JPH0631190B2 - 有機薄膜結晶の作成方法 - Google Patents
有機薄膜結晶の作成方法Info
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- JPH0631190B2 JPH0631190B2 JP17343185A JP17343185A JPH0631190B2 JP H0631190 B2 JPH0631190 B2 JP H0631190B2 JP 17343185 A JP17343185 A JP 17343185A JP 17343185 A JP17343185 A JP 17343185A JP H0631190 B2 JPH0631190 B2 JP H0631190B2
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 56
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002109 crystal growth method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は有機薄膜結晶の作成方法に関するものである。
(従来の技術) 有機物結晶の作成方法として、気相からの結晶成長、溶
液からの結晶成長、溶融状態からの結晶成長の3種が用
いられている。
液からの結晶成長、溶融状態からの結晶成長の3種が用
いられている。
(この3種の結晶成長方法については、丸善刊、新実験
化学講座、第1巻、基本操作II、PP・639−750,
によくまとめられている。) (発明が解決しようとする問題点) しかしながら、有機薄膜結晶の作成はこれまでほとんど
検討されたことがなく、その報告も高分子化合物の結晶
に限られている。(例えば、泉の総合報告(日本結晶成
長学会誌、第11巻、PP.117−134,1984
年)には、ポリエチレン薄膜結晶やポリアセチレン薄膜
結晶の例が述べられている。)高分子化合物ではない有
機薄膜単結晶の作成方法には適当なものがないという現
状である。
化学講座、第1巻、基本操作II、PP・639−750,
によくまとめられている。) (発明が解決しようとする問題点) しかしながら、有機薄膜結晶の作成はこれまでほとんど
検討されたことがなく、その報告も高分子化合物の結晶
に限られている。(例えば、泉の総合報告(日本結晶成
長学会誌、第11巻、PP.117−134,1984
年)には、ポリエチレン薄膜結晶やポリアセチレン薄膜
結晶の例が述べられている。)高分子化合物ではない有
機薄膜単結晶の作成方法には適当なものがないという現
状である。
本発明の目的は、高分子膜上に有機薄膜単結晶を作成す
る方法を提供することにある。
る方法を提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明によれば、高分子膜中に分散した有機結晶を種結
晶として、その膜上で有機物を薄膜状に結晶化させる有
機薄膜結晶の作成方法において、高分子膜の面内のある
方向に温度勾配をつけ、かかる方向に結晶成長させるこ
とを特徴とする有機薄膜結晶の作成方法が得られる。
晶として、その膜上で有機物を薄膜状に結晶化させる有
機薄膜結晶の作成方法において、高分子膜の面内のある
方向に温度勾配をつけ、かかる方向に結晶成長させるこ
とを特徴とする有機薄膜結晶の作成方法が得られる。
本発明で用いる高分子膜素材は薄膜形成能があれば何で
も良い。一例としては、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル
等があげられる。本発明で用いる種結晶となるる化合物
は、高分子膜中に結晶として分散でき、かつ目的とする
化合物の結晶成長を引き起こし得る化合物であれば何で
も良い。本発明の種結晶を含む高分子膜の面内方向の温
度勾配はいかなる方法によって持たせても良いが、面内
のある方向のみに勾配が得られなくてはならない。一例
としては、基板の一辺のみを熱源に接触させる方法や、
温度勾配を持った液体や気体中に基板を設置する方法が
あげられる。温度勾配の大きさやその絶対温度は種結晶
と結晶成長させる化合物の組み合わせによって決まる
が、温度勾配が少なすぎると、種結晶が膜全体に存在す
るために多結晶化する場合があるため注意して設定する
必要がある。かかる高分子膜の面内のある方向に温度勾
配を持たせる際に、面と垂直な方向に勾配を生じても差
し支えない。
も良い。一例としては、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル
等があげられる。本発明で用いる種結晶となるる化合物
は、高分子膜中に結晶として分散でき、かつ目的とする
化合物の結晶成長を引き起こし得る化合物であれば何で
も良い。本発明の種結晶を含む高分子膜の面内方向の温
度勾配はいかなる方法によって持たせても良いが、面内
のある方向のみに勾配が得られなくてはならない。一例
としては、基板の一辺のみを熱源に接触させる方法や、
温度勾配を持った液体や気体中に基板を設置する方法が
あげられる。温度勾配の大きさやその絶対温度は種結晶
と結晶成長させる化合物の組み合わせによって決まる
が、温度勾配が少なすぎると、種結晶が膜全体に存在す
るために多結晶化する場合があるため注意して設定する
