JPH06338632A - 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 - Google Patents
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子Info
- Publication number
- JPH06338632A JPH06338632A JP12931393A JP12931393A JPH06338632A JP H06338632 A JPH06338632 A JP H06338632A JP 12931393 A JP12931393 A JP 12931393A JP 12931393 A JP12931393 A JP 12931393A JP H06338632 A JPH06338632 A JP H06338632A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- type layer
- gallium nitride
- compound semiconductor
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
- H10W72/07551—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
- H10W72/07554—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting changes in dispositions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/531—Shapes of wire connectors
- H10W72/536—Shapes of wire connectors the connected ends being ball-shaped
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/531—Shapes of wire connectors
- H10W72/5363—Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/547—Dispositions of multiple bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/551—Materials of bond wires
- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
- H10W72/5522—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Led Device Packages (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
ズを小さくすると共に、小さいサイズの発光素子から出
る発光をできるだけ遮ることなく外部に取り出し発光効
率を向上させる。 【構成】 同一面側にn型層の電極と、p型層の電極と
が形成されてなる窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
において、前記n型層の電極はそのn型層の隅部でワイ
ヤーボンディングされており、さらに、前記p型層の電
極はそのp型層の隅部でワイヤーボンディングされてい
る。
Description
1-X-YN(0≦X<1、0≦Y<1)で表される窒化ガリ
ウム系化合物半導体を具備する窒化ガリウム系化合物半
導体発光素子に関する。
InAlGaN等の窒化ガリウム系化合物半導体を用い
た発光素子が注目されている。その窒化ガリウム系化合
物半導体は一般にサファイア基板の上に成長される。サ
ファイアのような絶縁性基板を用いた発光素子は、他の
GaAs、GaAlP等の半導体基板を用いた発光素子
と異なり、基板側から電極を取り出すことが不可能であ
るため、通常窒化ガリウム系化合物半導体層に設けられ
る正、負一対の電極は同一面側に形成される。特に、窒
化ガリウム系化合物半導体発光素子の場合、サファイア
が透光性であるため、電極面を下にして、サファイア基
板側を発光観測面とすることが多い(特開平4−106
70号公報、特開平4−10671号公報)。
面側に設けられたそれぞれの電極に上からワイヤーボン
ディングした構造の窒化ガリウム系化合物半導体発光素
子も知られている(特開昭60−175468号公報、
特開昭61−56474号公報)。
光観測面とする構造の発光素子は、電極に発光を妨げら
れることなく、基板側全面から発光を観測することがで
きるという利点はあるが、両電極を接続するリードフレ
ーム間の間隔を狭くすることが困難であるため、チップ
サイズが約1mm以上と大きくなり、一枚あたりのウエ
ハーからとれるチップ数が少なくなるという欠点があ
る。
構造の発光素子は、チップサイズを小さくできるという
利点はあるが、窒化ガリウム系化合物半導体層(特に最
上層のp型層)に形成された電極によって発光が遮ら
れ、発光効率が低下するという欠点がある。つまり、電
極に金線等をワイヤーボンディングする際、ボンディン
グ位置の電極面積は、金線の太さに合わせてある程度の
大きさを必要とするため、その位置が発光面の中心部に
あると、例えば中心部の電極、ワイヤーボンディングの
際にできるボール等で発光を遮ることになる。
成されたものであり、第一の目的は、窒化ガリウム系化
合物半導体発光素子のサイズを小さくすることにあり、
第2の目的は小さいサイズの発光素子から出る発光をで
きるだけ遮ることなく外部に取り出し発光効率を向上さ
せることにある。
化合物半導体発光素子は同一面側にn型層の電極と、p
型層の電極とが形成されてなる窒化ガリウム系化合物半
導体発光素子において、前記n型層の電極はそのn型層
の隅部でワイヤーボンディングされており、さらに、前
記p型層の電極はそのp型層の隅部でワイヤーボンディ
ングされていることを特徴とする。
素子(以下発光素子という。)を図1および図2を用い
て説明する。図1は本発明の一実施例の発光素子を窒化
ガリウム系化合物半導体層側から見た平面図であり、図
2は図1の発光素子をこの図に示すように一点鎖線で切
断した際の概略断面図である。この発光素子はサファイ
ア基板1の上にn型層2とp型層3とを順に積層した構
造を有しており、p型層3の一部をエッチングして、n
型層2を露出させ、n型層2の上に電極4と、p型層3
の上に線状の電極5を形成している。さらにそのp型層
の上に形成した電極5は発光をできるだけ妨げないよう
に線状にすると共に、電流が均一に広がるようにp型層
3の上に複数設けている。
極5に金線7をワイヤーボンディングしてリードフレー
ムと金線7とを接続することにより発光素子は完成す
る。なお、6はワイヤーボンディング時に金線7からで
きるボールである。本発明の発光素子は、図1に示すよ
うにp型層3の隅部をエッチングして、電極4をn型層
2の隅部に形成し、この電極4をワイヤーボンディング
している。さらに、電極5のワイヤーボンディング位置
をp型層3の隅部としている。これらの図に示すよう
に、電極4をn型層2の隅部としてワイヤーボンディン
グすることにより、p型層3の面積を大きくすることが
でき、広範囲の面積で発光を得ることができる。さら
に、電極5のワイヤーボンディング位置をp型層3の隅
部とすることにより、発光をボール6で遮ること少なく
外部に取り出すことができる。
ンディングするには、他にp型層3の隅(例えば、図1
に示すa点、b点)でも良いが、図1に示すように、そ
れらが対角線上の端にあること、つまりn型層の電極4
をワイヤーボンディングする位置と、p型層の電極5を
ワイヤーボンディングする位置とは、同一面側からみて
対角線上の端にあることが特に好ましい。なぜなら、ワ
イヤーボンディング位置を互いに対角線上の端とするこ
とにより、電流が電極5から電極4に均一に流れ、均一
な面発光が得られる。これは窒化ガリウム系化合物半導
体発光素子はサファイアという絶縁性基板の上に積層さ
れているため基板側から電極を取ることができない。従
って、同一窒化ガリウム系化合物半導体層側から正、負
両電極を取り出す場合、そのワイヤーボンディング位置
を電極4から最も離れた位置とすることにより、p型層
3内に均一に電流を流すことができるため、均一な面発
光が得られることによる。このことは窒化ガリウム系化
合物半導体発光素子特有の効果である。
光素子を図1と同じく窒化ガリウム系化合物半導体層側
からみた平面図であり、図4は図3の平面図を一点鎖線
で示す位置で切断した際の概略断面図である。基本的な
構造は図1および図2と同一であるが、この発光素子は
p型層3の電極5を金属よりなる透光性の電極としてい
る。電極5を金属とするのはp型層3とオーミック接触
を得るためである。さらに、電極5を透光性にするに
は、例えばAu、Ni、Pt等の金属が透光性となるよ
うに非常に薄く蒸着、またはスパッタすることによって
実現できる。また、金属を蒸着、スパッタした後、アニ
ーリングして、金属を窒化ガリウム系化合物半導体中に
拡散させると共に、外部に飛散させて透光性となるよう
な膜厚まで調整することにより実現できる。透光性にな
る電極5の膜厚は金属の種類によっても異なるが、好ま
しい膜厚は0.001μm〜0.1μmの範囲である。
に示すようにp型層3のほぼ全面に電極5を形成するこ
とができる。図3のように電極5を全面に形成すること
により、図1の線状の電極に比して、電流がよりp型層
3全面に広がるため、全面発光の好ましい発光素子を得
ることができる。
透光性電極の上に直接ワイヤーボンディングすると、電
極5の膜厚が薄いことにより、ボールが電極5と合金化
せずくっつきにくくなる傾向にあるため、図4に示すよ
うに電極5とは別にボンディング用の台座電極8を形成
する方が好ましい。台座電極8はAu、Pt、Al等通
常の電極材料を使用でき、数μmの厚さで形成すること
ができる。また、図1に示す線状の電極5を透光性とし
てもよく、線状の電極5を透光性にした場合には、電極
5の隅部に台座電極8を設けてもよいことはいうまでも
ない。
ボンドするn型層の隅部とは、いいかえると図1、図3
に示すように、同一平面上においてn型層の隅部に形成
されている電極を指し、同様にp型層の電極をワイヤー
ボンドするp型層の隅部とは、図1、図3に示すように
同一平面上に形成されているp型層の電極の隅部を指し
ている。
の隅部でワイヤーボンディングされており、さらに、p
型層の電極がそのp型層の隅部でワイヤーボンディング
されているため、電極で発光を遮られることなく効率よ
く外部へ発光を取り出すことができる。また上部からワ
イヤーボンドするため、1チップを1リードフレーム上
に取り付けることができるため、チップサイズが小さく
でき生産性が向上する。さらに、n型層の電極とp型層
の電極とを対角線上、つまり最も距離の離れた位置に配
置することにより、電流を均一に広げることができ、発
光効率がさらに向上する。またp型層の電極を透光性に
してp型層のほぼ全面に形成することにより、電流がp
型層全面に均一に流れ、しかも発光は透光性電極を通し
て電極側から観測することができる。
順に積層したウエハーを用意する。次に前記p型GaN
層の上に所定の形状のマスクを形成した後、p型GaN
層を一部エッチングしてn型GaN層を露出させる。た
だし、エッチング形状は図1に示すような形状とし、露
出したn型層の面積はその上に電極を形成してその電極
の上にワイヤーボンディングできる最小限の面積とす
る。
クを形成し、蒸着装置にてp型GaN層のほぼ全面にN
i/Auをおよそ300オングストロームの厚さで蒸着
する。なお露出したn型GaN層の上にもAlを1μm
の厚さで蒸着する。この状態でn型層の電極とp型層の
電極とが対角線上に位置する電極パターンが完成する。
アニーリングすることによりp型層上の電極を透光性に
する。さらに再度マスクを形成し、その透光性電極の所
定の位置にボンディング用のAlよりなる台座電極を1
μmの厚さで形成する。この状態でn型層の電極のワイ
ヤーボンディング位置と、p型層の電極のワイヤーボン
ディング位置とが対角線上にあるパターンが完成する。
発光素子の隅に来るように四角形にカットして発光チッ
プとする。後はこの発光チップのGaN層側を発光観測
面として、一つのリードフレーム上に載置し、それぞれ
の電極に金線をワイヤーボンディングした後、最後にエ
ポキシ樹脂で全体をモールドすることにより、本発明の
発光ダイオードとした。図5にこの発光ダイオードの概
略断面図を示す。この図において10はリードフレー
ム、11がエポキシ樹脂である。そしてこの発光ダイオ
ードを発光させたところ、同一の素子でp型層の電極の
中心にワイヤーボンディングしたものに比して1.5倍
も明るかった。
はボンディング位置がその発光素子の隅部にあるため、
電極、ボンディング用の電極、ボール等で発光を遮るこ
とが少なくなり発光素子の発光効率を向上させることが
できる。また窒化ガリウム系化合物半導体層側から、両
電極を取り出してワイヤーボンディングできるため、チ
ップサイズを小さくできて生産性が向上する。さらに好
ましくは両電極を隅と隅との対角線上に配置することに
より、p型層の電流を均一に広げることができ均一な発
光が得られる。
ウム系化合物半導体層側から見た平面図。
リウム系化合物半導体層側から見た平面図。
図。
Claims (5)
- 【請求項1】 同一面側にn型層の電極と、p型層の電
極とが形成されてなる窒化ガリウム系化合物半導体発光
素子において、前記n型層の電極はそのn型層の隅部で
ワイヤーボンディングされており、さらに、前記p型層
の電極はそのp型層の隅部でワイヤーボンディングされ
ていることを特徴とする窒化ガリウム系化合物半導体発
光素子。 - 【請求項2】 前記n型層の隅部と、前記p型層の隅部
とは、同一面側からみて対角線上にあることを特徴とす
る請求項1に記載の窒化ガリウム系化合物半導体発光素
子。 - 【請求項3】 前記p型層の電極は透光性の金属電極よ
りなることを特徴とする請求項1に記載の窒化ガリウム
系化合物半導体発光素子。 - 【請求項4】 前記p型層の電極は、該p型層のほぼ全
面に形成されていることを特徴とする請求項3に記載の
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子。 - 【請求項5】 前記p型層の電極の上に、さらにワイヤ
ーボンディング用の台座電極が形成されていることを特
徴とする請求項3に記載の窒化ガリウム系化合物半導体
発光素子。
Priority Applications (29)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12931393A JP2748818B2 (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
| TW083103775A TW403945B (en) | 1993-04-28 | 1994-04-27 | Gallium nitride based III - V group compound semiconductor device having an ohmic electrode and producing method thereof |
| EP04012118A EP1450415A3 (en) | 1993-04-28 | 1994-04-27 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device |
| EP99114356A EP0952617B1 (en) | 1993-04-28 | 1994-04-27 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device |
| EP94106587A EP0622858B2 (en) | 1993-04-28 | 1994-04-27 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device and method of producing the same |
| DE69425186T DE69425186T3 (de) | 1993-04-28 | 1994-04-27 | Halbleitervorrichtung aus einer galliumnitridartigen III-V-Halbleiterverbindung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| DE69433926T DE69433926T2 (de) | 1993-04-28 | 1994-04-27 | Halbleitervorrichtung aus einer galliumnitridartigen III-V-Halbleiterverbindung |
| TW090209918U TW491406U (en) | 1993-04-28 | 1994-04-27 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device having an ohmic electrode |
| KR1019940009055A KR100286699B1 (ko) | 1993-01-28 | 1994-04-27 | 질화갈륨계 3-5족 화합물 반도체 발광디바이스 및 그 제조방법 |
| CNB03145870XA CN1262024C (zh) | 1993-04-28 | 1994-04-28 | 氮化镓系ⅲ-ⅴ族化合物半导体器件的制造方法 |
| CN94106935A CN1046375C (zh) | 1993-04-28 | 1994-04-28 | 氮化镓系ⅲ-v族化合物半导体器件及其制造方法 |
| US08/234,001 US5563422A (en) | 1993-04-28 | 1994-04-28 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device and method of producing the same |
| CNB031458688A CN1253948C (zh) | 1993-04-28 | 1994-04-28 | 氮化镓系ⅲ-ⅴ族化合物半导体器件 |
| CNB03145867XA CN1240142C (zh) | 1993-04-28 | 1994-04-28 | 氮化镓系化合物半导体发光器件 |
| CNB031458696A CN1240143C (zh) | 1993-04-28 | 1994-04-28 | 氮化镓系ⅲ-ⅴ族化合物半导体器件 |
| US08/670,242 US5767581A (en) | 1993-04-28 | 1996-06-17 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor |
| US08/665,759 US5652434A (en) | 1993-04-28 | 1996-06-17 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor |
| US08/995,167 US5877558A (en) | 1993-04-28 | 1997-12-19 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor |
| KR1019980022092A KR100225612B1 (en) | 1993-04-28 | 1998-06-12 | Gallium nitride-based iii-v group compound semiconductor |
| CNB981183115A CN1262021C (zh) | 1993-04-28 | 1998-08-11 | 氮化镓系ⅲ-ⅴ族化合物半导体器件及其制造方法 |
| US09/209,826 US6093965A (en) | 1993-04-28 | 1998-12-11 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor |
| KR1019990032148A KR100551364B1 (ko) | 1993-04-28 | 1999-08-05 | 질화갈륨계 화합물 반도체 발광소자 및 그 전극형성방법 |
| US09/448,479 US6204512B1 (en) | 1993-04-28 | 1999-11-24 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor device and method of producing the same |
| US09/750,912 US6507041B2 (en) | 1993-04-28 | 2001-01-02 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor |
| US10/292,583 US6610995B2 (en) | 1993-04-28 | 2002-11-13 | Gallium nitride-based III-V group compound semiconductor |
| KR1020030035961A KR100551365B1 (ko) | 1993-04-28 | 2003-06-04 | 질화갈륨계 화합물 반도체 발광소자 |
| US10/609,410 US6998690B2 (en) | 1993-04-28 | 2003-07-01 | Gallium nitride based III-V group compound semiconductor device and method of producing the same |
| US11/198,465 US7205220B2 (en) | 1993-04-28 | 2005-08-08 | Gallium nitride based III-V group compound semiconductor device and method of producing the same |
| US11/714,890 US7375383B2 (en) | 1993-04-28 | 2007-03-07 | Gallium nitride based III-V group compound semiconductor device and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12931393A JP2748818B2 (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33095997A Division JP3369089B2 (ja) | 1997-11-13 | 1997-11-13 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06338632A true JPH06338632A (ja) | 1994-12-06 |
| JP2748818B2 JP2748818B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=15006487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12931393A Expired - Lifetime JP2748818B2 (ja) | 1993-01-28 | 1993-05-31 | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2748818B2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998042030A1 (fr) * | 1997-03-19 | 1998-09-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Element emetteur de lumiere semi-conducteur |
| JPH10256602A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Sharp Corp | 半導体発光素子 |
| JPH10275934A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Rohm Co Ltd | 半導体発光素子 |
| JPH10294493A (ja) * | 1997-02-21 | 1998-11-04 | Toshiba Corp | 半導体発光デバイス |
| US6549552B1 (en) | 1997-09-03 | 2003-04-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Nitride-type compound semiconductor laser device and laser apparatus incorporating the same |
| JP2003163373A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 |
| US6835958B2 (en) | 2002-02-06 | 2004-12-28 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light-emitting device |
| US6861275B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-03-01 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Method for producing group III nitride compound semiconductor device |
| JP2005136415A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-26 | Samsung Electronics Co Ltd | III−V族GaN系化合物半導体及びそれに適用されるp型電極 |
| US6996150B1 (en) | 1994-09-14 | 2006-02-07 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device and manufacturing method therefor |
| EP1396892A3 (en) * | 2002-09-09 | 2006-09-06 | SAMSUNG ELECTRONICS Co. Ltd. | High-efficiency light emitting diode |
| KR100665120B1 (ko) * | 2005-02-28 | 2007-01-09 | 삼성전기주식회사 | 수직구조 질화물 반도체 발광소자 |
| US7358544B2 (en) | 2004-03-31 | 2008-04-15 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor light emitting device |
| WO2008069204A1 (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-12 | Alps Electric Co., Ltd. | 発光装置およびプロジェクタ |
| US7884379B2 (en) | 2006-05-29 | 2011-02-08 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor light emitting device |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622675A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 発光ダイオ−ド |
| JPS6228765A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPS63311777A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-20 | Nec Corp | 光半導体装置 |
| JPH02101089A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-04-12 | Bayer Ag | フオスフオノ琥珀酸テトラメチルエステル及びフオスフオノ琥珀酸テトラエチルエステルの合成方法 |
| JPH03218625A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-26 | Univ Nagoya | p形窒化ガリウム系化合物半導体結晶の作製方法 |
| JPH05129658A (ja) * | 1991-10-30 | 1993-05-25 | Toyoda Gosei Co Ltd | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
-
1993
- 1993-05-31 JP JP12931393A patent/JP2748818B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622675A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 発光ダイオ−ド |
| JPS6228765A (ja) * | 1985-07-30 | 1987-02-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPS63311777A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-20 | Nec Corp | 光半導体装置 |
| JPH02101089A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-04-12 | Bayer Ag | フオスフオノ琥珀酸テトラメチルエステル及びフオスフオノ琥珀酸テトラエチルエステルの合成方法 |
| JPH03218625A (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-26 | Univ Nagoya | p形窒化ガリウム系化合物半導体結晶の作製方法 |
| JPH05129658A (ja) * | 1991-10-30 | 1993-05-25 | Toyoda Gosei Co Ltd | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 |
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7616672B2 (en) | 1994-09-14 | 2009-11-10 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device and manufacturing method therefor |
| US8934513B2 (en) | 1994-09-14 | 2015-01-13 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device and manufacturing method therefor |
| US6996150B1 (en) | 1994-09-14 | 2006-02-07 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor light emitting device and manufacturing method therefor |
| JPH10294493A (ja) * | 1997-02-21 | 1998-11-04 | Toshiba Corp | 半導体発光デバイス |
| JPH10256602A (ja) * | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Sharp Corp | 半導体発光素子 |
| WO1998042030A1 (fr) * | 1997-03-19 | 1998-09-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Element emetteur de lumiere semi-conducteur |
| US6417525B1 (en) | 1997-03-19 | 2002-07-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor light emitter with current block region formed over the semiconductor layer and electrode connection portion for connecting the pad electrode to the translucent electrode |
| JPH10275934A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Rohm Co Ltd | 半導体発光素子 |
| US6549552B1 (en) | 1997-09-03 | 2003-04-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Nitride-type compound semiconductor laser device and laser apparatus incorporating the same |
| US6842470B2 (en) | 1997-09-03 | 2005-01-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Nitride-type compound semiconductor laser device and laser apparatus incorporating the same |
| JP2003163373A (ja) * | 2001-11-26 | 2003-06-06 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 |
| US6835958B2 (en) | 2002-02-06 | 2004-12-28 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light-emitting device |
| US6861275B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-03-01 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Method for producing group III nitride compound semiconductor device |
| EP1396892A3 (en) * | 2002-09-09 | 2006-09-06 | SAMSUNG ELECTRONICS Co. Ltd. | High-efficiency light emitting diode |
| JP2005136415A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-26 | Samsung Electronics Co Ltd | III−V族GaN系化合物半導体及びそれに適用されるp型電極 |
| US7358544B2 (en) | 2004-03-31 | 2008-04-15 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor light emitting device |
| TWI385815B (zh) * | 2004-03-31 | 2013-02-11 | 日亞化學工業股份有限公司 | 氮化物半導體發光元件 |
| KR100665120B1 (ko) * | 2005-02-28 | 2007-01-09 | 삼성전기주식회사 | 수직구조 질화물 반도체 발광소자 |
| US7884379B2 (en) | 2006-05-29 | 2011-02-08 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor light emitting device |
| US8674381B2 (en) | 2006-05-29 | 2014-03-18 | Nichia Corporation | Nitride semiconductor light emitting device |
| WO2008069204A1 (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-12 | Alps Electric Co., Ltd. | 発光装置およびプロジェクタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2748818B2 (ja) | 1998-05-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3659098B2 (ja) | 窒化物半導体発光素子 | |
| JP2803742B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその電極形成方法 | |
| US6949773B2 (en) | GaN LED for flip-chip bonding and method of fabricating the same | |
| US8847267B2 (en) | Light emitting diode with metal piles and multi-passivation layers and its manufacturing method | |
| US9450017B2 (en) | Semiconductor light emitting device and method of fabricating the same | |
| JP2005129907A (ja) | 電極構造体およびそれを具備する半導体発光素子 | |
| JP2748818B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | |
| US8658441B2 (en) | Method of manufacturing nitride semiconductor light emitting element | |
| JPH09232632A (ja) | 半導体発光素子及びその製造方法 | |
| JPH0997922A (ja) | 発光素子 | |
| JP3752339B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
| JPH10209496A (ja) | 半導体発光素子 | |
| KR100550847B1 (ko) | 질화 갈륨계 발광 다이오드 소자의 제조 방법 | |
| US20030119218A1 (en) | Light emitting device and manufacturing method thereof | |
| US20020173062A1 (en) | Method for manufacturing GaN-based LED | |
| JP3369089B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | |
| JP2956594B2 (ja) | 発光ダイオード及びそれを用いた表示装置 | |
| KR100953662B1 (ko) | 색상 균일도가 개선된 발광다이오드 소자 및 이의 제조방법 | |
| JP3602929B2 (ja) | 3族窒化物半導体発光素子 | |
| JP4810751B2 (ja) | 窒化物半導体素子 | |
| EP2849235B1 (en) | Vertical structure LED and fabricating method thereof | |
| JP3489395B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
| JP5143977B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子及びその製造方法 | |
| KR20170069331A (ko) | 반도체 발광소자 | |
| JP3027676U (ja) | 窒化ガリウム系半導体発光素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |