JPH063342A - 有機材料の発生ガス分析装置 - Google Patents
有機材料の発生ガス分析装置Info
- Publication number
- JPH063342A JPH063342A JP18312292A JP18312292A JPH063342A JP H063342 A JPH063342 A JP H063342A JP 18312292 A JP18312292 A JP 18312292A JP 18312292 A JP18312292 A JP 18312292A JP H063342 A JPH063342 A JP H063342A
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- JP
- Japan
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- gas
- heating
- sample
- gas chromatography
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- Pending
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】加熱によって有機材料から発生する微量ガスを
分析する、いわゆる発生気体分析法を適用した場合に
は、目的の材料を外部の専用加熱炉にセットして測定し
ていたため、微量な発生ガスの分析の際には、装置のデ
ッドボリューム、試料の充填量、加熱の不均一性等に左
右され、必ずしも十分な精度での測定ができない点を改
良するものである。 【構成】有機材料を加熱して、熱劣化させるる際に発生
するガスをガスクロマトグラフィーにて分析する装置に
おいて、材料の加熱装置にガスクロマトグラフィー用オ
ーブンを用い、材料をガスクロマトグラフィー充填カラ
ムに充填して分析することにある。
分析する、いわゆる発生気体分析法を適用した場合に
は、目的の材料を外部の専用加熱炉にセットして測定し
ていたため、微量な発生ガスの分析の際には、装置のデ
ッドボリューム、試料の充填量、加熱の不均一性等に左
右され、必ずしも十分な精度での測定ができない点を改
良するものである。 【構成】有機材料を加熱して、熱劣化させるる際に発生
するガスをガスクロマトグラフィーにて分析する装置に
おいて、材料の加熱装置にガスクロマトグラフィー用オ
ーブンを用い、材料をガスクロマトグラフィー充填カラ
ムに充填して分析することにある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、加熱によって有機材料
から発生する微量な発生ガスを、再現性よくかつ高精度
で測定する発生ガス分析装置に関するものである。
から発生する微量な発生ガスを、再現性よくかつ高精度
で測定する発生ガス分析装置に関するものである。
【従来の技術】従来より、加熱によって有機材料から発
生するガスを分析する手段として、ＧＣ法、ＧＣ−ＭＳ
法、赤外線分析法等の各種の方法が知られている。中で
も、ＧＣ法による発生ガス分析法は、装置が廉価であ
り、測定精度もよく各種の気体分析に応用できる事か
ら、もっとも汎用的に用いられている分析装置である。
そのＧＣ法を用いた発生ガス分析装置は、図３に示され
るようなシステム構成によって分析を行う。図３におい
て、11は試料の加熱炉、12は試料ガス切り替えコック、
13はガスクロマトグラフィー本体、14は検出器、15はデ
ータ処理装置で、試料を加熱炉にセットする事により、
ガスボンベを変更する事によって各種雰囲気における試
料からの発生ガスを分析できるような構成になってい
る。
生するガスを分析する手段として、ＧＣ法、ＧＣ−ＭＳ
法、赤外線分析法等の各種の方法が知られている。中で
も、ＧＣ法による発生ガス分析法は、装置が廉価であ
り、測定精度もよく各種の気体分析に応用できる事か
ら、もっとも汎用的に用いられている分析装置である。
そのＧＣ法を用いた発生ガス分析装置は、図３に示され
るようなシステム構成によって分析を行う。図３におい
て、11は試料の加熱炉、12は試料ガス切り替えコック、
13はガスクロマトグラフィー本体、14は検出器、15はデ
ータ処理装置で、試料を加熱炉にセットする事により、
ガスボンベを変更する事によって各種雰囲気における試
料からの発生ガスを分析できるような構成になってい
る。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、加熱に
よって有機材料から発生する微量ガスを分析する、いわ
ゆる発生気体分析法を適用した場合には、目的の材料を
外部の専用加熱炉にセットして測定していたため、微量
な発生ガスの分析の際には、装置のデッドボリューム、
試料の充填量、加熱の不均一性等に左右され、必ずしも
十分な精度での測定ができないという問題点があった。
よって有機材料から発生する微量ガスを分析する、いわ
ゆる発生気体分析法を適用した場合には、目的の材料を
外部の専用加熱炉にセットして測定していたため、微量
な発生ガスの分析の際には、装置のデッドボリューム、
試料の充填量、加熱の不均一性等に左右され、必ずしも
十分な精度での測定ができないという問題点があった。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は上述した点に鑑
みて創案されたもので、有機材料をガスクロマトグラフ
ィー用カラムに充填し、さらにこの試料を加熱する加熱
炉に、ガスクロマトグラフィーのカラムオーブンを用い
る事によって、従来困難であった微量発生ガスの分析が
容易に行えるようになる。すなわち、図３での改良を加
えた点は、11の試料加熱炉にある。本発明では、この加
熱炉の代わりに、試料の充填用として、ガスクロ用のカ
ラムを用いる事により、カラムの長さを変える事によっ
て、自由に試料量を変化させる事ができるようになり、
従来の加熱炉では困難であった、試料量の変更を容易に
している。また、加熱炉としてガスクロ用の精密オーブ
ンを用いる事によって、均一で精度の高い加熱が可能と
なる。また、上述のシステムを構成することによって、
ガスの流路に対するデッドボリュームが極めて小さくな
るため、微量発生ガスの分析においても極めて安定な分
析結果が得られるという利点も伴う。
みて創案されたもので、有機材料をガスクロマトグラフ
ィー用カラムに充填し、さらにこの試料を加熱する加熱
炉に、ガスクロマトグラフィーのカラムオーブンを用い
る事によって、従来困難であった微量発生ガスの分析が
容易に行えるようになる。すなわち、図３での改良を加
えた点は、11の試料加熱炉にある。本発明では、この加
熱炉の代わりに、試料の充填用として、ガスクロ用のカ
ラムを用いる事により、カラムの長さを変える事によっ
て、自由に試料量を変化させる事ができるようになり、
従来の加熱炉では困難であった、試料量の変更を容易に
している。また、加熱炉としてガスクロ用の精密オーブ
ンを用いる事によって、均一で精度の高い加熱が可能と
なる。また、上述のシステムを構成することによって、
ガスの流路に対するデッドボリュームが極めて小さくな
るため、微量発生ガスの分析においても極めて安定な分
析結果が得られるという利点も伴う。
【０００４】
【作用】その作用は、次に述べる実施例と併せて説明す
る。
る。
【実施例】以下、本発明による一実施例を図面に基づい
て詳述する。図１は本発明の一実施例を示す発生ガス分
析装置のシステム構成図であり、１はガスクロ用カラム
オーブン、２は試料充填用カラム、３は試料ガス切り替
えコック、４はガスクロマトグラフィー本体、５は検出
器、６はデータ処理装置である。ここで、２はガスクロ
用カラムであり、このカラムの中に目的の試料を充填す
る。操作は、通常の発生気体分析法と同様であり、試料
を充填したカラムがセットされた、ガスクロ用カラムオ
ーブンを目的の温度にセットし、安定な状態に達した時
点でガスクロマトグラフィーにキャリアガスとともに発
生ガスを導入し、分析を行う。従来装置による発生ガス
分析結果及び、本発明による分析結果を比較を図２に示
す。試料は、熱硬化性樹脂の一種であるエポキシ樹脂硬
化物を粉砕したもので、それぞれの装置を用いて、空気
中での酸化挙動を調べるために空気雰囲気中で加熱し、
測定温度において発生する炭酸ガスを還元装置でメタン
に還元し、ガスクロの検出器としてＦＩＤを用いて分析
を行ったものである。図２によれば、従来法では困難で
あった150℃以下での酸化反応による、炭酸ガスの発生
が明瞭に捕らえられている。
て詳述する。図１は本発明の一実施例を示す発生ガス分
析装置のシステム構成図であり、１はガスクロ用カラム
オーブン、２は試料充填用カラム、３は試料ガス切り替
えコック、４はガスクロマトグラフィー本体、５は検出
器、６はデータ処理装置である。ここで、２はガスクロ
用カラムであり、このカラムの中に目的の試料を充填す
る。操作は、通常の発生気体分析法と同様であり、試料
を充填したカラムがセットされた、ガスクロ用カラムオ
ーブンを目的の温度にセットし、安定な状態に達した時
点でガスクロマトグラフィーにキャリアガスとともに発
生ガスを導入し、分析を行う。従来装置による発生ガス
分析結果及び、本発明による分析結果を比較を図２に示
す。試料は、熱硬化性樹脂の一種であるエポキシ樹脂硬
化物を粉砕したもので、それぞれの装置を用いて、空気
中での酸化挙動を調べるために空気雰囲気中で加熱し、
測定温度において発生する炭酸ガスを還元装置でメタン
に還元し、ガスクロの検出器としてＦＩＤを用いて分析
を行ったものである。図２によれば、従来法では困難で
あった150℃以下での酸化反応による、炭酸ガスの発生
が明瞭に捕らえられている。
【０００５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明における発生
ガス分析装置を用いる事によって、試料から発生する微
量の発生ガスを分析する際においても、容易に精度の高
い測定が実現でき、従来困難であった条件における発生
ガス分析も可能となる。
ガス分析装置を用いる事によって、試料から発生する微
量の発生ガスを分析する際においても、容易に精度の高
い測定が実現でき、従来困難であった条件における発生
ガス分析も可能となる。
【図１】図１は本発明の発生ガス分析装置のシステム構
成図である。
成図である。
【図２】図２は本発明のものと従来のものとの比較ずで
ある。
ある。
【図３】図３は従来の発生ガス分析装置のシステム構成
図である。
図である。
【０００６】
１ ガスクロ用カラムオーブン ２ 試料充填用カラム ３ 試料ガス切り替えコック ４ ガスクロマトグラフィー本体 ５ 検出器 ６ データ処理装置 11 試料の加熱炉 12 試料ガス切り替えコック 13 ガスクロマトグラフィー本体 14 検出器 15 データ処理装置
Claims (1)
- 【請求項１】 有機材料を加熱して、熱劣化させるる際
に発生するガスをガスクロマトグラフィーにて分析する
装置において、材料の加熱装置にガスクロマトグラフィ
ー用オーブンを用い、材料をガスクロマトグラフィー充
填カラムに充填して分析する事を特徴とする有機材料の
発生ガス分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18312292A JPH063342A (ja) | 1992-06-17 | 1992-06-17 | 有機材料の発生ガス分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18312292A JPH063342A (ja) | 1992-06-17 | 1992-06-17 | 有機材料の発生ガス分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH063342A true JPH063342A (ja) | 1994-01-11 |
Family
ID=16130180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18312292A Pending JPH063342A (ja) | 1992-06-17 | 1992-06-17 | 有機材料の発生ガス分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH063342A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8002860B2 (en) * | 1999-06-18 | 2011-08-23 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | CMP abrasive, method for polishing substrate and method for manufacturing semiconductor device using the same, and additive for CMP abrasive |
| WO2016063975A1 (ja) * | 2014-10-24 | 2016-04-28 | 横浜ゴム株式会社 | リン酸変性ポリマー |
-
1992
- 1992-06-17 JP JP18312292A patent/JPH063342A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8002860B2 (en) * | 1999-06-18 | 2011-08-23 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | CMP abrasive, method for polishing substrate and method for manufacturing semiconductor device using the same, and additive for CMP abrasive |
| WO2016063975A1 (ja) * | 2014-10-24 | 2016-04-28 | 横浜ゴム株式会社 | リン酸変性ポリマー |
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