必要がある。かかる高分子膜の面内のある方向に温度勾
配を持たせる際に、面と垂直な方向に勾配を生じても差
し支えない。
(作 用) 一般に単結晶を種結晶から成長させる場合、種結晶は1
個である必要がある。複数の種結晶があると、それぞれ
から成長が始まり単結晶となることはない。
個である必要がある。複数の種結晶があると、それぞれ
から成長が始まり単結晶となることはない。
しかしながら本発明においては、複数の種結晶があるに
もかかわらず、温度勾配がついているために、最も早く
成長開始温度に達した種結晶のみから成長が起こる。一
旦成長が始まると、温度勾配に応じて結晶化が進行し、
かつ種結晶からの成長(ヘテロエピタキシャル成長)よ
りも、成長した結晶がさらに成長(ホモエピタキシャル
成長)する方が速いため、単結晶が得られる。
もかかわらず、温度勾配がついているために、最も早く
成長開始温度に達した種結晶のみから成長が起こる。一
旦成長が始まると、温度勾配に応じて結晶化が進行し、
かつ種結晶からの成長(ヘテロエピタキシャル成長)よ
りも、成長した結晶がさらに成長(ホモエピタキシャル
成長)する方が速いため、単結晶が得られる。
(実施例) 第1図は本発明の実施例を示す模式図である。18mm×
18mmのガラス板2,(厚さ約0.15mm)に、分子量
60万のポリスチレン(0.50g)および2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンジリデン−4′−ブロモアニリ
ン(以下、MS4BrAと略す)(0.20g)を溶解
した1,4−ジオキサン(13.0g)溶液を5000
rpmでスピン塗布した。80℃で1時間乾燥してMS
4BrA微結晶が膜中に分散したポリスチレン膜3が、
前記ガラス板2上に得られた。
18mmのガラス板2,(厚さ約0.15mm)に、分子量
60万のポリスチレン(0.50g)および2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンジリデン−4′−ブロモアニリ
ン(以下、MS4BrAと略す)(0.20g)を溶解
した1,4−ジオキサン(13.0g)溶液を5000
rpmでスピン塗布した。80℃で1時間乾燥してMS
4BrA微結晶が膜中に分散したポリスチレン膜3が、
前記ガラス板2上に得られた。
以下の結晶成長実験には融点ブロック1を熱源として用
いた。膜3を塗布した前記ガラス板を一辺のみが直接融
点ブロックに接触する様にプラスチック製のスペーサ7
を用いて傾斜させて静置し2.0mgの2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンジリデン−4′−ブチルアニリン4
(以下、MS4BuAと略す)をのせ、融点ブロック1
を50℃まで加熱して液晶状態にした。50℃に保った
まま、その上に何も塗布していないガラス板5をのせ
て、毎分およそ0.5℃の速度で32℃まで冷却した。
32℃で10分間ほど静置するとMS4BuAの薄膜単
結晶4が、膜3と、上にのせたガラス板5の間に得られ
た。顕微鏡観察によると、結晶成長は融点ブロック1と
接触している辺の対向辺から開始し、融点ブロック1と
接触している辺に向かって進行していき、複数の細長い
単結晶を与えることがわかる。
いた。膜3を塗布した前記ガラス板を一辺のみが直接融
点ブロックに接触する様にプラスチック製のスペーサ7
を用いて傾斜させて静置し2.0mgの2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンジリデン−4′−ブチルアニリン4
(以下、MS4BuAと略す)をのせ、融点ブロック1
を50℃まで加熱して液晶状態にした。50℃に保った
まま、その上に何も塗布していないガラス板5をのせ
て、毎分およそ0.5℃の速度で32℃まで冷却した。
32℃で10分間ほど静置するとMS4BuAの薄膜単
結晶4が、膜3と、上にのせたガラス板5の間に得られ
た。顕微鏡観察によると、結晶成長は融点ブロック1と
接触している辺の対向辺から開始し、融点ブロック1と
接触している辺に向かって進行していき、複数の細長い
単結晶を与えることがわかる。
なお、膜3上に成長した有機薄膜結晶の結晶−液晶転移
温度は、36.5℃であり、この薄膜は365nmの紫
外光照射で赤変する。また、ガラス板2の1辺を接触さ
せる方法の他に、ガラス板2の角の1点を接触させて同
様の実験を行なっても単結晶が作成できた。
温度は、36.5℃であり、この薄膜は365nmの紫
外光照射で赤変する。また、ガラス板2の1辺を接触さ
せる方法の他に、ガラス板2の角の1点を接触させて同
様の実験を行なっても単結晶が作成できた。
さらに、膜3上で、2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ジリデン−4′−ヘプチルアニリン、2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンジリデン−4′−オクチルアニリン等
サリチリデンアニリン類の薄膜結晶も同様な方法で作成
できた。結晶成長時に上からのせるガラス板5は必ずし
も必要でなく、ガラス板5なしでも薄膜結晶は作成可能
であった。しかしながら、均一な膜厚を得るためには、
ガラス板には限らないが、何らかのおおいがある事が望
ましい。
