株式会社 | 固相担体上における分子間の非特異相互作用の抑制方法 |
| US7919653B2 (en) | 2002-07-30 | 2011-04-05 | Reverse Proteomics Research Institute Co., Ltd. | Method of inhibiting nonspecific interaction between molecules on solid phase support |
| EP2157429A3 (en) * | 2002-07-30 | 2011-12-28 | Reverse Proteomics Research Institute Co., Ltd | Method of inhibiting nonspecific interaction between molecules on solid phase support |
| JP2011007731A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Fuji Silysia Chemical Ltd | 親水性有機化合物の分離方法、および親水性相互作用クロマトグラフィー用充填剤 |
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