JPH06312162A - 回転ドラム式洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 １台の回転ドラム内で複数の工程を区画して
連続処理する回転ドラム式洗浄装置において、工程間を
仕切り、他方の影響が及ばないようにする。 【構成】 工程間の境界部分において、筒面に無数の穴
(図示せず)のあいたドラム本体１１の内面に固定された
スパイラルフィン１２の１スパン以上に渡り内周縁１３
に仕切り円筒２１を固定し、この内面に環状仕切り板２
２を固定する。仕切りディスク２５を、環状仕切り板２
２に接近対向し、洗浄液供給管３１とエアー供給管４１
の外周に固定する。仕切り円筒２１と、それを固定する
１回転以上のスパイラルフィン１２と、環状仕切り板２
２および仕切りディスク２５とにより、被洗浄物のスパ
イラル搬送を阻害することなく、工程間を遮断する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、金属加工部品等の被洗
浄物を洗浄する回転ドラム式洗浄装置に関し、詳しく
は、洗浄液のシャワーによる洗浄工程と、それに続くす
すぎ工程、乾燥工程等の他の工程を回転ドラム内で連続
的に行なう洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プレス加工により油の付いた金属
加工部品などの被洗浄物を洗浄するための装置として、
回転ドラム式洗浄装置が知られている。この装置は、水
平方向に延在する回転ドラムを備えており、回転ドラム
は、無数の穴のあいた円筒状の外周壁と、その内面に固
定されるスパイラルフィンとを有する。回転ドラムが回
転すると、ドラムの一端より投入された被洗浄物は、ス
パイラルフィンの作用で他端にスパイラル搬送され、こ
のときに回転ドラムの内部または外部に設けられた洗浄
液噴射ノズルから洗浄液を吹き付けられることにより、
連続して洗浄される。

【０００３】この種の装置の中には、洗浄工程の他に、
乾燥工程やすすぎ工程などの工程を連続して行なうもの
があり、その装置では、一台のドラム内で各工程が区画
され、各工程の処理が行なわれる。この場合、工程の境
界部付近では隣接する工程が他方に影響を与え、問題と
なることがある。たとえば、乾燥工程に隣接工程の処理
液が飛散すれば、乾燥効率の低下をもたらす。また、洗
浄工程とすすぎ工程が隣接する場合に処理液の混合が生
じれば、処理液のリサイクル効率の低下をもたらす。

【０００４】このような問題が生じないようにするため
に工程間の距離を広げると、装置は大型化することとな
り、実用的でない。そこで、工程間に仕切りを設けた装
置が提案されている。

【０００５】たとえば、実公昭５７ー３６３５１号公報
に開示された洗浄装置では、回転ドラムの前半部で洗浄
液を噴射する洗浄工程を、後半部ですすぎ液を噴射する
すすぎ工程の処理を行なう。この装置では、回転ドラム
のスパイラルフィンの内周縁により形成される中心貫通
部に、噴射する処理液の供給管が工程間に渡って連続し
て設けられているので、供給管と干渉しない仕切りとし
てエアーカーテンが備えられている。

【０００６】しかし、エアーカーテンは剛体でないの
で、勢いのある液滴や大きな液滴はエアーカーテンを突
き破ってしまい、仕切りとしては完全ではなく、両工程
の処理液の混合を完全に防ぐことはできない。

【０００７】エアーカーテンの代わりに剛体で仕切るに
は、工程の境界部において回転運動している回転ドラム
の内部とその中の静止している供給管とのすきまを無く
す必要があるが、一方、被搬送物が通過するスペースは
空けておく必要がある。したがって、被洗浄物の送りを
阻害することなく工程間を完全に仕切ることは、容易で
はない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
解決すべき技術的課題は、１台の回転ドラムで複数の工
程を区画して連続処理する回転ドラム式洗浄装置におい
て、被洗浄物のスパイラル搬送を阻害することなく、ま
た、装置を大型化することなく、工程間を完全に仕切
り、工程間において他方の処理の影響が互いに及ばない
ようにすることである。