ジリデン−4′−ヘプチルアニリン、2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンジリデン−4′−オクチルアニリン等
サリチリデンアニリン類の薄膜結晶も同様な方法で作成
できた。結晶成長時に上からのせるガラス板5は必ずし
も必要でなく、ガラス板5なしでも薄膜結晶は作成可能
であった。しかしながら、均一な膜厚を得るためには、
ガラス板には限らないが、何らかのおおいがある事が望
ましい。
参考例として、前述の薄膜結晶作成を、高分子膜を塗布
したガラス板を融点ブロックに密着させて行なったとこ
ろ、結晶成長が複数の点から起こり、全体が薄膜単結晶
となることはなかった。よって本発明の温度勾配は、全
体を単結晶化させるために有効であることが明らかであ
る。
したガラス板を融点ブロックに密着させて行なったとこ
ろ、結晶成長が複数の点から起こり、全体が薄膜単結晶
となることはなかった。よって本発明の温度勾配は、全
体を単結晶化させるために有効であることが明らかであ
る。
(発明の効果) 本発明によって、有機薄膜単結晶を高分子膜上に作成す
る方法が得られた。本実施例では、高分子膜中に分散さ
せた種結晶と、成長し薄膜結晶となる化合物は異なる
が、同一の化合物であっても差し支えない。また、高分
子膜素材もポリスチレンに限られるものではなく、その
塗布法もスピン塗布のみではなく、キャスト法、界面製
膜法等も使用できる。さらに必ずしもガラス板上に固定
されている必要はない。
る方法が得られた。本実施例では、高分子膜中に分散さ
せた種結晶と、成長し薄膜結晶となる化合物は異なる
が、同一の化合物であっても差し支えない。また、高分
子膜素材もポリスチレンに限られるものではなく、その
塗布法もスピン塗布のみではなく、キャスト法、界面製
膜法等も使用できる。さらに必ずしもガラス板上に固定
されている必要はない。
第1図は、本発明の実施例を示した図である。 図において、 1は温度制御可能な熱源、2はガラス板、3は種結晶の
分散した高分子フィルム、4は被結晶化層(例えば液
晶)、5はガラス板によるおおい、6は全体のカバー、
7はプラスチック製のスペーサをそれぞれ示す。
分散した高分子フィルム、4は被結晶化層(例えば液
晶)、5はガラス板によるおおい、6は全体のカバー、
7はプラスチック製のスペーサをそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【請求項1】高分子膜中に分散した有機結晶を種結晶と
してその膜上で有機物を薄膜状に結晶化させる有機薄膜
結晶の作成方法において、高分子膜の面内のある方向に
温度勾配をつけ、かかる方向に結晶成長させることを特
徴とする有機薄膜結晶の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17343185A JPH0631190B2 (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 有機薄膜結晶の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17343185A JPH0631190B2 (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 有機薄膜結晶の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6236095A JPS6236095A (ja) | 1987-02-17 |
| JPH0631190B2 true JPH0631190B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=15960326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17343185A Expired - Lifetime JPH0631190B2 (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | 有機薄膜結晶の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0631190B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2679708B2 (ja) * | 1987-08-27 | 1997-11-19 | 富士通株式会社 | 有機膜の作製方法 |
| JPH01172297A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-07 | Toray Ind Inc | 有機単結晶の製造法 |
| JP3667215B2 (ja) | 1999-08-31 | 2005-07-06 | キヤノン株式会社 | 単結晶性薄膜およびその製造方法 |
-
1985
- 1985-08-06 JP JP17343185A patent/JPH0631190B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6236095A (ja) | 1987-02-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |