JPH06317532A - 検査装置 - Google Patents
検査装置Info
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- JPH06317532A JPH06317532A JP5127883A JP12788393A JPH06317532A JP H06317532 A JPH06317532 A JP H06317532A JP 5127883 A JP5127883 A JP 5127883A JP 12788393 A JP12788393 A JP 12788393A JP H06317532 A JPH06317532 A JP H06317532A
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- JP
- Japan
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- light
- sample
- focal plane
- optical element
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料表面の被膜付き指標をも容易に読み取る
ことが可能な検査装置を提供する。 【構成】 試料に対して光を照射し、その透過光または
反射光を光学素子によって集束し、その後方で前記試料
の観測を行うように構成された検査装置において、前記
光学素子の後像空間焦平面またはその近傍に開口絞りを
設置するとともに、前記光学素子として色消しレンズを
用いたものである。
ことが可能な検査装置を提供する。 【構成】 試料に対して光を照射し、その透過光または
反射光を光学素子によって集束し、その後方で前記試料
の観測を行うように構成された検査装置において、前記
光学素子の後像空間焦平面またはその近傍に開口絞りを
設置するとともに、前記光学素子として色消しレンズを
用いたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、検査装置に関するも
ので、特に、試料表面に形成した指標を検出するのに適
した検査装置に関するものである。
ので、特に、試料表面に形成した指標を検出するのに適
した検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェーハ表面には製品の種別や納
入先を示すＩＤ番号（指標）が付設され、この指標を用
いて半導体製造プロセスの管理が行われている。
入先を示すＩＤ番号（指標）が付設され、この指標を用
いて半導体製造プロセスの管理が行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ＩＤ番号の
読取りは、従来、作業者が肉眼にて行っているのが普通
であった。
読取りは、従来、作業者が肉眼にて行っているのが普通
であった。
【０００４】ＩＤ番号は、半導体ウェーハのオリエンテ
ーションフラット（オリフラ）の近傍に付設される。こ
のオリフラ近傍は、通常、回路や配線のパターンが形成
されない部分であり、絶縁膜や導体膜が被着されないと
ころである。したがって、ＩＤ番号を肉眼で読み取るこ
とは可能である。しかし、パターン形成の際の位置ずれ
その他の理由によって、オリフラ近傍までパターンが形
成されたり、または、パターン形成のためのレジスト膜
などがＩＤ番号上に被着される場合もあり、この場合に
は、パターンやレジスト表面で光の散乱現象が生ずるた
め、ＩＤ番号が肉眼では極めて見にくくなってしまい、
その読取りにかなりの時間を必要とした。
ーションフラット（オリフラ）の近傍に付設される。こ
のオリフラ近傍は、通常、回路や配線のパターンが形成
されない部分であり、絶縁膜や導体膜が被着されないと
ころである。したがって、ＩＤ番号を肉眼で読み取るこ
とは可能である。しかし、パターン形成の際の位置ずれ
その他の理由によって、オリフラ近傍までパターンが形
成されたり、または、パターン形成のためのレジスト膜
などがＩＤ番号上に被着される場合もあり、この場合に
は、パターンやレジスト表面で光の散乱現象が生ずるた
め、ＩＤ番号が肉眼では極めて見にくくなってしまい、
その読取りにかなりの時間を必要とした。
【０００５】一方、この読取りを光学系によって行うよ
うにした検査装置もあるが、被膜の付いていない場合で
あるならともかく、被膜付きの指標を読み取ることは非
常に困難であった。
うにした検査装置もあるが、被膜の付いていない場合で
あるならともかく、被膜付きの指標を読み取ることは非
常に困難であった。
【０００６】本発明は、かかる点に鑑みなされたもの
で、試料表面の被膜付き指標をも容易に読み取ることが
可能な検査装置を提供することを目的としている。
で、試料表面の被膜付き指標をも容易に読み取ることが
可能な検査装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の検査装置
は、試料に対して光を照射し、その透過光または反射光
を光学素子によって集束し、その後方で前記試料の観測
を行うように構成された検査装置において、前記光学素
子の後像空間焦平面またはその近傍に開口絞りを設置す
るとともに、前記光学素子として色消しレンズを用いた
ものである。
は、試料に対して光を照射し、その透過光または反射光
を光学素子によって集束し、その後方で前記試料の観測
を行うように構成された検査装置において、前記光学素
子の後像空間焦平面またはその近傍に開口絞りを設置す
るとともに、前記光学素子として色消しレンズを用いた
ものである。
【０００８】請求項２記載の検査装置は、請求項１記載
の検査装置における前記光に加えて、前記光よりは大き
い入射角で前記試料に対して光を照射する光照射手段を
設けたものである。
の検査装置における前記光に加えて、前記光よりは大き
い入射角で前記試料に対して光を照射する光照射手段を
設けたものである。
【０００９】請求項３記載の検査装置は、試料に対して
光を照射し、その透過光または反射光を光学素子によっ
て集束し、その直後で前記試料の観測を行うように構成
された検査装置において、前記試料に対して複数の光を
入射方向を違えて入射するように構成するとともに、前
記光学素子の後像空間焦平面またはその近傍に開口絞り
を設置し、さらに、前記光学素子として色消しレンズを
用いたものである。
光を照射し、その透過光または反射光を光学素子によっ
て集束し、その直後で前記試料の観測を行うように構成
された検査装置において、前記試料に対して複数の光を
入射方向を違えて入射するように構成するとともに、前
記光学素子の後像空間焦平面またはその近傍に開口絞り
を設置し、さらに、前記光学素子として色消しレンズを
用いたものである。
【００１０】
【作用】上記した手段によれば、試料にピントを合わせ
て観測できる上、開口絞りによって屈折光または散乱光
のほとんどが除去できるため、反射像または透過像の鮮
明度が著しく向上することになる。また、開口絞りの遮
蔽部後方では、試料内部あるいは表面全体の状態を表す
明暗パターンが形成されるので、試料の内部あるいは表
面状態を一時に観測可能となり、被膜付きの指標なども
容易に読み取ることが可能となる。また、光学素子とし
て色消しレンズを使用しているため、色収差がなくなる
という作用によって、反射像の鮮明度がさらに向上する
ことになる。
て観測できる上、開口絞りによって屈折光または散乱光
のほとんどが除去できるため、反射像または透過像の鮮
明度が著しく向上することになる。また、開口絞りの遮
蔽部後方では、試料内部あるいは表面全体の状態を表す
明暗パターンが形成されるので、試料の内部あるいは表
面状態を一時に観測可能となり、被膜付きの指標なども
容易に読み取ることが可能となる。また、光学素子とし
て色消しレンズを使用しているため、色収差がなくなる
という作用によって、反射像の鮮明度がさらに向上する
ことになる。
【００１１】
【第１実施例】図１には第１実施例の検査装置の光学系
１が示されている。この光学系１について説明すれば、
この光学系１は、ビームスプリッタ（あるいはハーフミ
ラー）３およびコリメートレンズ４を介して、平板状試
料２の表面（以下試料表面と称す）２ａにそのほぼ法線
方向から平行光を当て、その試料表面２ａからの反射光
を後像空間焦平面で集束し、後像空間焦平面の後方でそ
の反射像を撮像管５にて観測するようにしたもので、観
測にあたっては、後像空間焦平面に置いた開口絞り６に
よって、試料表面２ａで散乱された光（拡散光）を遮断
するようになっている。
１が示されている。この光学系１について説明すれば、
この光学系１は、ビームスプリッタ（あるいはハーフミ
ラー）３およびコリメートレンズ４を介して、平板状試
料２の表面（以下試料表面と称す）２ａにそのほぼ法線
方向から平行光を当て、その試料表面２ａからの反射光
を後像空間焦平面で集束し、後像空間焦平面の後方でそ
の反射像を撮像管５にて観測するようにしたもので、観
測にあたっては、後像空間焦平面に置いた開口絞り６に
よって、試料表面２ａで散乱された光（拡散光）を遮断
するようになっている。
【００１２】続いて、この光学系１について詳細に説明
する。
する。
【００１３】この光学系１では、光源７として特に限定
はされないがキセノンランプやハロゲンランプなどが用
いられる。この光源７として何を用いるかは、検査対象
物（試料２）の性質によって決定される。例えば、半導
体ウェーハなどのように反射率の比較的高いものを検査
する場合には、ハロゲンランプまたはキセノンランプの
いずれを用いることとしても良いが、ガラス基板のよう
に反射率の比較的低いものを検査する場合には、輝度の
大きいキセノンランプを用いることが好ましい。したが
って、検査対象物の性質によって光源７を適宜に変えら
れるような構成にしておくことが好ましい。
はされないがキセノンランプやハロゲンランプなどが用
いられる。この光源７として何を用いるかは、検査対象
物（試料２）の性質によって決定される。例えば、半導
体ウェーハなどのように反射率の比較的高いものを検査
する場合には、ハロゲンランプまたはキセノンランプの
いずれを用いることとしても良いが、ガラス基板のよう
に反射率の比較的低いものを検査する場合には、輝度の
大きいキセノンランプを用いることが好ましい。したが
って、検査対象物の性質によって光源７を適宜に変えら
れるような構成にしておくことが好ましい。
【００１４】光源７には楕円リフレクタ８が付設され、
光源７は楕円リフレクタ８の一方の焦点に設置される。
楕円リフレクタ８の他方の焦点にはピンホール９が置か
れる。その結果、楕円の性質から楕円リフレクタ８で反
射された光はピンホール９の所で集束される。その結
果、この集束点に点光源を置いたのと同じ状態が現出さ
れることになる。なお、楕円リフレクタ８の代わりにパ
ラボラリフレクタを用いても良い。この場合には、パラ
ボラリフレクタを出た光はその光軸に平行に進むので、
コリメートレンズを別途設け、このコリメートレンズに
よりピンホールの所に集束するようにする。
光源７は楕円リフレクタ８の一方の焦点に設置される。
楕円リフレクタ８の他方の焦点にはピンホール９が置か
れる。その結果、楕円の性質から楕円リフレクタ８で反
射された光はピンホール９の所で集束される。その結
果、この集束点に点光源を置いたのと同じ状態が現出さ
れることになる。なお、楕円リフレクタ８の代わりにパ
ラボラリフレクタを用いても良い。この場合には、パラ
ボラリフレクタを出た光はその光軸に平行に進むので、
コリメートレンズを別途設け、このコリメートレンズに
よりピンホールの所に集束するようにする。
【００１５】また、光源７とピンホール９との間には熱
線吸収フィルタ１０が設けられるとともに、ピンホール
９とビームスプリッタ３との間には波長選択フィルタ１
１、ディフューザ１２および偏光板（偏光子）１３が設
けられている。熱線吸収フィルタ１０は赤外線をカット
して光学系１を熱線から護るために使用される。波長選
択フィルタ１１は試料表面２ａに照射される光の波長を
規制するためのものである。この波長選択フィルタ１１
は着脱可能となっており、試料表面２ａ上の被膜の性質
や試料２ａの表面状態などに応じて使用される。例え
ば、試料２が半導体ウェーハであって、その表面に被膜
が形成され、特定波長域の光が被膜に悪影響（剥離な
ど）を与える場合には、波長選択フィルタ１１によって
当該特定波長域の光を遮断するようにする。また、この
波長選択フィルタ１１は光学系１の感度調節機能を有す
るので、試料表面２ａの凹凸のピークツーバレーが小さ
い場合には波長の短い領域の光を試料表面２ａに照射す
るようにする。ディフューザ１２は着脱可能となってお
り、試料表面２ａが例えば鏡面でその上に被膜が形成さ
れていない場合など、正反射光成分が多い場合に使用さ
れる。このディフューザ１２としては、例えば、すりガ
ラスやオパールガラスが使用される。偏光板１３は一つ
の振動面の光波だけを通すもので、この偏光板１３の回
転によって偏光板１３の通す振動方向を変えることがで
きる。
線吸収フィルタ１０が設けられるとともに、ピンホール
９とビームスプリッタ３との間には波長選択フィルタ１
１、ディフューザ１２および偏光板（偏光子）１３が設
けられている。熱線吸収フィルタ１０は赤外線をカット
して光学系１を熱線から護るために使用される。波長選
択フィルタ１１は試料表面２ａに照射される光の波長を
規制するためのものである。この波長選択フィルタ１１
は着脱可能となっており、試料表面２ａ上の被膜の性質
や試料２ａの表面状態などに応じて使用される。例え
ば、試料２が半導体ウェーハであって、その表面に被膜
が形成され、特定波長域の光が被膜に悪影響（剥離な
ど）を与える場合には、波長選択フィルタ１１によって
当該特定波長域の光を遮断するようにする。また、この
波長選択フィルタ１１は光学系１の感度調節機能を有す
るので、試料表面２ａの凹凸のピークツーバレーが小さ
い場合には波長の短い領域の光を試料表面２ａに照射す
るようにする。ディフューザ１２は着脱可能となってお
り、試料表面２ａが例えば鏡面でその上に被膜が形成さ
れていない場合など、正反射光成分が多い場合に使用さ
れる。このディフューザ１２としては、例えば、すりガ
ラスやオパールガラスが使用される。偏光板１３は一つ
の振動面の光波だけを通すもので、この偏光板１３の回
転によって偏光板１３の通す振動方向を変えることがで
きる。
【００１６】ビームスプリッタ３と試料表面２ａとの間
には、ピンホール９から出た光を平行光束に変えるとと
もに、試料表面２ａでの反射光を集束するためのコリメ
ートレンズ４が設けられている。このコリメートレンズ
４はピンホール９が前像空間焦平面にくるような位置に
設置される。なお、このコリメートレンズ４としては、
色収差をなくすため、色消しレンズ、例えば、特定波長
色消しレンズ、アクロマートレンズ、アポクロマートレ
ンズが使用される。
には、ピンホール９から出た光を平行光束に変えるとと
もに、試料表面２ａでの反射光を集束するためのコリメ
ートレンズ４が設けられている。このコリメートレンズ
４はピンホール９が前像空間焦平面にくるような位置に
設置される。なお、このコリメートレンズ４としては、
色収差をなくすため、色消しレンズ、例えば、特定波長
色消しレンズ、アクロマートレンズ、アポクロマートレ
ンズが使用される。
【００１７】コリメートレンズ４と撮像管５との間に
は、ビームスプリッタ３、偏光板（検光子）１４および
カメラレンズ（結像系）１５が設けられている。ビーム
スプリッタ３は光源７からの光路を下方へ曲げるために
用いられる。偏光板１４は、前記偏光板１３と同様に、
一つの振動面の光波だけを通すもので、その使用によっ
てきらきらした反射光を減らす作用を営む。この偏光板
１４も着脱可能となっている。また、カメラレンズ１５
は上下および水平面内で移動可能に構成されている。こ
のカメラレンズ１５には開口絞り６が組み込まれてい
る。
は、ビームスプリッタ３、偏光板（検光子）１４および
カメラレンズ（結像系）１５が設けられている。ビーム
スプリッタ３は光源７からの光路を下方へ曲げるために
用いられる。偏光板１４は、前記偏光板１３と同様に、
一つの振動面の光波だけを通すもので、その使用によっ
てきらきらした反射光を減らす作用を営む。この偏光板
１４も着脱可能となっている。また、カメラレンズ１５
は上下および水平面内で移動可能に構成されている。こ
のカメラレンズ１５には開口絞り６が組み込まれてい
る。
【００１８】開口絞り６としてはここではアイリス絞り
が用いられ、可動調節部を動かすことにより同心状の開
口部の直径を連続的に変化できるようになっている。こ
の開口部の直径を変化させることにより、検査の種別
（表面のディンプルの検査、うねりの検査、指標の検査
など）に適した反射像が得られる。
が用いられ、可動調節部を動かすことにより同心状の開
口部の直径を連続的に変化できるようになっている。こ
の開口部の直径を変化させることにより、検査の種別
（表面のディンプルの検査、うねりの検査、指標の検査
など）に適した反射像が得られる。
【００１９】このように構成された検査装置によれば、
光源７から出た光は楕円リフレクタ８によってピンホー
ル９の所で集束されて点光源を構成し、この点光源から
の光は波長選択フィルタ１１、ディフューザ１２、偏光
板１３、ビームスプリッタ３およびコリメートレンズ４
を経て試料表面２ａに照射される。
光源７から出た光は楕円リフレクタ８によってピンホー
ル９の所で集束されて点光源を構成し、この点光源から
の光は波長選択フィルタ１１、ディフューザ１２、偏光
板１３、ビームスプリッタ３およびコリメートレンズ４
を経て試料表面２ａに照射される。
【００２０】そして、この試料表面２ａからの反射光は
コリメートレンズ４、ビームスプリッタ３、偏光板１４
およびカメラレンズ１５内の開口絞り６を経て撮像管５
に導かれる。
コリメートレンズ４、ビームスプリッタ３、偏光板１４
およびカメラレンズ１５内の開口絞り６を経て撮像管５
に導かれる。
【００２１】このように構成された光学系１を持つ実施
例の検査装置は次のような効果を有する。
例の検査装置は次のような効果を有する。
【００２２】すなわち、前記検査装置によれば、試料表
面２ａにピントを合わせて観測できる上、開口絞り６に
よって散乱光のほとんどが除去できるため、反射像の鮮
明度が著しく向上され、被膜付きの指標をも容易に読み
取ることができる。また、開口絞り６の遮蔽部後方に
は、試料表面全体の状態が明暗パターンとして形成され
るので、試料２の表面状態を一時に観測可能となる。
面２ａにピントを合わせて観測できる上、開口絞り６に
よって散乱光のほとんどが除去できるため、反射像の鮮
明度が著しく向上され、被膜付きの指標をも容易に読み
取ることができる。また、開口絞り６の遮蔽部後方に
は、試料表面全体の状態が明暗パターンとして形成され
るので、試料２の表面状態を一時に観測可能となる。
【００２３】また、コリメートレンズ４として色消しレ
ンズを用いているので、色収差による像のぼけがなくな
り、鮮明な像を得ることができる。
ンズを用いているので、色収差による像のぼけがなくな
り、鮮明な像を得ることができる。
【００２４】
【第２実施例】図２には第２実施例の光学系２０が示さ
れている。この光学系２０が第１実施例のそれと異なる
点は、光源７の他に光源２１を有していることである。
この光源２１としてはハロゲンランプあるいはキセノン
ランプが用いられ、この光源２１からはリフレクタ２
２、熱線吸収フィルタ２３、ピンホール２４、波長選択
フィルタ２５、ディフューザ２６、偏光板２７を介して
発散光が入射角４５゜で試料表面２ａに照射される。こ
こで波長選択フィルタ２５、ディフューザ２６、偏光板
２７は着脱可能となっている。また、光源２１側の光学
系は、入射角あるいは入射方向を変えられるように移動
可能となっている。なお、図２において符号２８は熱線
吸収フィルタを示している。その他の構成は第１実施例
の光学系１と同様であるので、同一部材については同一
符号を付し、その説明は省略する。
れている。この光学系２０が第１実施例のそれと異なる
点は、光源７の他に光源２１を有していることである。
この光源２１としてはハロゲンランプあるいはキセノン
ランプが用いられ、この光源２１からはリフレクタ２
２、熱線吸収フィルタ２３、ピンホール２４、波長選択
フィルタ２５、ディフューザ２６、偏光板２７を介して
発散光が入射角４５゜で試料表面２ａに照射される。こ
こで波長選択フィルタ２５、ディフューザ２６、偏光板
２７は着脱可能となっている。また、光源２１側の光学
系は、入射角あるいは入射方向を変えられるように移動
可能となっている。なお、図２において符号２８は熱線
吸収フィルタを示している。その他の構成は第１実施例
の光学系１と同様であるので、同一部材については同一
符号を付し、その説明は省略する。
【００２５】この第２実施例の光学系２０によれば、法
線方向からだけではなく、斜め方向からも光を照射して
いるため、反射像のコントラストをより高めることがで
きる。
線方向からだけではなく、斜め方向からも光を照射して
いるため、反射像のコントラストをより高めることがで
きる。
【００２６】
【第３実施例】図３には第３実施例の光学系３０が示さ
れている。この光学系３０が第１実施例のそれと異なる
点は、平行光の光照射手段が異なっていることである。
この光照射手段は、１つの光源（あるいは２つの光源）
３１からの光を図４で示すように２本のライトガイドフ
ァイバ３２，３２を経て試料表面２ａに照射するように
構成されている。例えば、光源３１が１つの場合には、
光源３１からの光をリフレクタ３３、熱線吸収フィルタ
３４を経て、２本のライトガイドファイバ３２，３２に
導き、この２本のライトガイドファイバ３２，３２から
出た光を、集光レンズ３５、ピンホール９、波長選択フ
ィルタ１１、ディフューザ１２、偏光板１３、ビームス
プリッタ３およびコリメートレンズ４を介して、異なる
２つの方向から試料表面２ａに照射するようにしてい
る。ここで、２本のライトガイドファイバ３２，３２の
先端は圧電素子３６の作用により支点３２ａ，３２ａを
中心に左右に５゜程度ずつ首揺り動作可能となってい
る。これによってより像が鮮明に見える位置にライトガ
イドファイバー３２，３２を移動させることができる。
その他の構成は第１実施例の光学系１と同様であるの
で、同一部材については同一符号を付し、その説明は省
略する。
れている。この光学系３０が第１実施例のそれと異なる
点は、平行光の光照射手段が異なっていることである。
この光照射手段は、１つの光源（あるいは２つの光源）
３１からの光を図４で示すように２本のライトガイドフ
ァイバ３２，３２を経て試料表面２ａに照射するように
構成されている。例えば、光源３１が１つの場合には、
光源３１からの光をリフレクタ３３、熱線吸収フィルタ
３４を経て、２本のライトガイドファイバ３２，３２に
導き、この２本のライトガイドファイバ３２，３２から
出た光を、集光レンズ３５、ピンホール９、波長選択フ
ィルタ１１、ディフューザ１２、偏光板１３、ビームス
プリッタ３およびコリメートレンズ４を介して、異なる
２つの方向から試料表面２ａに照射するようにしてい
る。ここで、２本のライトガイドファイバ３２，３２の
先端は圧電素子３６の作用により支点３２ａ，３２ａを
中心に左右に５゜程度ずつ首揺り動作可能となってい
る。これによってより像が鮮明に見える位置にライトガ
イドファイバー３２，３２を移動させることができる。
その他の構成は第１実施例の光学系１と同様であるの
で、同一部材については同一符号を付し、その説明は省
略する。
【００２７】この第３実施例によっても第２実施例の効
果と同様の効果を得ることが可能であり、しかも、ライ
トガイドファイバ３２，３２の揺動が圧電素子３６によ
って行われているため、光の照射方向の変更が極めて容
易となる。
果と同様の効果を得ることが可能であり、しかも、ライ
トガイドファイバ３２，３２の揺動が圧電素子３６によ
って行われているため、光の照射方向の変更が極めて容
易となる。
【００２８】
【第４実施例】図５には第４実施例の光学系４０が示さ
れている。この光学系４０では、光源４１からの光を、
リフレクタ４２、熱線吸収フィルタ４３、コンデンサレ
ンズ４４、ライトガイドファイバ４５、集光レンズ４
６、ピンホール４７、ビームスプリッタ３およびコリメ
ートレンズ４を介して試料表面２ａに照射するととも
に、光源５１からの光を、リフレクタ５２、熱線吸収フ
ィルタ５３、リキッドライトガイドファイバ５４、ビー
ムスプリッタ３およびコリメートレンズ４を介して試料
表面２ａに照射している。また、試料表面２ａの観察は
カメラレンズ（結像系）１５を介して撮像管５で観察す
るようにしている。ここで、前記リキッドライトガイド
ファイバ５４はカメラレンズ１５の横側に取り付けら
れ、リキッドライトガイドファイバ５４の先端は上下に
５゜程度ずつ首振り動作が可能となっている。なお、カ
メラレンズ１５内には図示はしないが、開口絞りが組み
込まれている。
れている。この光学系４０では、光源４１からの光を、
リフレクタ４２、熱線吸収フィルタ４３、コンデンサレ
ンズ４４、ライトガイドファイバ４５、集光レンズ４
６、ピンホール４７、ビームスプリッタ３およびコリメ
ートレンズ４を介して試料表面２ａに照射するととも
に、光源５１からの光を、リフレクタ５２、熱線吸収フ
ィルタ５３、リキッドライトガイドファイバ５４、ビー
ムスプリッタ３およびコリメートレンズ４を介して試料
表面２ａに照射している。また、試料表面２ａの観察は
カメラレンズ（結像系）１５を介して撮像管５で観察す
るようにしている。ここで、前記リキッドライトガイド
ファイバ５４はカメラレンズ１５の横側に取り付けら
れ、リキッドライトガイドファイバ５４の先端は上下に
５゜程度ずつ首振り動作が可能となっている。なお、カ
メラレンズ１５内には図示はしないが、開口絞りが組み
込まれている。
【００２９】この第４実施例によっても第２実施例の効
果と同様の効果を得ることが可能である。
果と同様の効果を得ることが可能である。
【００３０】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
く、その要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能であ
ることはいうまでもない。
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
く、その要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能であ
ることはいうまでもない。
【００３１】例えば、前記実施例の検査装置では、撮像
管５で試料表面２ａの反射像を観測するようにしたが、
ＣＣＤやカメラあるいは肉眼などで観測するような光学
系としても良い。
管５で試料表面２ａの反射像を観測するようにしたが、
ＣＣＤやカメラあるいは肉眼などで観測するような光学
系としても良い。
【００３２】さらに、前記実施例の検査装置では、平板
状の試料２を検査する場合を説明したが、円柱などの指
標の検査の場合にはシリンドリカルレンズを用いて、ま
た、球体などの指標の検査の場合には平凸レンズを用い
て、試料表面に法線方向から光を照射するようにすれば
良い。また、場合によっては、平板状の試料２のときで
もシリンドリカルレンズを用い、ある方向の凹凸状態を
強調させて観測するようにすることも可能である。
状の試料２を検査する場合を説明したが、円柱などの指
標の検査の場合にはシリンドリカルレンズを用いて、ま
た、球体などの指標の検査の場合には平凸レンズを用い
て、試料表面に法線方向から光を照射するようにすれば
良い。また、場合によっては、平板状の試料２のときで
もシリンドリカルレンズを用い、ある方向の凹凸状態を
強調させて観測するようにすることも可能である。
【００３３】また、前記実施例の検査装置では、開口絞
り６としてアイリス絞りを用いたが、固定的な円形開口
部が設けられた開口絞りを設け、この開口絞りを光軸方
向に移動させるようにして使用するようにしても良い。
り６としてアイリス絞りを用いたが、固定的な円形開口
部が設けられた開口絞りを設け、この開口絞りを光軸方
向に移動させるようにして使用するようにしても良い。
【００３４】さらに、前記実施例の検査装置では、後像
空間焦平面に開口絞り６を設けたが、その設置位置は後
像空間焦平面近傍であれば良い。
空間焦平面に開口絞り６を設けたが、その設置位置は後
像空間焦平面近傍であれば良い。
【００３５】またさらに、前記実施例の検査装置では、
試料表面２ａの反射像を観測するような構成としたが、
試料が透過性のものである場合にはその内部状態を観測
するため、試料の透過像を観測するような構成としても
良いことは勿論である。
試料表面２ａの反射像を観測するような構成としたが、
試料が透過性のものである場合にはその内部状態を観測
するため、試料の透過像を観測するような構成としても
良いことは勿論である。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、試料表面の被膜付き指
標をも容易に読み取ることが可能な検査装置試料の実現
が図れる。
標をも容易に読み取ることが可能な検査装置試料の実現
が図れる。
【図１】第１実施例の検査装置の光学系の概略構成図で
ある。
ある。
【図２】第２実施例の検査装置の光学系の概略構成図で
ある。
ある。
【図３】第３実施例の検査装置の光学系の概略構成図で
ある。
ある。
【図４】第３実施例の検査装置のライトガイドファイバ
回りの平面図である。
回りの平面図である。
【図５】第５実施例の検査装置の光学系の概略構成図で
ある。
ある。
１ 光学系 ２ 試料 ２ａ 試料表面 ４ コリメートレンズ ６ 開口絞り
Claims (3)
- 【請求項１】 試料に対して光を照射し、その透過光ま
たは反射光を光学素子によって集束し、その後方で前記
試料の観測を行うように構成された検査装置において、
前記光学素子の後像空間焦平面またはその近傍に開口絞
りを設置するとともに、前記光学素子として色消しレン
ズを用いたことを特徴とする検査装置。 - 【請求項２】 前記光に加えて、前記光よりは大きい入
射角で前記試料に対して光を照射する光照射手段を設け
たことを特徴とする請求項１記載の検査装置。 - 【請求項３】 試料に対して光を照射し、その透過光ま
たは反射光を光学素子によって集束し、その後方で前記
試料の観測を行うように構成された検査装置において、
前記試料に対して複数の光を入射方向を違えて入射する
ように構成するとともに、前記光学素子の後像空間焦平
面またはその近傍に開口絞りを設置し、さらに、前記光
学素子として色消しレンズを用いたことを特徴とする検
査装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5127883A JPH06317532A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 検査装置 |
| KR1019940002949A KR100293126B1 (ko) | 1993-04-30 | 1994-02-18 | 검사장치 |
| US08/208,311 US5497234A (en) | 1993-04-30 | 1994-03-10 | Inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5127883A JPH06317532A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06317532A true JPH06317532A (ja) | 1994-11-15 |
Family
ID=14971013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5127883A Pending JPH06317532A (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 検査装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5497234A (ja) |
| JP (1) | JPH06317532A (ja) |
| KR (1) | KR100293126B1 (ja) |
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- 1994-02-18 KR KR1019940002949A patent/KR100293126B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-10 US US08/208,311 patent/US5497234A/en not_active Expired - Lifetime
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| KR100293126B1 (ko) | 2001-10-24 |
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