【０００９】

【課題を解決するための手段および作用・効果】上記の
技術的課題を解決するため、本発明に係る回転ドラム式
洗浄装置は以下のように構成されている。

【００１０】すなわち、筒面に無数の穴のあいた筒状ド
ラム本体と、ドラム本体内面にドラム本体と同心かつ同
軸方向に螺旋状に固定されるスパイラルフィンとを備え
た回転ドラムが水平方向に延在し、回転ドラムの延在方
向に沿って、少なくとも一つの洗浄工程と、それに続く
すすぎ工程、乾燥工程等の他の工程とに分かれ、回転ド
ラムの一端より投入された被洗浄物が順次処理され他端
より排出される。上記工程の境界部には、スパイラルフ
ィンの１スパン以上に渡ってスパイラルフィンの内周縁
に仕切り板手段が設けられ、スパイラルフィンの内周縁
が形成する中央貫通部が仕切り板手段で遮断されるよう
に構成されている。

【００１１】上記構成においては、上記したように、中
央貫通部は仕切り板手段で遮断される。また、工程間の
境界部において、ドラム本体内面と仕切り板手段外面と
の間の部分では、１スパン以上、すなわち１回転以上に
渡って存在するスパイラルフィンによって、軸方向につ
いては遮断される。仕切り板手段とスパイラルフィンは
共に剛体であり、エアーカーテンとは異なり、確実に工
程間を仕切ることができる。したがって、この仕切り板
手段によって、回転ドラムの工程間の境界部において、
隣接する工程が他方に直接軸方向に影響を与えることは
ない。

【００１２】一方、被洗浄物の搬送通路であるスパイラ
ルフィン間の溝部分には、なんら障害物を設けないの
で、被洗浄物のスパイラル搬送が阻害されることはな
い。また、この仕切り板手段はスパイラルフィンの１ス
パン以上であれば十分であり、したがって、装置が大型
化することはない。

【００１３】上記構成において、工程の処理媒体を供給
する供給管が、仕切り板手段と中心貫通部を貫通する場
合には、仕切り板手段は、工程の境界部における供給管
の外周に固定される少なくともひとつの仕切りディスク
と、スパイラルフィンの内周縁に固定される仕切り円筒
と、仕切りディスクに接近対向して仕切り円筒の内面に
固定される環状仕切り板とから構成される。このとき、
供給管に取り付けた仕切りディスクと、これに対応する
環状仕切り板とがラビリンスシールを形成するようにす
れば、仕切り円筒の内部にある環状仕切り板と仕切りデ
ィスクは、供給管が貫通しても、工程間を仕切ることが
できる。

【００１４】また、供給管が工程間の境界を貫通しない
場合、たとえば、片側だけで供給管が支持されている場
合や回転ドラムの外側だけに工程の処理機構が設けられ
た場合には、スパイラルフィンの内周縁に固定される仕
切り円筒と、仕切り円筒の内周面に固定される仕切り円
板とから、仕切り板手段を構成すれば、同様に工程間を
仕切ることができる。ここで、仕切り円板の厚さを仕切
り円筒と同じにすれば、中実円柱を仕切り板手段とする
ことと、実質的に同一となる。

【００１５】さらに、回転ドラムの外側からも洗浄液を
吹き付けるような場合には、上記構成に加え、回転ドラ
ムは装置ケーシング内に収納され、回転ドラムの下方に
は洗浄液を受ける受け皿を有し、工程間の境界部には、
回転ドラムとケーシングおよび受け皿とから形成される
空間を仕切る少なくとも一つの外仕切り板がさらに設け
られることが、好ましい。このように構成すれば、回転
ドラムの外側から隣接工程の影響が及ばないようにな
り、工程間を一層完全に仕切ることができる。

【００１６】

【実施例】以下に、図１〜５に示した本発明の実施例に
係る回転ドラム式洗浄装置１について詳細に説明する。

【００１７】まず、図１〜３に示した本発明の第一実施
例について説明する。本実施例は、洗浄工程Ａと乾燥工
程Ｂとの複数工程を１台の回転ドラム１０で連続処理す
る回転ドラム式洗浄装置１に関する。

【００１８】図１に示すように、本実施例に係る回転ド
ラム式洗浄装置１は、ケーシング２内に回転ドラム１０
が収納されている。回転ドラム１０は水平方向に延在
し、その一端側には、ベルトコンベア３と投入シュート
４が設けられ、被洗浄物が投入される。回転ドラム１０
の他端側には排出シュート５が設けられ、被洗浄物が回
収される。回転ドラムの下方には、受け皿６１と洗浄液
タンク６０が設けられ、洗浄液は回収されて濾過された
後、循環再利用される。

【００１９】回転ドラム１０は、支持ローラ１７が回転
ドラム１０の支持フランジ１６を支持することによって
支持され、回転ドラム１０のフランジ部に設けられた穴
１９にスプロケット１８がかみ合い、図示しない駆動手
段で回転される。

【００２０】回転ドラム１０のドラム本体１１は、円筒
形状であり、筒面には被洗浄物より小さい無数の穴(図
示せず)があいている。ドラム本体１１の内面には、ド
ラム本体１１と同心かつ同軸方向に螺旋状にスパイラル
フィン１２が固定されている。回転ドラム１０は、洗浄
工程Ａと乾燥工程Ｂとに区画され、その境界部分に仕切
り板手段２０と外仕切り板６２とが設けられている。

【００２１】洗浄工程Ａでは、回転ドラム１０の内部に
設けられた上洗浄液供給管３１の洗浄液噴射ノズル３３
から噴射されて被洗浄物に達する洗浄液と、回転ドラム
１０の外側下方に設けられた下洗浄液供給管３２の洗浄
液噴射ノズル３３から噴射されてドラム本体１１の筒面
の穴(図示せず)を通って被洗浄物に達する洗浄液とによ
って、被洗浄物は洗浄される。乾燥工程Ｂでは、回転ド
ラム１０の内部および外部に設けられた上エアー供給管
４１および下エアー供給管４２のエアー噴射ノズル４３
から噴射されるエアーによって、被洗浄物は乾燥され
る。

【００２２】図２に示すように、上洗浄液供給管３１と
上エアー供給管４１とは、スパイラルフィン１２の内周
縁１３により形成される中央貫通部１４に設けられ、接
合フランジ２６により結合されて、洗浄工程Ａと乾燥工
程Ｂとの間を貫通している。仕切り板手段２０は、上洗
浄液供給管３１と上エアー供給管４１との外周にそれぞ
れ固定される一対の仕切りディスク２５と、スパイラル
フィン１２の内周縁１３に固定される仕切り円筒２１
と、仕切りディスク２５に接近対向して仕切り円筒２１
の内面に固定される環状仕切り板２２とから構成され、
仕切りディスク２５と環状仕切り板２２とがラビリンス
シールを形成する。

【００２３】仕切り円筒２１の軸方向の長さはスパイラ
ルフィンの１スパン以上、すなわち１回転に相当する軸
方向の長さ以上であり、仕切り円筒２１には３６０度以
上に渡ってスパイラルフィン１２が固定されている。し
たがって、ドラム本体１１の内面と仕切り円筒２１の外
面との間に形成される空間は、スパイラルフィン１２に
よって、回転ドラム１０の軸方向については完全に遮断
される。しかしながら、このドラム本体１１の内面と仕
切り円筒２１の外面との間に形成される空間には、なん
ら障害物が設けられていないので、被洗浄物のスパイラ
ル搬送は全く阻害されない。一方、仕切り円筒２１の内
側の部分については、環状仕切り板２２と仕切りディス
ク２５がラビリンスシールを形成するので、実質的には
すきまはなく、したがって完全に遮断されている。

【００２４】図１および３に示すように、回転ドラム１
０とケーシング２と受け皿６１とから形成される空間に
は、工程間の境界部に、ドラム本体１１の外周面に近接
して一対の外仕切り板６２が設けられている。この外仕
切り板６２は、スパイラルフィン１２の１スパンに相当
する距離だけ間隔があけられている。これによって、回
転ドラム１０とケーシング２と受け皿６１とから形成さ
れる空間についても仕切られており、回転ドラム１０の
外側から隣の工程の影響が及ばない。本実施例では、工
程間の仕切り効果を高めるため一対の外仕切り板６２を
設けているが、図１において二点鎖線で示すように、一
枚の外仕切り板６２'とすることも可能である。なお、
図３に示すように、外仕切り板６２の下部は受け皿６１
との間にすきま６３が設けられ、乾燥工程Ｂにおいて滴
下する洗浄液が流れるようになっている。

【００２５】以上の構成により、被洗浄物のスパイラル
搬送を阻害することなく、また、装置を大型化すること
なく、洗浄工程Ａと乾燥工程Ｂとは、実用的に完全に仕
切られ、他方の工程の処理の影響を受けるという問題は
生じない。

【００２６】上記実施例では、供給管３１,４１は工程
間の境界を貫通しているが、つぎに貫通しない場合につ
いての第二実施例を示す。図４に、第二実施例に係る回
転ドラム式洗浄装置の要部を示す。本実施例は、上洗浄
液供給管３１と上エアー供給管４１とが、いずれも洗浄
工程Ａと乾燥工程Ｂとの境界部を貫通していない。仕切
り板手段２０は、スパイラルフィンの内周縁に固定され
る仕切り円筒２１と、仕切り円筒２１の内周面に固定さ
れる仕切り円板２３とから構成され、仕切り円筒２１は
スパイラルフィン１２の１スパン以上に渡ってスパイラ
ルフィン１２の内周縁１３に固定されており、第一実施
例と同様に、工程間は完全に遮断されている。

【００２７】上記実施例の回転ドラムは２工程に区画さ
れていたが、つぎに３工程に区画された第三実施例を示
す。図５に、第三実施例に係る回転ドラム式洗浄装置の
要部を示す。本実施例では、洗浄工程Ａと乾燥工程Ｂと
の間に、すすぎ工程Ｃが設けられている。工程間の仕切
り板手段２０は、洗浄工程Ａとすすぎ工程Ｃの境界部に
は洗浄・すすぎ仕切り部材２７が、すすぎ工程Ｃと乾燥
工程Ｂとの境界部にはすすぎ・乾燥仕切り部材２８が、
それぞれ設けられる。洗浄・すすぎ仕切り部材２７およ
びすすぎ・乾燥仕切り部材２８は、第一実施例と同様
に、上洗浄液供給管３１および上すすぎ液供給管５１の
外周に固定される仕切りディスク２５と、スパイラルフ
ィン１２の内周縁１３に１スパン以上に渡って固定され
る仕切り円筒２１と、仕切りディスク２５に接近対向し
て仕切り円筒２１の内面に固定される環状仕切り板２２
とから構成され、仕切りディスク２５と環状仕切り板２
２とがラビリンスシールを形成し、上記実施例と同様
に、工程間は完全に遮断されている。

【００２８】なお、本発明は上記各実施例に限定される
ものではなく、その他種々の態様で実施することが可能
である。たとえば、上記実施例では回転ドラム１０は水
平方向に延在しているが、多少傾けることも可能であ
る。また、洗浄工程Ａの前に、別の工程を設けてもよ
い。さらに、乾燥工程Ｂが、たとえば熱線を照射するも
のであっても、同様の仕切り板手段２０を適用すること
により、工程間において他方の処理の影響が互いに及ば
ないようにすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第一実施例に係る回転ドラム式洗浄
装置全体の一部破断側面図である。

【図２】 図１の要部拡大図である。仕切り板手段が詳
細に示されている。

【図３】 図１のIII−III線断面図である。

【図４】 本発明の第二実施例に係る回転ドラム式洗浄
装置の要部拡大図である。図２と同様に仕切り板手段が
詳細に示されている。

【図５】 本発明の第三実施例に係る回転ドラム式洗浄
装置の一部破断側面図である。回転ドラムが詳細に示さ
れている。

【符号の説明】

１ 洗浄装置 ２ ケーシング ３ ベルトコンベア ４ 投入シュート ５ 排出シュート １０ 回転ドラム １１ ドラム本体 １２ スパイラル
フィン １３ 内周縁 １４ 中央貫通部 １６ 支持フランジ １７ 支持ローラ １８ スプロケット １９ 穴 ２０ 仕切り板手段 ２１ 仕切り円筒 ２２ 環状仕切り板 ２３ 仕切り円板 ２５ 仕切りディスク ２６ 接合フラン
ジ ２７ 洗浄・すすぎ仕切り部材 ２８ すすぎ・乾
燥仕切り部材 ３１ 上洗浄液供給管 ３２ 下洗浄液供
給管 ３３ 洗浄液噴射ノズル ４１ 上エアー供
給管 ４２ 下エアー供給管 ４３ エアー噴射
ノズル ５１ 上すすぎ液供給管 ５２ 下すすぎ液
供給管 ５３ すすぎ液噴射ノズル ６０ 洗浄液タン
ク ６１ 受け皿 ６２，６２’ 外
仕切り板 ６３ すきま Ａ 洗浄工程 Ｂ 乾燥工程 Ｃ すすぎ工程

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 筒面に無数の穴のあいた筒状ドラム本体
   (１１)と、ドラム本体(１１)内面にドラム本体(１１)と
   同心かつ同軸方向に螺旋状に固定されるスパイラルフィ
   ン(１２)とを備えた回転ドラム(１０)が水平方向に延在
   し、 回転ドラム(１０)は、その延在方向に沿って、少なくと
   も一つの洗浄工程(Ａ)と、それに続くすすぎ工程(Ｃ)、
   乾燥工程(Ｂ)等の他の工程とに分かれ、 回転ドラム(１０)の一端より投入された被洗浄物が順次
   処理され他端より排出される回転ドラム式洗浄装置(１)
   において、 上記工程の境界部には、スパイラルフィン(１２)の１ス
   パン以上に渡ってスパイラルフィン(１２)の内周縁(１
   ３)に設けられ、スパイラルフィン(１２)の内周縁(１
   ３)により形成される中心貫通部(１４)を工程間で遮断
   する仕切り板手段(２０)を備えたことを特徴とする回転
   ドラム式洗浄装置。
2. 【請求項２】 上記仕切り板手段(２０)と上記中心貫通
   部(１４)を貫通しかつ上記工程の処理媒体を供給する供
   給管(３１,４１,５１)をさらに備え、 仕切り板手段(２０)は、工程の境界部における供給管
   (３１,４１,５１)の外周に固定される少なくともひとつ
   の仕切りディスク(２５)と、 上記スパイラルフィン(１２)の上記内周縁(１３)に固定
   される仕切り円筒(２１)と、 仕切りディスク(２５)に接近対向して仕切り円筒(２１)
   の内面に固定される環状仕切り板(２２)とから構成さ
   れ、 供給管(３１,４１,５１)に取り付けた仕切りディスク
   (２５)と、これに対応する環状仕切り板(２２)とがラビ
   リンスシールを形成することを特徴とする請求項１記載
   の洗浄装置。
3. 【請求項３】 上記仕切り板手段(２０)は、上記スパイ
   ラルフィン(１２)の上記内周縁(１３)に固定される仕切
   り円筒(２１)と、 仕切り円筒(２１)の内周面に固定される仕切り円板(２
   ３)とから構成されることを特徴とする請求項１記載の
   洗浄装置。
4. 【請求項４】 上記回転ドラム(１０)は装置ケーシング
   (２)内に収納され、回転ドラム(１０)の下方には洗浄液
   を受ける受け皿(６１)を有し、 上記工程間の境界部には、回転ドラム(１０)とケーシン
   グ(２)および受け皿(６１)とから形成される空間を仕切
   る少なくとも一つの外仕切り板(６２)がさらに設けられ
   たことを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。