JPH0632095Y2 - コンドーム - Google Patents

コンドーム

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JPH0632095Y2
JPH0632095Y2 JP1988134386U JP13438688U JPH0632095Y2 JP H0632095 Y2 JPH0632095 Y2 JP H0632095Y2 JP 1988134386 U JP1988134386 U JP 1988134386U JP 13438688 U JP13438688 U JP 13438688U JP H0632095 Y2 JPH0632095 Y2 JP H0632095Y2
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JP
Japan
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condom
rubber
sulfur
present
latex
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JP1988134386U
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JPH0255934U (ja
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至 掘口
恭吾 対馬
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Okamoto Industries Inc
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Okamoto Industries Inc
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  • Orthopedics, Nursing, And Contraception (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、コンドームに関する。
(従来の技術) 従来のコンドームは、硫黄及び酸化亜鉛等の金属酸化物
の加硫促進助剤を用いる硫黄法によって成形されていた
ものである。
(考案が解決しようとする課題) しかし、上記従来技術によると粉体である硫黄、酸化亜
鉛を用いるためピンホールが発生しやすく、また成形後
も加硫が進行するので、最適加硫を越えて加硫が進行
し、品質の低下をきたすなど品質が経時的に変化する虞
れがあるため、装着性や装着感を悪化せしめるだけでな
く、経時的変化によりコンドームに細かい亀裂等が生じ
る虞があり、改良の余地を多分に残していたものであっ
た。
本考案は、上記従来技術の有するこのような問題点に鑑
みなされたものであり、その目的とするところは、ピン
ホールの発生を確実に抑え、より柔軟性を持たせると共
に成形後の経時的変化を防いで長期間一定の品質を維持
させることである。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために本考案がなした技術的手段
は、アクリル酸n−ブチルを加えたラテックス溶液に、
電離性放射線を照射して構成した主原料をもって形成し
たことである。
(作用) 上記せる技術的手段により、硫黄及び酸化亜鉛等の金属
酸化物の加硫促進助剤を添加せずに電離性放射線によっ
てゴムを架橋すると、ピンホールの発生が少なく、かつ
成形後加硫の進行はおこらず、経時的変化は生じないと
共に、モジュラスが低く柔らかくなる。
また、アクリル酸n−ブチルが架橋速度を速め、かつゴ
ムの溶剤は併用せず、そして残留モノマーが無い。
(実施例) 本考案の一実施例を図面に基づいて説明する。
図示されたコンドーム(A)は、従来周知の形態を有す
るもので、ゴムラテックスを主成分とし、これに電離性
放射線によって架橋作用する放射線架橋剤を加えてラテ
ックス溶液をつくり、このラテックス溶液に上記放射線
を照射して主原料を構成せしめ、この主原料にコンドー
ム成形型(不図示)を浸漬して薄膜状に成形し、然る後
乾燥して構成したものである。
ゴムラテックスとしては、ポリイソプレンを主成分とす
る天然ゴムラテックスや合成ゴムラテックスを使用し、
これらのラテックスは単独で使用するか、適宜に組み合
わせて用いるものである。
ゴムラテックスには必要に応じて可塑剤,安定剤,老化
防止剤,充填剤,補強剤,粘性賦与剤,顔料等の添加剤
を適宜な割合で配合する様にする。
放射性架橋剤は、上述の如くゴムラテックスのゴム成分
を電離性放射線によって架橋させる際、その架橋速度を
速める架橋促進剤としての作用を有し、上記放射線の照
射線量を低減化するものであり、一分子内に一個のC=
C結合を有する単官能性モノマーであるアクリル酸n−
ブチルに限定される。
そして上述のゴムラテックスを主成分とする液にこの放
射線架橋剤を加えることによりラテックス溶液が構成さ
れる。
即ち、ゴムの溶剤を併用した多官能性モノマー系では、
溶剤がポリイソプレンに吸収されるため、乾燥時にゴム
表面にピンホールができてしまう虞があり、また単官能
性モノマーでもブチル基よりも分子量の小さいアルキル
基をもつ単官能性モノマーでは、ゴムラテックスに対す
る反応性が乏しいため実用的ではない。
このようにアクリル酸n−ブチルを使用した場合には、
ゴムを膨潤させてその物性を低下させる残留モノマーが
検出されず、肉厚が非常に薄いコンドームの致命傷とな
るピンホールの発生も大幅に減少する。また、ブチル基
よりも分子量の大きいアルキル基をもつ単官能性モノマ
ーでは、蒸気圧が低いため製品に残留モノマーが200〜1
000ppm程度残ってしまい、皮膚のかぶれ等を招く毒性が
問題になる虞がある。
尚、ゴムラテックスへの配合割合は、ゴム分100重量部
に大して1乃至20重量部、好ましくは2乃至10重量部の
割合で配合される。
前記老化防止剤としては、当技術分野で通常用いられて
いるものを用いるものとする。
老化防止剤の配合量はゴム分100重量部に大して0.5乃至
2.0重量部程度の割合が適当である。
なお、この老化防止剤は、電離性放射線の照射前に添加
すると、γ線等により分解されて効果を失ってしまうた
め、上記放射線の照射後に添加するようにする。
電離性放射線は、α線,β線,γ線,x線,電子線など
であり、このうちγ線,電子線及びx線が工業的により
実用的である。
この放射線の線源として用いられる放射性同位体の核種
は限定されないが、工業的にはCo60が実際的である。
電離放射線の照射線量は特に限定する必要はないが、0.
5〜10Mradの範囲が実用的であり、1.0〜8Mradがより好
ましい。
上述の電離性放射線を前記ラテックス溶液に照射するこ
とにより構成された主原料をもって、本考案のコンドー
ム(A)が形成される。
ラテックス溶液には前術の如く必要に応じ、当技術分野
において通常用いられている様な可塑剤,安定剤,老化
防止剤,充填剤,補強剤,粘性賦与剤,顔料等の添加剤
を適宜な割合で配合することが可能である。
ここで本考案のコンドーム(A)を、浸漬成形法により
成形する工程の概要及びその条件の一例を挙げると、コ
ンドーム成形型→ラテックス液(主原料)浸漬→乾燥
(80℃、10分間)→口巻→本乾燥(80℃、20分間)→成
形物の剥離→希アルカリ溶液(水酸化アンモニウム,水
酸化ナトリウム,水酸化カリウム等)で抽出→粘着防止
処理→乾燥(80℃、60分間)であり、本考案の特徴とす
るラテックス液(主原料)の構成及び本乾燥の乾燥条件
を除けば、従来の硫黄法の場合と全く変わらないもので
ある。
本考案における主原料の構成は、硫黄法で従来使用され
ていた硫黄、加硫促進助剤としての酸化亜鉛等の金属酸
化物が添加されていないことと、電離性放射線によって
架橋作用する放射線架橋剤が加えられ、上記放射線によ
ってあらかじめ架橋されていることが特徴であり、上記
工程における本乾燥の乾燥条件は、硫黄法の場合、加硫
工程が含まれるために80℃で60分間必要となるが、本考
案においては20分間で充分であるという利点がある。
また、放射線架橋法の場合、粉体である硫黄、酸化亜鉛
を用いないためピンホールの発生が非常に少なくなると
いう利点もある。
また、コンドームの廃棄時等に焼却するような場合、本
考案は従来の硫黄法と比較して様々な有害ガスの発生が
著しく少ないものである。
即ち、硫黄法において加硫剤として用いられる硫黄を配
合していないために、大気汚染・酸性雨等の公害、焼却
炉の腐食等の原因となるSOXの発生が少なく、且つ硫黄
法によって成形されたものでは天然ゴム中に存在するタ
ンパク質等の有機窒素化合物が光化学スモッグの原因と
なるNOX,シアン化水素,一酸化炭素等を発生するが、
本考案の場合には、電離性放射性の照射により上記有機
窒素化合物が分解されるために、前述したコンドーム
(A)の成形工程における希アルカリ溶液での抽出によ
って大部分が抽出され、上記ガスの発生が著しく少なく
なる(表Aの試験結果参照)。
硫黄法では加硫促進助剤として用いられている酸化亜鉛
等の金属酸化物が焼却しても燃えないので全量が灰分即
ち廃棄物として残り、また焼却炉内のセラミックフィル
ターの目詰まりを起こしてしまうが、本考案の場合には
この金属酸化物を含まないので、焼却後の灰分量、即ち
廃棄物量を減少させることができる(表Aの試験結果参
照)と共に、上述の様なセラミックフィルターの目詰ま
りを抑えることができるものである。
更に、本考案によって成形されたコンドーム(A)は、
モジュラスが低く柔軟性があるために、硫黄法の場合と
比較して装着性や装着感がよいものであり(表Bの試験
結果参照)、また加硫剤としてのジチオカルバメート系
を用いないのでかぶれの心配もない。。
次に、本考案のコンドーム(A)を成形する具体的な方
法の一例について説明する。
主原料の配合は、 (a)天然ゴムラテックス(ゴム分) 100重量部 (b)アクリル酸n−ブチル 5重量部 (c)2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−
ブチルフェノール) 1.0重量部 の様に表わされれるが、先ず(a)に(b)を添加し1
時間攪拌してラテックス溶液を作成し、このラテックス
溶液にCo60を用いて5Mradのγ線を照射する。然る後に
(c)を添加する。
上述の如く構成した主原料を用い、前述した浸漬成形法
の成形工程に従って成形を行ない、図示した様なコンド
ーム(A)を得る。
斯くして成形されたコンドーム(A)を焼却した場合の
様々な前記有害ガス,灰分量などの測定結果を表Aに、
また物性試験(500%モジュラス)の測定結果を表Bに
夫々従来の硫黄法と比較して示す(両測定結果に触れた
前述の説明を参照)。
(考案の効果) 本考案は、上記せる如き構成を有するので、下記の効果
を奏する。
硫黄及び酸化亜鉛等の金属酸化物の加硫促進助剤を添加
せずに電離性放射線によって架橋することにより形成し
たため、ピンホールの発生が抑えられ、また従来の如く
成形後に加硫が進行して経時的にゴムが変化するという
虞れがないため、長期間にわたり一定の品質を保持する
ことができ、すなわち、経時的変化によりコンドームに
細かい亀裂が生じる虞れもないので、コンドーム本来の
目的である避妊が確実に行え、大変有用かつ信用度の優
れた商品として供することができる。
また、特にコンドームについてではないが一般的に放射
線架橋によって架橋するラテックス組成物については特
開昭57-153034号公報記載の如く多官能性モノマーを添
加して架橋させるものがあるが、この場合かならずゴム
の溶剤が併用されるものであり、経時的変化により溶剤
が飛んでしまうためピンホールの原因になるものである
が、本考案は単官能性モノマーのうち残留モノマーの無
いアクリル酸n−ブチルを用いたため、皮膚のかぶれな
どの毒性の心配もない。
さらに、モジュラスが低く柔らかくなるため、装着する
際の装着性及び装着後の装着感の向上が図れる。
また廃棄時等の焼却に関し従来の硫黄法の場合には、イ
オウ酸化物(SOX),窒素酸化物(NOX),シアン化水
素,一酸化炭素など公害の原因となる多量の有害ガスの
発生があるために焼却処理ができなかったの対し、これ
らの有害ガスの発生が著しく減少するので焼却処理が可
能となり、衛生的であると共に、酸化亜鉛等の金属酸化
物を含まないので、焼却後の廃棄物としての灰分量を減
少させることとなり、焼却炉内のセラミックフィルター
の目詰まりを解消できる。
また、従来の様な膜状態での加熱加硫の必要がなくなる
ので、コスト減となり大変有用である。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案によって構成されたコンドームの一実施例
を示す平面図である。 尚図中 A:コンドーム

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】アクリル酸n−ブチルを加えたラテックス
    溶液に、電離性放射線を照射して構成した主原料をもっ
    て形成されたコンドーム。
JP1988134386U 1988-10-14 1988-10-14 コンドーム Expired - Lifetime JPH0632095Y2 (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1988134386U JPH0632095Y2 (ja) 1988-10-14 1988-10-14 コンドーム

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1988134386U JPH0632095Y2 (ja) 1988-10-14 1988-10-14 コンドーム

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Publication Number Publication Date
JPH0255934U JPH0255934U (ja) 1990-04-23
JPH0632095Y2 true JPH0632095Y2 (ja) 1994-08-24

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ID=31393099

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1988134386U Expired - Lifetime JPH0632095Y2 (ja) 1988-10-14 1988-10-14 コンドーム

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1328630A (en) * 1971-09-03 1973-08-30 Fortuna Werke Maschf Ag Shoe treatment
JPS57153034A (en) * 1981-03-19 1982-09-21 Japan Atom Energy Res Inst Radiation-valcanized rubber latex composition

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JPH0255934U (ja) 1990-04-23

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