JPH0631240B2 - ラクトンの製造方法 - Google Patents
ラクトンの製造方法Info
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- JPH0631240B2 JPH0631240B2 JP60101638A JP10163885A JPH0631240B2 JP H0631240 B2 JPH0631240 B2 JP H0631240B2 JP 60101638 A JP60101638 A JP 60101638A JP 10163885 A JP10163885 A JP 10163885A JP H0631240 B2 JPH0631240 B2 JP H0631240B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
- C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D491/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/04—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D233/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D233/30—Oxygen or sulfur atoms
- C07D233/32—One oxygen atom
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は式 式中、Ｒはベンジル残基を表わす、 の光学的活性ラクトンの新規な製造方法に関する。
この式Ｉの光学的活性ラクトンは（＋）−ビオチン、並
びにその誘導体及びこれに関連する化合物を合成する際
の公知の価値ある中間体である。
びにその誘導体及びこれに関連する化合物を合成する際
の公知の価値ある中間体である。
式Ｉに関して“（３ａＳ，６ａＲ）”なる表現は、本発
明の範囲において、ベンゼンまたはクロロホム中で右旋
性である対掌体と理解されたい。この対掌体を以下に
（＋）−ラクトンとして示す。
明の範囲において、ベンゼンまたはクロロホム中で右旋
性である対掌体と理解されたい。この対掌体を以下に
（＋）−ラクトンとして示す。
式Ｉの（＋）−ラクトンの製造方法はドイツ国特許明細
書第２０５８２４８号及びヨーロツパ特許第４４１５８
号によりすでに公知である。この第一の場合には、ラセ
ミ体半エステルをその光学的対掌体に分割し、そして所
望の対掌体を式Ｉの（＋）−ラクトンに転化する。第二
の場合には、ジカルボン酸または対応する無水物を特定
の光学的活性アミンと反応させ、これによつて（Ｓ）−
アミド酸を過剰量に生成させる。次にこのものを、カル
ボキシル基のエステル化後、水素化ホウ素ナトリウムで
還元し、そして式Ｉの（＋）−ラクトンに加水分解させ
ることができる。両方法は、一方では、望ましくない対
掌体の再環化によつてラセミ体分割を行わなければなら
ず、他方では、良好な収率を得るために、同様に生成し
た（Ｒ）−アミド酸並びに他の副生成物をまた再環化し
なければならないと云う欠点を有している。更に、後者
の場合には、アミド生成後に未だ遊離であるカルボキシ
ル基をエステル化して、必要な還元を可能にしなければ
ならない。
書第２０５８２４８号及びヨーロツパ特許第４４１５８
号によりすでに公知である。この第一の場合には、ラセ
ミ体半エステルをその光学的対掌体に分割し、そして所
望の対掌体を式Ｉの（＋）−ラクトンに転化する。第二
の場合には、ジカルボン酸または対応する無水物を特定
の光学的活性アミンと反応させ、これによつて（Ｓ）−
アミド酸を過剰量に生成させる。次にこのものを、カル
ボキシル基のエステル化後、水素化ホウ素ナトリウムで
還元し、そして式Ｉの（＋）−ラクトンに加水分解させ
ることができる。両方法は、一方では、望ましくない対
掌体の再環化によつてラセミ体分割を行わなければなら
ず、他方では、良好な収率を得るために、同様に生成し
た（Ｒ）−アミド酸並びに他の副生成物をまた再環化し
なければならないと云う欠点を有している。更に、後者
の場合には、アミド生成後に未だ遊離であるカルボキシ
ル基をエステル化して、必要な還元を可能にしなければ
ならない。
従つて、式Ｉの（＋）−ラクトンを、望ましくない副生
成物の再環化を必要とせず、または前もつてのアミド生
成なしに、光学的高純度をもつて高収率で得ることがで
きる方法が要求されている。今回、これが本発明によつ
て可能になつた。かくして、驚くべきことに、式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の環式無水物を特定のキラル（chiral）アルコールと反
応させることにより、還元によつて（＋）−ラクトンに
容易に転化され得る所望の半エステルがほとんど排他的
に生成することが見出された。
成物の再環化を必要とせず、または前もつてのアミド生
成なしに、光学的高純度をもつて高収率で得ることがで
きる方法が要求されている。今回、これが本発明によつ
て可能になつた。かくして、驚くべきことに、式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の環式無水物を特定のキラル（chiral）アルコールと反
応させることにより、還元によつて（＋）−ラクトンに
容易に転化され得る所望の半エステルがほとんど排他的
に生成することが見出された。
従つて、本発明による方法は、式IIの環式無水物を一般
式 式中、Ｒ1は式 の残基を表わし、Ｒ2は水素、ハロゲン、低級アルキル
または低級アルコキシを表わし、Ｒ3は水素またはヒド
ロキシを表わすか、或いは残基(b)におけるＲ2が水素で
ある場合、Ｒ3はまた低級アルキル、低級アルコキシま
たはフエニルを表わし、Ｒ4はシクロアルキル、随時塩
素もしくはメチルで置換されていてもよいフエニル、チ
エニルまたは２−フリルを表わし、Ｒ5は水素または低
級アルキルを表わし、Ｒ6は低級アルキルまたはフエニ
ルを表わし、Ａは硫黄またはメチレン基を表わし、Ｂは
硫黄、−ＳＯ2−またはメチレン基を表わし、そしてｎ
は、Ａが硫黄を表わす場合には数１であるか、或いはＡ
がメチレン基を表わす場合には数１または２である、 の第二級キラルアルコールと反応させ、そして生ずる一
般式 式中、Ｒ7は残基 を表わし、そしてＲ及びＲ1は上記の意味を有する、 の半エステルを水素化ホウ素錯体で還元することからな
る。
式 式中、Ｒ1は式 の残基を表わし、Ｒ2は水素、ハロゲン、低級アルキル
または低級アルコキシを表わし、Ｒ3は水素またはヒド
ロキシを表わすか、或いは残基(b)におけるＲ2が水素で
ある場合、Ｒ3はまた低級アルキル、低級アルコキシま
たはフエニルを表わし、Ｒ4はシクロアルキル、随時塩
素もしくはメチルで置換されていてもよいフエニル、チ
エニルまたは２−フリルを表わし、Ｒ5は水素または低
級アルキルを表わし、Ｒ6は低級アルキルまたはフエニ
ルを表わし、Ａは硫黄またはメチレン基を表わし、Ｂは
硫黄、−ＳＯ2−またはメチレン基を表わし、そしてｎ
は、Ａが硫黄を表わす場合には数１であるか、或いはＡ
がメチレン基を表わす場合には数１または２である、 の第二級キラルアルコールと反応させ、そして生ずる一
般式 式中、Ｒ7は残基 を表わし、そしてＲ及びＲ1は上記の意味を有する、 の半エステルを水素化ホウ素錯体で還元することからな
る。
本発明の範囲において、「低級アルキル」なる用語は炭
素原子１〜５個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキ
ル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ペンチル等を表わす。
「低級アルコキシ」なる用語はアルキル残基が上記の意
味を有する基を表わす。「ハロゲン」なる用語はフツ
素、塩素または臭素を表わす。「シクロアルキル」なる
用語は炭素原子３〜７個を有する基、例えばシクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
及びシクロヘプチルを表わす。
素原子１〜５個を有する直鎖状または分枝鎖状のアルキ
ル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ペンチル等を表わす。
「低級アルコキシ」なる用語はアルキル残基が上記の意
味を有する基を表わす。「ハロゲン」なる用語はフツ
素、塩素または臭素を表わす。「シクロアルキル」なる
用語は炭素原子３〜７個を有する基、例えばシクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル
及びシクロヘプチルを表わす。
「水素化ホウ素錯体」（complex borohyd-rides）と
は、本発明の範囲においては特に、陽イオンがアルカリ
金属、例えばリチウム、ナトリウムもしくはカリウム、
またはテトラアルキルアンモニウムイオン、例えばテト
ラブチルアンモニウムであることができるものと理解さ
れたい。水素化ホウ素リチウムが特に好ましい。
は、本発明の範囲においては特に、陽イオンがアルカリ
金属、例えばリチウム、ナトリウムもしくはカリウム、
またはテトラアルキルアンモニウムイオン、例えばテト
ラブチルアンモニウムであることができるものと理解さ
れたい。水素化ホウ素リチウムが特に好ましい。
用いる式IIIのキラルアルコールのあるものは公知の化
合物であり、そしてあるものは新規な化合物であり、そ
れ自体公知の方法において製造することができる。しか
しながら、この場合に、得られるキラルアルコールが常
にエナンチオマー的に均一であることを注意しなければ
ならない。式IIIの好ましいアルコールはＲ1が式(d)の
残基を表わすものである。
合物であり、そしてあるものは新規な化合物であり、そ
れ自体公知の方法において製造することができる。しか
しながら、この場合に、得られるキラルアルコールが常
にエナンチオマー的に均一であることを注意しなければ
ならない。式IIIの好ましいアルコールはＲ1が式(d)の
残基を表わすものである。
式IIの環式無水物と式IIIのキラル第二級アルコールと
の反応はそれ自体公知の方法において行うことができ
る。この反応は不活性ガス、例えば二酸化炭素、アルゴ
ン、窒素等の下で、且つ反応条件下で不活性な無水有機
溶媒中で有利に行われる。溶媒として、殊に芳香族炭化
水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、アニソー
ル、クロロベンゼン等、エーテル類、例えばジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはポリ
エーテル類、例えばモノグリムもしくはジグリム等、ハ
ロゲン化された炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム、或いはまたジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、シクロヘキサン、二硫化
炭素等を挙げることができる。好ましい溶媒は芳香族炭
化水素、特に上記のものである。
の反応はそれ自体公知の方法において行うことができ
る。この反応は不活性ガス、例えば二酸化炭素、アルゴ
ン、窒素等の下で、且つ反応条件下で不活性な無水有機
溶媒中で有利に行われる。溶媒として、殊に芳香族炭化
水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、アニソー
ル、クロロベンゼン等、エーテル類、例えばジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、またはポリ
エーテル類、例えばモノグリムもしくはジグリム等、ハ
ロゲン化された炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム、或いはまたジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、アセトニトリル、シクロヘキサン、二硫化
炭素等を挙げることができる。好ましい溶媒は芳香族炭
化水素、特に上記のものである。
この反応は好ましくは触媒の存在下において行うことが
できる。かかる触媒として、例えば第三級アミン、例え
ばジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロウンデセ
ン、ｐ−ジメチルアミノピリジン等、並びに低級アルキ
ル残基を含むトリアルキルアミン、例えばトリエチルア
ミン等が考えられる。反応を触媒の存在下において行う
場合、触媒は化学量論的量で有利に用いられる。更に、
この反応は約−７０℃乃至反応混合物の還流温度で行う
ことができる。この反応は好ましくは約−５０℃乃至ほ
ぼ室温、特に約−３０℃乃至約０℃の温度で行われる。
この反応を行う圧力は臨界的な意味をもたない。
できる。かかる触媒として、例えば第三級アミン、例え
ばジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロウンデセ
ン、ｐ−ジメチルアミノピリジン等、並びに低級アルキ
ル残基を含むトリアルキルアミン、例えばトリエチルア
ミン等が考えられる。反応を触媒の存在下において行う
場合、触媒は化学量論的量で有利に用いられる。更に、
この反応は約−７０℃乃至反応混合物の還流温度で行う
ことができる。この反応は好ましくは約−５０℃乃至ほ
ぼ室温、特に約−３０℃乃至約０℃の温度で行われる。
この反応を行う圧力は臨界的な意味をもたない。
本発明による方法の特に好ましい具体化例は式IIの環式
無水物を、化学量論的量の触媒、特にジアザビシクロオ
クタンの存在下において、芳香族炭化水素特にトルエン
中で−２０℃乃至０℃の温度にて〔Ｓ〕−１，１−ジア
リールプロパノールまたは〔Ｓ〕−１，１−ジアリール
プロパン−１，２−ジオール、好ましくは〔Ｓ〕−１，
１−ジフエニルプロパノールまたは〔Ｓ〕−１，１−ジ
フエニル−１，２−プロパン−ジオールと反応させるこ
とからなる。
無水物を、化学量論的量の触媒、特にジアザビシクロオ
クタンの存在下において、芳香族炭化水素特にトルエン
中で−２０℃乃至０℃の温度にて〔Ｓ〕−１，１−ジア
リールプロパノールまたは〔Ｓ〕−１，１−ジアリール
プロパン−１，２−ジオール、好ましくは〔Ｓ〕−１，
１−ジフエニルプロパノールまたは〔Ｓ〕−１，１−ジ
フエニル−１，２−プロパン−ジオールと反応させるこ
とからなる。
式IVの半エステルの還元はその場で、或いはまたその単
離後に行うことができる。遊離カルボキシル基は、式II
の環式無水物と式IIIのアルコールとの反応を触媒の存
在下において行う場合、還元を行う前に塩に転化され
る。還元自体は水素化ホウ素錯体、好ましくは水素化ホ
ウ素リチウムを用いて行うことができる。この還元は不
活性ガス雰囲気下、例えば窒素またはアルゴン下で、不
活性有機溶媒、例えばエーテル、例えばジオキサンもし
くはテトラヒドロフランまたはグリコールもしくはジエ
チレングリコールのエーテル、例えばジエチレングリコ
ールジメチルエーテル中にて、ほぼ室温乃至反応混合物
の還流温度で有利に行われる。この場合に用いることが
好ましい水素化ホウ素リチウムをそのまま用いることが
できるか、或いは水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化
ホウ素カリウム及び塩化リチウムまたは臭化リチウムか
らその場で生成させることができる。
離後に行うことができる。遊離カルボキシル基は、式II
の環式無水物と式IIIのアルコールとの反応を触媒の存
在下において行う場合、還元を行う前に塩に転化され
る。還元自体は水素化ホウ素錯体、好ましくは水素化ホ
ウ素リチウムを用いて行うことができる。この還元は不
活性ガス雰囲気下、例えば窒素またはアルゴン下で、不
活性有機溶媒、例えばエーテル、例えばジオキサンもし
くはテトラヒドロフランまたはグリコールもしくはジエ
チレングリコールのエーテル、例えばジエチレングリコ
ールジメチルエーテル中にて、ほぼ室温乃至反応混合物
の還流温度で有利に行われる。この場合に用いることが
好ましい水素化ホウ素リチウムをそのまま用いることが
できるか、或いは水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化
ホウ素カリウム及び塩化リチウムまたは臭化リチウムか
らその場で生成させることができる。
以下の実施例は本発明を説明するためのものであり、決
してその範囲を限定するものではない。
してその範囲を限定するものではない。
実施例中に示した光学的純度“e.e.”は ▲〔α〕20 D▼＝＋６2.０°（１％、ＣＨＣｌ3）を有す
る式Ｉのラクトンを基準にする。
る式Ｉのラクトンを基準にする。
実施例１ Ａ）トルエン１０ｍ中のシス−１，３−ジベンジル−
ヘキサヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール
−２，４，６−トリオン1.０１ｇ（３ミリモル）及び
〔Ｓ〕−１，１−ジフエニル−２−プロパノール（▲
〔α〕20 365▼＝−２１8.６°（0.５％、エタノー
ル））0.６３７ｇ（３ミリモル）をアルゴン下にある装
置に入れた。この懸濁液にトルエン１０ｍ中のジアザ
ビシクロオクタン0.１６８ｇ（1.５ミリモル）の溶液を
−１０℃で３０分以内に滴下した。−１０℃で１８時間
後、透明な溶液を室温で更に１時間攪拌した。次にこの
溶液を0.１Ｎ ＨＣｌ ３０ｍで酸性にし、３個の分
液ロート中でエーテル各１００ｍによつて抽出した。
有機相を水各３０ｍで３回洗浄し、合液し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして濃縮した。５−〔−〔Ｓ〕−
１，１−ジフエニル−２−プロピル〕−４−水素−シス
−１，３−ジベンジル−２−オキソ−４，５−イミダゾ
リジンジカルボキシレート2.８ｇが得られた。
ヘキサヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール
−２，４，６−トリオン1.０１ｇ（３ミリモル）及び
〔Ｓ〕−１，１−ジフエニル−２−プロパノール（▲
〔α〕20 365▼＝−２１8.６°（0.５％、エタノー
ル））0.６３７ｇ（３ミリモル）をアルゴン下にある装
置に入れた。この懸濁液にトルエン１０ｍ中のジアザ
ビシクロオクタン0.１６８ｇ（1.５ミリモル）の溶液を
−１０℃で３０分以内に滴下した。−１０℃で１８時間
後、透明な溶液を室温で更に１時間攪拌した。次にこの
溶液を0.１Ｎ ＨＣｌ ３０ｍで酸性にし、３個の分
液ロート中でエーテル各１００ｍによつて抽出した。
有機相を水各３０ｍで３回洗浄し、合液し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして濃縮した。５−〔−〔Ｓ〕−
１，１−ジフエニル−２−プロピル〕−４−水素−シス
−１，３−ジベンジル−２−オキソ−４，５−イミダゾ
リジンジカルボキシレート2.８ｇが得られた。
Ｂ）テトラヒドロフラン中の0.０５Ｍ水素化ホウ素リチ
ウム溶液7.５ｍ（６ミリモル）をアルゴン下にある装
置に入れた。これにテトラヒドロフラン２０ｍ中の５
−〔−〔Ｓ〕−１，１−ジフエニル−２−プロピル〕−
４−水素−シス−１，３−ジベンジル−２−オキソ−
４，５−イミダゾリジンジカルボキシレート（Ａに従つ
て製造したもの）2.８ｇ（３ミリモル）及びトリエチル
アミン0.４２ｍ（３ミリモル）の溶液に４０〜４５℃
で１時間以内に滴下した。この混合物を４０℃で更に２
時間攪拌し、次に３Ｎ ＨＣｌ 3.５ｍで処理した。
そこですぐに反応混合物を７０℃で３０分間攪拌し、２
個の分液ロート中にて各々の場合にエーテル１５０ｍ
で抽出した。有機相を水各５０ｍで３回洗浄し、合液
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮した。残渣
（1.６５ｇ）をシリカゲル１５０ｇ上で、ｎ−ヘキサン
／エーテル（４：６、ｖ／ｖ）６００ｍ、次にトルエ
ン／アセトン／氷酢酸（９２：５：３、ｖ／ｖ）８００
ｍを用いてクロマトグラフイーにかけた。（３ａＳ，
６ａＲ）−１，３−ジベンジル−ジヒドロ−１Ｈ−フロ
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４（３Ｈ，３ａＨ）
−ジオン0.７７２ｇ（８０％）が得られた。▲〔α〕20
D▼＝＋５9.４°（１％、ＣＨＣｌ3）、これは光学的純
度９5.８％e.e.に対応した。イソプロパノール7.７ｍ
から再結晶化後、生成物は▲〔α〕20 D▼＝＋６1.３°
（１％、ＣＨＣｌ3）の回転を有し、これは光学的純度
９8.７％e.e.に対応した。
ウム溶液7.５ｍ（６ミリモル）をアルゴン下にある装
置に入れた。これにテトラヒドロフラン２０ｍ中の５
−〔−〔Ｓ〕−１，１−ジフエニル−２−プロピル〕−
４−水素−シス−１，３−ジベンジル−２−オキソ−
４，５−イミダゾリジンジカルボキシレート（Ａに従つ
て製造したもの）2.８ｇ（３ミリモル）及びトリエチル
アミン0.４２ｍ（３ミリモル）の溶液に４０〜４５℃
で１時間以内に滴下した。この混合物を４０℃で更に２
時間攪拌し、次に３Ｎ ＨＣｌ 3.５ｍで処理した。
そこですぐに反応混合物を７０℃で３０分間攪拌し、２
個の分液ロート中にて各々の場合にエーテル１５０ｍ
で抽出した。有機相を水各５０ｍで３回洗浄し、合液
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮した。残渣
（1.６５ｇ）をシリカゲル１５０ｇ上で、ｎ−ヘキサン
／エーテル（４：６、ｖ／ｖ）６００ｍ、次にトルエ
ン／アセトン／氷酢酸（９２：５：３、ｖ／ｖ）８００
ｍを用いてクロマトグラフイーにかけた。（３ａＳ，
６ａＲ）−１，３−ジベンジル−ジヒドロ−１Ｈ−フロ
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４（３Ｈ，３ａＨ）
−ジオン0.７７２ｇ（８０％）が得られた。▲〔α〕20
D▼＝＋５9.４°（１％、ＣＨＣｌ3）、これは光学的純
度９5.８％e.e.に対応した。イソプロパノール7.７ｍ
から再結晶化後、生成物は▲〔α〕20 D▼＝＋６1.３°
（１％、ＣＨＣｌ3）の回転を有し、これは光学的純度
９8.７％e.e.に対応した。
実施例２ Ａ）シス−１，３−ジベンジル−ヘキサヒドロ−１Ｈ−
フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４，６−トリオ
ン0.３３６ｇ（１ミリモル）、テトラヒドロフラン５ｍ
及び（＋）−１０，１１−ジヒドロ−α−メチル−５
Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロペンテン−５−メタノー
ル（▲〔α〕20 365▼＝＋３２6.８°（１％、エタノー
ル））0.２３８ｇ（１ミリモル）をアルゴン下にある装
置に入れた。これにテトラヒドロフラン５ｍ中のトリ
エチルアミン0.１４ｍの溶液を室温で３０分以内に滴
下した。この懸濁液は滴下中に溶解した。１８時間後、
１Ｎ ＨＣｌ１０ｍを加え、生成物をエーテル各１０
０ｍで２回抽出した。有機相を水各２０ｍで３回洗
浄し、合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮
した。５−〔１−（１０，１１−ジヒドロ−５Ｈ−ジベ
ンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテン−５−イル）エチル〕−
４−水素−シス−１．３−ジベンジル−２−オキソ−
４，５−イミダゾリンジカルボキシレート0.５０ｇ（８
７％）が得られた。
フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４，６−トリオ
ン0.３３６ｇ（１ミリモル）、テトラヒドロフラン５ｍ
及び（＋）−１０，１１−ジヒドロ−α−メチル−５
Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロペンテン−５−メタノー
ル（▲〔α〕20 365▼＝＋３２6.８°（１％、エタノー
ル））0.２３８ｇ（１ミリモル）をアルゴン下にある装
置に入れた。これにテトラヒドロフラン５ｍ中のトリ
エチルアミン0.１４ｍの溶液を室温で３０分以内に滴
下した。この懸濁液は滴下中に溶解した。１８時間後、
１Ｎ ＨＣｌ１０ｍを加え、生成物をエーテル各１０
０ｍで２回抽出した。有機相を水各２０ｍで３回洗
浄し、合液し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃縮
した。５−〔１−（１０，１１−ジヒドロ−５Ｈ−ジベ
ンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテン−５−イル）エチル〕−
４−水素−シス−１．３−ジベンジル−２−オキソ−
４，５−イミダゾリンジカルボキシレート0.５０ｇ（８
７％）が得られた。
Ｂ）テトラヒドロフラン中の0.４Ｍ水素化ホウ素リチウ
ム５ｍ（２ミリモル）をアルゴン下にある装置中に入
れた。この溶液に５−〔１−（１０，１１−ジヒドロ−
５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテン−５−イル）
エチル〕−４−水素−シス−１，３−ジベンジル−２−
オキソ−４，５−イミダゾリジンジオンジカルボキシレ
ート（上記Ａに従つて製造したもの）0.５ｇ（0.８７ミ
リモル）、テトラヒドロフラン１０ｍ及びトリエチル
アミン0.１２ｍ（0.８７ミリモル）の溶液を４０℃で
３０分以内に滴下した。この混合物を４０℃で更に2.５
時間攪拌した。この溶液を１０℃に冷却し、次に３Ｎ
ＨＣｌ５ｍで分解した。混合物を６０℃で３０分間攪
拌し、生成物をエーテル各１００ｍで２回抽出した。
有機相を水各２０ｍで３回洗浄し、合液し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして濃縮した。得られた粗製の生
成物0.６０ｇをシリカゲル１５０ｇ上でクロマトグラフ
イーにかけた。キラルアルコールをシクロヘキサン／エ
ーテル（６：４、Ｖ／Ｖ）６００ｍで溶離し、その
後、得られた（＋）−ラクトンをトルエン／アセトン／
氷酢酸（９２：５：３、Ｖ／Ｖ）８００ｍで溶離し
た。（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−ジベンジル−ジヒド
ロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４
（３Ｈ，３ａＨ）−ジオン0.２２９ｇ（８２％）が得ら
れた。▲〔α〕20 D▼＝＋５2.７°（１％、ＣＨＣ
ｌ3）、これは光学的純度８５％e.e.に対応した。
ム５ｍ（２ミリモル）をアルゴン下にある装置中に入
れた。この溶液に５−〔１−（１０，１１−ジヒドロ−
５Ｈ−ジベンゾ〔ａ，ｄ〕シクロヘプテン−５−イル）
エチル〕−４−水素−シス−１，３−ジベンジル−２−
オキソ−４，５−イミダゾリジンジオンジカルボキシレ
ート（上記Ａに従つて製造したもの）0.５ｇ（0.８７ミ
リモル）、テトラヒドロフラン１０ｍ及びトリエチル
アミン0.１２ｍ（0.８７ミリモル）の溶液を４０℃で
３０分以内に滴下した。この混合物を４０℃で更に2.５
時間攪拌した。この溶液を１０℃に冷却し、次に３Ｎ
ＨＣｌ５ｍで分解した。混合物を６０℃で３０分間攪
拌し、生成物をエーテル各１００ｍで２回抽出した。
有機相を水各２０ｍで３回洗浄し、合液し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして濃縮した。得られた粗製の生
成物0.６０ｇをシリカゲル１５０ｇ上でクロマトグラフ
イーにかけた。キラルアルコールをシクロヘキサン／エ
ーテル（６：４、Ｖ／Ｖ）６００ｍで溶離し、その
後、得られた（＋）−ラクトンをトルエン／アセトン／
氷酢酸（９２：５：３、Ｖ／Ｖ）８００ｍで溶離し
た。（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−ジベンジル−ジヒド
ロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４
（３Ｈ，３ａＨ）−ジオン0.２２９ｇ（８２％）が得ら
れた。▲〔α〕20 D▼＝＋５2.７°（１％、ＣＨＣ
ｌ3）、これは光学的純度８５％e.e.に対応した。
生成物0.２ｇをイソプロパノール２ｍから再結晶化
後、生成物は▲〔α〕20 D▼＝＋５９°（１％、ＣＨＣ
ｌ3）の回転を有し、これは光学的純度９５％e.e.に対
応した。
後、生成物は▲〔α〕20 D▼＝＋５９°（１％、ＣＨＣ
ｌ3）の回転を有し、これは光学的純度９５％e.e.に対
応した。
実施例３ シス−１，３−ジベンジル−ヘキサヒドロ−１Ｈ−フロ
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４，６−トリオン0.
５３ｇ（1.５８ミリモル）、（＋）−９，１０−ジヒド
ロ−α−メチル−９−アントラセン−メタノール（▲
〔α〕20 365▼＝＋６3.４°（１％、エタノール中））
0.３５４ｇ（1.５８ミリモル）及びテトラヒドロフラン
５ｍをアルゴン下にある装置に入れ、これにテトラヒ
ドロフラン５ｍ中のトリエチルアミン0.２２ｍ（1.
５８ミリモル）の溶液を室温で３０分以内に滴下した。
１８時間後、透明な溶液をテトラヒドロフラン中の１Ｍ
水素化ホウ素リチウム溶液３ｍに４０℃で３０分以内
に滴下した。４０℃で２時間攪拌した後、混合物を１０
℃に冷却し、３Ｎ ＨＣｌ５ｍで分解した。室温で２
４時間攪拌した後、生成物をエーテル各１００ｍで２
回抽出し、各水２０ｍで３回洗浄した。有機相を合液
し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。残渣をシ
リカゲル１５０ｇ上で、シクロヘキサン／エーテル
（６：４、Ｖ／Ｖ）６００ｍ、次にトルエン／アセト
ン／氷酢酸（９２：６：３、Ｖ／Ｖ）８００ｍを用い
てクロマトグラフイーにかけた。▲〔α〕20 365▼＝＋
６0.８°（１％、エタノール中）を有する用いたアルコ
ール0.３１ｇ及び（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−ジベン
ジル−ジヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾー
ル−２，４（３Ｈ，３ａＨ）−ジオン0.４０４ｇが得ら
れた。▲〔α〕20 D▼＝＋５1.６°（１％、ＣＨＣ
ｌ3）、これは光学的純度８3.２％e.e.に対応した。
〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４，６−トリオン0.
５３ｇ（1.５８ミリモル）、（＋）−９，１０−ジヒド
ロ−α−メチル−９−アントラセン−メタノール（▲
〔α〕20 365▼＝＋６3.４°（１％、エタノール中））
0.３５４ｇ（1.５８ミリモル）及びテトラヒドロフラン
５ｍをアルゴン下にある装置に入れ、これにテトラヒ
ドロフラン５ｍ中のトリエチルアミン0.２２ｍ（1.
５８ミリモル）の溶液を室温で３０分以内に滴下した。
１８時間後、透明な溶液をテトラヒドロフラン中の１Ｍ
水素化ホウ素リチウム溶液３ｍに４０℃で３０分以内
に滴下した。４０℃で２時間攪拌した後、混合物を１０
℃に冷却し、３Ｎ ＨＣｌ５ｍで分解した。室温で２
４時間攪拌した後、生成物をエーテル各１００ｍで２
回抽出し、各水２０ｍで３回洗浄した。有機相を合液
し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥し、そして濃縮した。残渣をシ
リカゲル１５０ｇ上で、シクロヘキサン／エーテル
（６：４、Ｖ／Ｖ）６００ｍ、次にトルエン／アセト
ン／氷酢酸（９２：６：３、Ｖ／Ｖ）８００ｍを用い
てクロマトグラフイーにかけた。▲〔α〕20 365▼＝＋
６0.８°（１％、エタノール中）を有する用いたアルコ
ール0.３１ｇ及び（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−ジベン
ジル−ジヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾー
ル−２，４（３Ｈ，３ａＨ）−ジオン0.４０４ｇが得ら
れた。▲〔α〕20 D▼＝＋５1.６°（１％、ＣＨＣ
ｌ3）、これは光学的純度８3.２％e.e.に対応した。
生成物0.３ｇをイソプロパノール３ｍから再結晶化
後、生成物は▲〔α〕20 D▼＝＋５8.４°（１％、ＣＨ
Ｃｌ3）の回転を有し、これは光学的純度９4.２％e.e.
に対応した。
後、生成物は▲〔α〕20 D▼＝＋５8.４°（１％、ＣＨ
Ｃｌ3）の回転を有し、これは光学的純度９4.２％e.e.
に対応した。
実施例４ テトラヒドロフラン3.３ｍ中のシス−１，３−ジベン
ジル−ヘキサヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダ
ゾール−２，４，６−トリオン0.３３６ｇ（１ミリモ
ル）をアルゴン下にある装置に入れた。次にテトラヒド
ロフラン3.３ｍ中のトリエチルアミン0.１５ｍ（1.
１ミリモル）及び〔Ｓ〕−１，１−ジ−（３−チエニ
ル）−２−プロパノール（▲〔α〕20 365▼＝−７7.４
°（１％、エタノール））0.２２４ｇ（１ミリモル）の
溶液を室温で１５分以内に滴下した。次に溶液を室温で
1.５時間攪拌した。この溶液に４０〜５０℃でアルゴン
通気しながら、テトラヒドロフラン中の1.０４Ｍ水素化
ホウ素リチウム溶液1.９ｍ（２ミリモル）を加え、こ
の混合物を４０〜４５℃で２時間攪拌した。冷却後、こ
れに１０〜１５℃で３Ｎ ＨＣｌ３ｍを滴下した。得
られた混合物を７０℃で３０分間攪拌し、次に２個の分
液ロート中にてエーテル各１００ｍで抽出した。有機
相を水各５０ｍで４回洗浄し、合液し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、そして濃縮した。残渣をシリカゲル１５
０ｇ上で、ｎ−ヘキサン／エーテル（４：６、ｖ／ｖ）
６００ｍ及びトルエン／アセトン／氷酢酸（９２：
５：３、Ｖ／Ｖ）８００ｍを用いて、クロマトグラフ
イーにかけた。光学的純度７9.５％e.e.に対応する▲
〔α〕20 D▼＝＋４9.３°（１％、ＣＨＣｌ3）を有する
（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−ジベンジル−ジヒドロ−
１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４（３
Ｈ，３ａＨ）−ジオンが得られた。
ジル−ヘキサヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダ
ゾール−２，４，６−トリオン0.３３６ｇ（１ミリモ
ル）をアルゴン下にある装置に入れた。次にテトラヒド
ロフラン3.３ｍ中のトリエチルアミン0.１５ｍ（1.
１ミリモル）及び〔Ｓ〕−１，１−ジ−（３−チエニ
ル）−２−プロパノール（▲〔α〕20 365▼＝−７7.４
°（１％、エタノール））0.２２４ｇ（１ミリモル）の
溶液を室温で１５分以内に滴下した。次に溶液を室温で
1.５時間攪拌した。この溶液に４０〜５０℃でアルゴン
通気しながら、テトラヒドロフラン中の1.０４Ｍ水素化
ホウ素リチウム溶液1.９ｍ（２ミリモル）を加え、こ
の混合物を４０〜４５℃で２時間攪拌した。冷却後、こ
れに１０〜１５℃で３Ｎ ＨＣｌ３ｍを滴下した。得
られた混合物を７０℃で３０分間攪拌し、次に２個の分
液ロート中にてエーテル各１００ｍで抽出した。有機
相を水各５０ｍで４回洗浄し、合液し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、そして濃縮した。残渣をシリカゲル１５
０ｇ上で、ｎ−ヘキサン／エーテル（４：６、ｖ／ｖ）
６００ｍ及びトルエン／アセトン／氷酢酸（９２：
５：３、Ｖ／Ｖ）８００ｍを用いて、クロマトグラフ
イーにかけた。光学的純度７9.５％e.e.に対応する▲
〔α〕20 D▼＝＋４9.３°（１％、ＣＨＣｌ3）を有する
（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−ジベンジル−ジヒドロ−
１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，４（３
Ｈ，３ａＨ）−ジオンが得られた。
実施例５ トルエン５ｍ中のシス−１，３−ジベンジル−ヘキサ
ヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，
４，６−トリオン0.６７３ｇ（２ミリモル）及び（−）
−３，３−ジフエニル−２−ブタノール（▲〔α〕20
365▼＝−３３8.９°（１％、エタノール））0.４３５
ｇ（２ミリモル）をアルゴン下にある装置中にて還流下
で６時間加熱した。冷却後、これにトリエチルアミン0.
２８ｍ（２ミリモル）及びテトラヒドロフラン５ｍ
を加えた。得られた溶液をテトラヒドロフラン中の１Ｍ
水素化ホウ素リチウム溶液4.８ｍ（4.８ミリモル）に
４０℃で３０分以内に滴下し、この混合物を４０℃で１
４時間反応させた。過剰量の水素化物を１０℃で３Ｎ
ＨＣｌ５ｍによつて分解し、この混合物を６０℃で３
０分間攪拌した。得られた生成物を単離し、実施例２に
述べた如くして精製し、（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−
ジベンジル−ジヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミ
ダゾール−２，４（３Ｈ，３ａＨ）−ジオン0.３３３ｇ
が得られた。▲〔α〕20 D▼＝＋３8.７°（１％、ＣＨ
Ｃｌ3）、これは光学的純度６2.４％e.e.に対応した。
ヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミダゾール−２，
４，６−トリオン0.６７３ｇ（２ミリモル）及び（−）
−３，３−ジフエニル−２−ブタノール（▲〔α〕20
365▼＝−３３8.９°（１％、エタノール））0.４３５
ｇ（２ミリモル）をアルゴン下にある装置中にて還流下
で６時間加熱した。冷却後、これにトリエチルアミン0.
２８ｍ（２ミリモル）及びテトラヒドロフラン５ｍ
を加えた。得られた溶液をテトラヒドロフラン中の１Ｍ
水素化ホウ素リチウム溶液4.８ｍ（4.８ミリモル）に
４０℃で３０分以内に滴下し、この混合物を４０℃で１
４時間反応させた。過剰量の水素化物を１０℃で３Ｎ
ＨＣｌ５ｍによつて分解し、この混合物を６０℃で３
０分間攪拌した。得られた生成物を単離し、実施例２に
述べた如くして精製し、（３ａＳ，６ａＲ）−１，３−
ジベンジル−ジヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イミ
ダゾール−２，４（３Ｈ，３ａＨ）−ジオン0.３３３ｇ
が得られた。▲〔α〕20 D▼＝＋３8.７°（１％、ＣＨ
Ｃｌ3）、これは光学的純度６2.４％e.e.に対応した。
実施例６ 実施例１〜５と同様の方法において、シス−１，３−ジ
ベンジル−ヘキサヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イ
ミダゾール−２，４，６−トリオンを種々なアルコール
と反応させ、そしてこの半エステルを還元した。その結
果を次の第１表に示す。
ベンジル−ヘキサヒドロ−１Ｈ−フロ〔３，４−ｄ〕イ
ミダゾール−２，４，６−トリオンを種々なアルコール
と反応させ、そしてこの半エステルを還元した。その結
果を次の第１表に示す。
Claims (9)
- 【請求項１】式 式中、Ｒはベンジル残基を表わす、 の環式無水物を一般式 式中、Ｒ1は式 の残基を表わし、ここで、Ｒ2は水素、ハロゲン、低級
アルキルまたは低級アルコキシを表わし、Ｒ3は水素ま
たはヒドロキシを表わすか、或いは残基（ｂ）における
Ｒ2が水素である場合、Ｒ3はまた低級アルキル、低級ア
ルコキシまたはフエニルをも表わし、Ｒ4はシクロアル
キル、随時塩素もしくはメチルで置換されていてもよい
フエニル、チエニルまたは２−フリルを表わし、Ｒ5は
水素または低級アルキルを表わし、Ｒ6は低級アルキル
またはフエニルを表わし、Ａは硫黄またはメチレン基を
表わし、Ｂは硫黄、−ＳＯ2−またはメチレン基を表わ
し、そしてｎは、Ａが硫黄を表わす場合には数１である
か、或いはＡがメチレン基を表わす場合には数１または
２である、 の第二級キラルアルコールと反応させ、そして生ずる一
般式 式中、Ｒ7は残基 を表わし、そしてＲ及びＲ1は上記の意味を有する、 の半エステルを水素化ホウ素錯体で還元することを特徴
とする式 式中、Ｒは上記の意味を有する、 の光学的活性ラクトンの製造方法。 - 【請求項２】式IIの環式無水物と式IIIのアルコールと
の反応を触媒としての第三級アミン、例えばトリエチル
アミンの存在下において行う特許請求の範囲第１項記載
の方法。 - 【請求項３】触媒を化学量論的量で用いる特許請求の範
囲第２項記載の方法。 - 【請求項４】式IVの半エステルの還元を水素化ホウ素リ
チウムを用いて行う特許請求の範囲第１〜３項のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項５】式IIの環式無水物と式IIIのアルコールと
の反応のみならず、また式IVの半エステルの還元を不活
性ガス下で行う特許請求の範囲第１〜４項のいずれかに
記載の方法。 - 【請求項６】式IIの環式無水物と式IIIのアルコールと
の反応を約−５０℃乃至ほぼ室温で行う特許請求の範囲
第１〜５項のいずれかに記載の方法。 - 【請求項７】Ｒ1が式（ｄ）の残基を表わす式IIIのアル
コールを用いる特許請求の範囲第１〜６項のいずれかに
記載の方法。 - 【請求項８】式IIIのアルコールとして［Ｓ］−１，１
−ジアリールプロパノールまたは［Ｓ］−１，１−ジア
リールプロパン−１，２−ジオールを用いる特許請求の
範囲第７項記載の方法。 - 【請求項９】式IIの環式無水物を、ジアザビシクロオク
タンの存在下において、芳香族炭化水素中で約−２０℃
乃至約０℃の温度にて［Ｓ］−１，１−ジフエニルプロ
パノールまたは［Ｓ］−１，１−ジフエニル−１，２−
プロパンジオールと反応させる特許請求の範囲第１〜８
項のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH245884 | 1984-05-18 | ||
| CH00825/85-0 | 1985-02-22 | ||
| CH2458/84-2 | 1985-02-22 | ||
| CH82585 | 1985-02-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255790A JPS60255790A (ja) | 1985-12-17 |
| JPH0631240B2 true JPH0631240B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=25685807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60101638A Expired - Fee Related JPH0631240B2 (ja) | 1984-05-18 | 1985-05-15 | ラクトンの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4687859A (ja) |
| EP (1) | EP0161580B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0631240B2 (ja) |
| DE (1) | DE3580390D1 (ja) |
| DK (1) | DK158265C (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| CH671227A5 (ja) * | 1986-12-02 | 1989-08-15 | Lonza Ag | |
| US5162540A (en) * | 1986-12-18 | 1992-11-10 | Lonza Ltd. | Process for the production of (+) biotin |
| FI95034C (fi) * | 1989-03-15 | 1995-12-11 | Lonza Ag | Menetelmä 1,3-substituoidun tetrahydro-1H-tieno/3,4-d/-imidatsol-2(3H)-on-4-ylideenipentaanihappoesterin valmistamiseksi |
| CH694730A5 (de) * | 2000-02-09 | 2005-06-30 | Sumitomo Chemical Co | Verfahren zum Herstellen optisch aktiver Hemiester. |
| CN100447144C (zh) * | 2003-04-22 | 2008-12-31 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 内酯的立体选择性合成方法 |
| CN103524514B (zh) * | 2013-10-25 | 2016-03-02 | 东北制药集团股份有限公司 | (3aS,6aR)-1,3-二苯甲基-四氢-1H-呋喃并[3,4-d]咪唑-2,4-二酮的制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3700659A (en) * | 1970-11-17 | 1972-10-24 | Hoffmann La Roche | (+)-cis - 1,3-dibenzyl-hexahydro-1h-furo-(3,4-d)imidazole - 2,4 - dione,processes and intermediates |
| JPS603387B2 (ja) * | 1980-07-10 | 1985-01-28 | 住友化学工業株式会社 | 新規光学活性イミダゾリジン−２−オン誘導体およびその製法 |
| US4496739A (en) * | 1982-01-27 | 1985-01-29 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Intermediates to optically active cis-1,3-dibenzyl-hexahydro-1H-furo[3,4-d]imidazole-2,4-dione |
| EP0220435B1 (en) * | 1982-04-16 | 1990-11-14 | Sumitomo Chemical Company Limited | A method for preparing optically active half esters |
-
1985
- 1985-05-02 EP EP85105310A patent/EP0161580B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-02 DE DE8585105310T patent/DE3580390D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-05-15 JP JP60101638A patent/JPH0631240B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1985-05-15 DK DK217785A patent/DK158265C/da not_active IP Right Cessation
- 1985-05-15 US US06/734,307 patent/US4687859A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK158265B (da) | 1990-04-23 |
| EP0161580A3 (en) | 1987-05-13 |
| US4687859A (en) | 1987-08-18 |
| JPS60255790A (ja) | 1985-12-17 |
| EP0161580A2 (de) | 1985-11-21 |
| DK217785D0 (da) | 1985-05-15 |
| DE3580390D1 (de) | 1990-12-13 |
| EP0161580B1 (de) | 1990-11-07 |
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| DK158265C (da) | 1990-10-08 |
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