JPH06340616A - 新規なエチレン性不飽和モノマー - Google Patents
新規なエチレン性不飽和モノマーInfo
- Publication number
- JPH06340616A JPH06340616A JP13181193A JP13181193A JPH06340616A JP H06340616 A JPH06340616 A JP H06340616A JP 13181193 A JP13181193 A JP 13181193A JP 13181193 A JP13181193 A JP 13181193A JP H06340616 A JPH06340616 A JP H06340616A
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- acrylate
- ethylenically unsaturated
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低粘度であり、屈折率が高く、さらに重合速
度が速い化合物の提供。 【構成】 芳香族置換を有するチオエーテルアルコール
のアクリル酸またはメタクリル酸のエステルからなる、
エチレン性不飽和モノマー。 【効果】 ポリマーに混合する希釈剤として、光学レン
ズなどの高屈折率が要求される分野にも使用できる、高
い屈折率と速い重合速度を両立することげできる。
度が速い化合物の提供。 【構成】 芳香族置換を有するチオエーテルアルコール
のアクリル酸またはメタクリル酸のエステルからなる、
エチレン性不飽和モノマー。 【効果】 ポリマーに混合する希釈剤として、光学レン
ズなどの高屈折率が要求される分野にも使用できる、高
い屈折率と速い重合速度を両立することげできる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、低粘度かつ重合速度が
速く、高屈折率のポリマーを与える、光重合性モノマー
に関するものである。
速く、高屈折率のポリマーを与える、光重合性モノマー
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光重合性モノマーは、現在、塗料、イン
キ、接着剤、光ファイバー、あるいは光学レンズなどと
して利用されるポリマーを与えるものとして幅広い分野
で利用されている。
キ、接着剤、光ファイバー、あるいは光学レンズなどと
して利用されるポリマーを与えるものとして幅広い分野
で利用されている。
【０００３】これらの用途でのポリマーは、対応モノマ
ーの重合によって直接製造されることもあろうが、その
オリゴマーの形で最終ポリマーにする方法で製造される
ことも多く、下記のように各種のポリマー構造を導入し
ようとする場合に特にそうである。
ーの重合によって直接製造されることもあろうが、その
オリゴマーの形で最終ポリマーにする方法で製造される
ことも多く、下記のように各種のポリマー構造を導入し
ようとする場合に特にそうである。
【０００４】これらの分野で利用されているポリマーな
いしプラスチックは、堅牢性、柔軟性、あるいは耐衝撃
性などの諸性能に優れることが要求される。これら要求
に答えるため、ポリマー分子中にポリウレタン、ポリエ
ーテル、ポリエステル、ポリカーボネート等の諸性能に
適した構造を導入することが行われており、このような
構造を最終ポリマー中に導入するためには、一般に、光
重合性モノマーにこれらのポリマー構造を導入してオリ
ゴマーにしておくか、あるいはこれらのポリマー構造を
有するオリゴマーを光重合性ポリマーと組み合わせてお
くことが、しばしば行われてきた。
いしプラスチックは、堅牢性、柔軟性、あるいは耐衝撃
性などの諸性能に優れることが要求される。これら要求
に答えるため、ポリマー分子中にポリウレタン、ポリエ
ーテル、ポリエステル、ポリカーボネート等の諸性能に
適した構造を導入することが行われており、このような
構造を最終ポリマー中に導入するためには、一般に、光
重合性モノマーにこれらのポリマー構造を導入してオリ
ゴマーにしておくか、あるいはこれらのポリマー構造を
有するオリゴマーを光重合性ポリマーと組み合わせてお
くことが、しばしば行われてきた。
【０００５】一方、ポリマーの形成（すなわち重合）お
よび成型を同時に行うものとして、注型または塗布など
の方式があり、ポリマー溶液あるいはオリゴマーからな
る所謂「シロップ」を使用する方式を適用する場合に
は、作業を容易にするためにシロップは低粘度であるこ
とが望ましい。しかし、上記のような、構造を導入した
オリゴマーは、その導入された構造のために粘度が高く
なることが多い。従って、現状では、そのようなオリゴ
マーには希釈剤を混合することで粘度を低くして使用し
ているのがふつうである。この用途に用いる希釈剤とし
ては、共重合体性のエチレン性不飽和モノマー、たとえ
ば単官能（メタ）アクリレート、例えばメチルメタクリ
レートおよびヒドロキシエチル（メタ）アクリレートな
ど、ならびにビニルモノマー、例えばＮ−ビニルピロリ
ドンおよびスチレンなど、がある。
よび成型を同時に行うものとして、注型または塗布など
の方式があり、ポリマー溶液あるいはオリゴマーからな
る所謂「シロップ」を使用する方式を適用する場合に
は、作業を容易にするためにシロップは低粘度であるこ
とが望ましい。しかし、上記のような、構造を導入した
オリゴマーは、その導入された構造のために粘度が高く
なることが多い。従って、現状では、そのようなオリゴ
マーには希釈剤を混合することで粘度を低くして使用し
ているのがふつうである。この用途に用いる希釈剤とし
ては、共重合体性のエチレン性不飽和モノマー、たとえ
ば単官能（メタ）アクリレート、例えばメチルメタクリ
レートおよびヒドロキシエチル（メタ）アクリレートな
ど、ならびにビニルモノマー、例えばＮ−ビニルピロリ
ドンおよびスチレンなど、がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たしたような従来の希釈剤は、それ自身の、というより
も、そのポリマーの、屈折率が低いために、生成ポリマ
ー製光学レンズなどの高屈折率が要求される分野には使
用しにくかったり、屈折率の高いポリマーを与えるも
の、例えばスチレン、では重合速度が遅いという問題が
あり、高い屈折率と速い重合速度を両立した希釈剤とし
て使用できる化合物の提供が望まれていた。
たしたような従来の希釈剤は、それ自身の、というより
も、そのポリマーの、屈折率が低いために、生成ポリマ
ー製光学レンズなどの高屈折率が要求される分野には使
用しにくかったり、屈折率の高いポリマーを与えるも
の、例えばスチレン、では重合速度が遅いという問題が
あり、高い屈折率と速い重合速度を両立した希釈剤とし
て使用できる化合物の提供が望まれていた。
【０００７】
［発明の概要］ ＜要旨＞本発明は、上記の点に解決を与えることを目的
とし、特定の（メタ）アクリル酸エステル、すなわち芳
香族置換基を有するチオエーテルアルコールのエステ
ル、によってこの目的を達成しようとするものである。
とし、特定の（メタ）アクリル酸エステル、すなわち芳
香族置換基を有するチオエーテルアルコールのエステ
ル、によってこの目的を達成しようとするものである。
【０００８】すなわち、本発明によるエチレン性不飽和
モノマーは、芳香族置換基を有するチオエーテルアルコ
ールのアクリル酸またはメタクリル酸のエステルからな
る、ものである。
モノマーは、芳香族置換基を有するチオエーテルアルコ
ールのアクリル酸またはメタクリル酸のエステルからな
る、ものである。
【０００９】＜効果＞本発明による化合物は、低粘度で
あり、重合速度が速く、屈折率の高いポリマーを与える
化合物である。本発明による化合物は、屈折率と重合速
度に関する要求を同時に充足するモノマーとして、ある
いは共重合性希釈剤として使用できるものである。
あり、重合速度が速く、屈折率の高いポリマーを与える
化合物である。本発明による化合物は、屈折率と重合速
度に関する要求を同時に充足するモノマーとして、ある
いは共重合性希釈剤として使用できるものである。
【００１０】［発明の具体的説明］ ＜新規（メタ）アクリレート（定義）＞本発明によるエ
チレン性不飽和化合物は、芳香族置換基を有するチオエ
ーテルアルコールの（メタ）アクリル酸（すなわちアク
リル酸またはメタクリル酸）エステルである。
チレン性不飽和化合物は、芳香族置換基を有するチオエ
ーテルアルコールの（メタ）アクリル酸（すなわちアク
リル酸またはメタクリル酸）エステルである。
【００１１】このエチレン性化合物は、下記一般式
［Ｉ］で表される化合物が好ましい。 Ｐｈ0 −Ｒ1 −Ｓ−Ｒ2 −Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ3 ）＝ＣＨ2 ［Ｉ］ ここで、Ｐｈ0 、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は下記の意味を
持つ。 Ｐｈ0 ：５個までのハロゲン原子で置換されてもよいフ
ェニル基 Ｒ1 ：炭素数０〜６の炭化水素鎖 Ｒ2 ：炭素数６までの炭化水素鎖 Ｒ3 ：水素またはメチル基
［Ｉ］で表される化合物が好ましい。 Ｐｈ0 −Ｒ1 −Ｓ−Ｒ2 −Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ3 ）＝ＣＨ2 ［Ｉ］ ここで、Ｐｈ0 、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は下記の意味を
持つ。 Ｐｈ0 ：５個までのハロゲン原子で置換されてもよいフ
ェニル基 Ｒ1 ：炭素数０〜６の炭化水素鎖 Ｒ2 ：炭素数６までの炭化水素鎖 Ｒ3 ：水素またはメチル基
【００１２】Ｒ1 およびＲ2 は、反応性を持たないかぎ
り、直鎖の炭化水素鎖でも側鎖をもつ炭化水素鎖でも良
いし、環状炭化水素あるいはフェニレン基のような不飽
和の炭化水素基でも良い。また、必要に応じて置換され
た炭化水素鎖であっても良い。
り、直鎖の炭化水素鎖でも側鎖をもつ炭化水素鎖でも良
いし、環状炭化水素あるいはフェニレン基のような不飽
和の炭化水素基でも良い。また、必要に応じて置換され
た炭化水素鎖であっても良い。
【００１３】ベンゼン核に結合するハロゲン原子がある
場合、その位置は、オルト、メタ、パラ、いずれの位置
でもよい。また、置換するハロゲン原子は、塩素、臭素
またはフッ素が好ましい。特に２種類以上のハロゲン原
子で置換されていてもよいが、合成などの面からみて、
１種類のハロゲンで置換したものが有利である。
場合、その位置は、オルト、メタ、パラ、いずれの位置
でもよい。また、置換するハロゲン原子は、塩素、臭素
またはフッ素が好ましい。特に２種類以上のハロゲン原
子で置換されていてもよいが、合成などの面からみて、
１種類のハロゲンで置換したものが有利である。
【００１４】これらの例として具体的には、下記の化合
物をあげることができる。 （１）フェニルメチルチオエチル＝（メタ）アクリレー
ト（Ｐｈ0 ：フェニル、Ｒ1 ：Ｃ1 、Ｒ2 ：Ｃ2 ） （２）p-クロルフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （３）o-クロルフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （４）m-クロルフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （５）p-ブロムフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （６）o-ブロムフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （７）m-ブロムフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （８）p-フルオロフェニルメチルチオエチル＝（メタ）
アクリレート （９）o-フルオロフェニルメチルチオエチル＝（メタ）
アクリレート （１０）m-フルオロフェニルメチルチオエチル＝（メ
タ）アクリレート （１１）2-フェニルチオエチル＝（メタ）アクリレート
（Ｐｈ0 ：フェニル、Ｒ1 ：Ｃ0 、Ｒ2 ：Ｃ2 ） （１２）p-クロルフェニルチオエチル＝（メタ）アクリ
レート （１３）o-ブロムフェニルチオエチル＝（メタ）アクリ
レート （１４）m-フルオロフェニルチオエチル＝（メタ）アク
リレート （１５）フェニルメチルチオブチル＝（メタ）アクリレ
ート （１６）3-フェニルブチルチオエチル＝アクリレート
物をあげることができる。 （１）フェニルメチルチオエチル＝（メタ）アクリレー
ト（Ｐｈ0 ：フェニル、Ｒ1 ：Ｃ1 、Ｒ2 ：Ｃ2 ） （２）p-クロルフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （３）o-クロルフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （４）m-クロルフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （５）p-ブロムフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （６）o-ブロムフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （７）m-ブロムフェニルメチルチオエチル＝（メタ）ア
クリレート （８）p-フルオロフェニルメチルチオエチル＝（メタ）
アクリレート （９）o-フルオロフェニルメチルチオエチル＝（メタ）
アクリレート （１０）m-フルオロフェニルメチルチオエチル＝（メ
タ）アクリレート （１１）2-フェニルチオエチル＝（メタ）アクリレート
（Ｐｈ0 ：フェニル、Ｒ1 ：Ｃ0 、Ｒ2 ：Ｃ2 ） （１２）p-クロルフェニルチオエチル＝（メタ）アクリ
レート （１３）o-ブロムフェニルチオエチル＝（メタ）アクリ
レート （１４）m-フルオロフェニルチオエチル＝（メタ）アク
リレート （１５）フェニルメチルチオブチル＝（メタ）アクリレ
ート （１６）3-フェニルブチルチオエチル＝アクリレート
【００１５】合成法の簡便さの観点より、前記のうちで
好ましい化合物は、フェニルメチルチオエチル＝メタク
リレート、フェニルメチルチオエチル＝アクリレート、
ならびにその核ハロゲン置換体、である。
好ましい化合物は、フェニルメチルチオエチル＝メタク
リレート、フェニルメチルチオエチル＝アクリレート、
ならびにその核ハロゲン置換体、である。
【００１６】＜新規（メタ）アクリレート（合成）＞本
発明による化合物は結合の形式および（または）導入に
関して合目的的な任意の方法で合成することができる。
発明による化合物は結合の形式および（または）導入に
関して合目的的な任意の方法で合成することができる。
【００１７】一般的には、本発明による化合物は、下記
一般式［ＩＩ］により表される芳香族置換基をを有する
チオエーテル結合アルコールと、（メタ）アクリル酸と
を、エステル生成条件で、すなわち（メタ）アクリル酸
をその酸ハライドとして脱ハロゲン化水素反応により、
あるいは（メタ）アクリル酸をその低級アルキルエステ
ルとしてそのチオエーテルアルコールとのエステル交換
により、あるいは（メタ）アクリル酸とチオエーテルア
ルコールとの脱水条件下で直接反応させることによっ
て、あるいは（メタ）アクリル酸を酸無水物としてチオ
エーテルアルコールとのだつ（メタ）アクリル酸反応に
より、すなわち下記一般式［ＩＩＩ］により表される
（メタ）アクリル酸化合物を、公知の方法を用いて反応
させることにより合成することができる。 Ｐｈ0 −Ｒ1 −Ｓ−Ｒ2 −ＯＨ ［ＩＩ］ ここで、Ｐｈ0 、Ｒ1 およびＲ2 は式［Ｉ］と同じであ
る。である。
一般式［ＩＩ］により表される芳香族置換基をを有する
チオエーテル結合アルコールと、（メタ）アクリル酸と
を、エステル生成条件で、すなわち（メタ）アクリル酸
をその酸ハライドとして脱ハロゲン化水素反応により、
あるいは（メタ）アクリル酸をその低級アルキルエステ
ルとしてそのチオエーテルアルコールとのエステル交換
により、あるいは（メタ）アクリル酸とチオエーテルア
ルコールとの脱水条件下で直接反応させることによっ
て、あるいは（メタ）アクリル酸を酸無水物としてチオ
エーテルアルコールとのだつ（メタ）アクリル酸反応に
より、すなわち下記一般式［ＩＩＩ］により表される
（メタ）アクリル酸化合物を、公知の方法を用いて反応
させることにより合成することができる。 Ｐｈ0 −Ｒ1 −Ｓ−Ｒ2 −ＯＨ ［ＩＩ］ ここで、Ｐｈ0 、Ｒ1 およびＲ2 は式［Ｉ］と同じであ
る。である。
【００１８】これら一般式［ＩＩ］で表される化合物の
合成法は、例えばJ.Amer.Chem.Soc., 70(1948),3667 に
記載されている。 ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ−Ｙ ［ＩＩＩ］ ここで、Ｒ3 は式［Ｉ］で定義した通りであり、Ｙは Ｙ ：低級アルコキシ基、好ましくはメトキシ基、水酸
基、ハロゲン原子またはＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ−Ｏ−
である。
合成法は、例えばJ.Amer.Chem.Soc., 70(1948),3667 に
記載されている。 ＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ−Ｙ ［ＩＩＩ］ ここで、Ｒ3 は式［Ｉ］で定義した通りであり、Ｙは Ｙ ：低級アルコキシ基、好ましくはメトキシ基、水酸
基、ハロゲン原子またはＣＨ2 ＝Ｃ（Ｒ3 ）ＣＯ−Ｏ−
である。
【００１９】一般式［ＩＩ］および［ＩＩＩ］で表され
る化合物を反応させて本発明の化合物を得るには、具体
的には、エステル交換の場合は塩基触媒下で、脱水エス
テル化の場合は、酸触媒下または酸触媒不在下の共沸剤
による共沸脱水条件下で、（メタ）アクリル酸ハライド
による合成の場合は脱ハロゲン化水素剤、たとえばピリ
ジン、トリメチルアミンその他の三級アミン、の存在下
で、反応を行えばよい。
る化合物を反応させて本発明の化合物を得るには、具体
的には、エステル交換の場合は塩基触媒下で、脱水エス
テル化の場合は、酸触媒下または酸触媒不在下の共沸剤
による共沸脱水条件下で、（メタ）アクリル酸ハライド
による合成の場合は脱ハロゲン化水素剤、たとえばピリ
ジン、トリメチルアミンその他の三級アミン、の存在下
で、反応を行えばよい。
【００２０】＜新規エチレン性不飽和モノマーの利用＞
本発明による化合物は、それ自身がエチレン性不飽和結
合を有しているところより、（メタ）アクリル酸エステ
ルと同様に、重合させて樹脂として利用することができ
る。この化合物は、またオリゴマー化して、あるいは希
釈剤として、種々のオリゴマーとともに用いることがで
きる。併用するオリゴマーの例としては、たとえば、ポ
リエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、などが
あげられる。これらの市販品としては、アロニックスM-
6100、M-6200、M-7100およびM-8100（以上東亜合成化学
社製）、ビスコート 700、3700（以上大阪有機社製）な
どのポリエステルアクリレート、ならびにリポキシ SP-
1506、 SP-2500、 SP-4060（以上昭和高分子社製）、ビ
スコート 540（大阪有機社製）、エポキシエステル 300
2A（共栄油脂社製）、デナコールDM-851、DM-811（長瀬
産業社製）などのエポキシアクリレート、アートレジン
UN-6060P（根上工業社製）、およびＮＫエステル U-4H
A、U-108A（新中村化学社製）などのウレタンアクリレ
ート、などがあげられる。
本発明による化合物は、それ自身がエチレン性不飽和結
合を有しているところより、（メタ）アクリル酸エステ
ルと同様に、重合させて樹脂として利用することができ
る。この化合物は、またオリゴマー化して、あるいは希
釈剤として、種々のオリゴマーとともに用いることがで
きる。併用するオリゴマーの例としては、たとえば、ポ
リエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、などが
あげられる。これらの市販品としては、アロニックスM-
6100、M-6200、M-7100およびM-8100（以上東亜合成化学
社製）、ビスコート 700、3700（以上大阪有機社製）な
どのポリエステルアクリレート、ならびにリポキシ SP-
1506、 SP-2500、 SP-4060（以上昭和高分子社製）、ビ
スコート 540（大阪有機社製）、エポキシエステル 300
2A（共栄油脂社製）、デナコールDM-851、DM-811（長瀬
産業社製）などのエポキシアクリレート、アートレジン
UN-6060P（根上工業社製）、およびＮＫエステル U-4H
A、U-108A（新中村化学社製）などのウレタンアクリレ
ート、などがあげられる。
【００２１】本発明による化合物は、既存の反応性希釈
剤と併用することができる。併用できる既存の希釈剤の
具体例は、ビニルモノマー、たとえばスチレン、ビニル
トルエン、Ｎ−ビニルピロリドンおよび酢酸ビニル、な
らびに単官能アクリレート、たとえばメチルメタクリレ
ート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエ
チルアクリレートおよびイソボルニルアクリレート、な
どがあげられる。
剤と併用することができる。併用できる既存の希釈剤の
具体例は、ビニルモノマー、たとえばスチレン、ビニル
トルエン、Ｎ−ビニルピロリドンおよび酢酸ビニル、な
らびに単官能アクリレート、たとえばメチルメタクリレ
ート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエ
チルアクリレートおよびイソボルニルアクリレート、な
どがあげられる。
【００２２】本発明による化合物をそれ自身の重合体と
して利用する場合には、公知のラジカル重合可能なモノ
マーと共重合させて用いることももちろん可能である。
して利用する場合には、公知のラジカル重合可能なモノ
マーと共重合させて用いることももちろん可能である。
【００２３】ラジカル重合可能なモノマーとしては、
（イ）（メタ）アクリル酸エステル、例えばジエチレン
グリコール＝ジ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパン＝トリ（メタ）アクリレート、2,2'- ビス（4-
（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）プロパ
ン＝（メタ）アクリレート、2,2'- ビス（4-（メタ）ア
クリロイルオキシエトキシ-3,5- ジブロモフェニル）プ
ロパン＝（メタ）アクリレートおよびビス（メタ）アク
リロイルオキシエチルチオキシリレン＝（メタ）アクリ
レート等、（ロ）アリルモノマー、例えばジエチレング
リコール＝ビスアリルカーボネート、ジアリルフタレー
ト等、（ハ）ビニルモノマー、例えばジビニルベンゼン
等、があげられる。
（イ）（メタ）アクリル酸エステル、例えばジエチレン
グリコール＝ジ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパン＝トリ（メタ）アクリレート、2,2'- ビス（4-
（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）プロパ
ン＝（メタ）アクリレート、2,2'- ビス（4-（メタ）ア
クリロイルオキシエトキシ-3,5- ジブロモフェニル）プ
ロパン＝（メタ）アクリレートおよびビス（メタ）アク
リロイルオキシエチルチオキシリレン＝（メタ）アクリ
レート等、（ロ）アリルモノマー、例えばジエチレング
リコール＝ビスアリルカーボネート、ジアリルフタレー
ト等、（ハ）ビニルモノマー、例えばジビニルベンゼン
等、があげられる。
【００２４】本発明による化合物と各種オリゴマーとの
モノマー混合物は、公知のいずれの方法を用いても重合
させることができるが、紫外線などのエネルギー線を用
いると、より早く重合させることができる場合が多い。
すなわち、モノマー混合物に光重合開始剤を加えて紫外
線を照射するか、さらに熱重合開始剤を加えておき、紫
外線照射ならびに加熱を併用することにより、より短時
間で重合を完結させることが可能である。
モノマー混合物は、公知のいずれの方法を用いても重合
させることができるが、紫外線などのエネルギー線を用
いると、より早く重合させることができる場合が多い。
すなわち、モノマー混合物に光重合開始剤を加えて紫外
線を照射するか、さらに熱重合開始剤を加えておき、紫
外線照射ならびに加熱を併用することにより、より短時
間で重合を完結させることが可能である。
【００２５】このように用いる光重合開始剤の例として
は、2,4,6-トリメチルベンゾイル＝ジフェニルフォスフ
ィンオキサイド、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、および1-ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、等があげられる。
は、2,4,6-トリメチルベンゾイル＝ジフェニルフォスフ
ィンオキサイド、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、および1-ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、等があげられる。
【００２６】また、熱重合開始剤の例としては、（イ）
有機過酸化物、例えば過酸化ベンゾイル、t-ブチルペル
オキシイソブチレート、t-ブチルペルオキシ-2- エチル
ヘキサノエート等、ならびに（ロ）無機過酸化物、例え
ば過酸化水素、過硫酸カリウムまたはアンモニウム、
（ハ）ハイドロパーオキサイド、例えばクメンハイドロ
パーオキサイド、（ニ）アゾ化合物、例えば2,2'- アゾ
ビスイソブチロニトリル、2,2'- アゾビス（2,4-ジメチ
ルバレロニトリル）等、があげられる。過酸化物は還元
剤と組み合わせて、レドックス系として使用することも
できる。
有機過酸化物、例えば過酸化ベンゾイル、t-ブチルペル
オキシイソブチレート、t-ブチルペルオキシ-2- エチル
ヘキサノエート等、ならびに（ロ）無機過酸化物、例え
ば過酸化水素、過硫酸カリウムまたはアンモニウム、
（ハ）ハイドロパーオキサイド、例えばクメンハイドロ
パーオキサイド、（ニ）アゾ化合物、例えば2,2'- アゾ
ビスイソブチロニトリル、2,2'- アゾビス（2,4-ジメチ
ルバレロニトリル）等、があげられる。過酸化物は還元
剤と組み合わせて、レドックス系として使用することも
できる。
【００２７】これらの重合開始剤の配合割合は、重合性
モノマー 100重量部に対して、0.005 〜10重量部、好ま
しくは0.1 〜3 重量部、である。
モノマー 100重量部に対して、0.005 〜10重量部、好ま
しくは0.1 〜3 重量部、である。
【００２８】
【実施例】以下の実施例は、本発明による化合物を具体
的に説明するためのものである。特に示さない限り、
「部」は重量部を指す。
的に説明するためのものである。特に示さない限り、
「部」は重量部を指す。
【００２９】製造例／チオエーテルアルコールの合成 撹拌機、温度計、滴下ロート、冷却管を備え付けた３リ
ットル四つ口フラスコに、メルカプトエタノール 197
部、メタノール1000部、純水 500部、および水酸化ナト
リウム92.4部を入れ、撹拌下、溶液の温度を60℃以下に
保ちながら、ベンジルクロライド 266部を滴下ロートよ
り滴下した。滴下終了後、さらに加熱して60℃に保ちな
がらさらに１時間撹拌したのち、放冷する。トルエン 5
00部を加えたあと、分液ロート内で5%水酸化ナトリウム
水溶液にて、次いで純水にて洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過したあと、溶媒を減圧下で留去して、
生成物（2-ベンジルチオエタノール）を得た。
ットル四つ口フラスコに、メルカプトエタノール 197
部、メタノール1000部、純水 500部、および水酸化ナト
リウム92.4部を入れ、撹拌下、溶液の温度を60℃以下に
保ちながら、ベンジルクロライド 266部を滴下ロートよ
り滴下した。滴下終了後、さらに加熱して60℃に保ちな
がらさらに１時間撹拌したのち、放冷する。トルエン 5
00部を加えたあと、分液ロート内で5%水酸化ナトリウム
水溶液にて、次いで純水にて洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、濾過したあと、溶媒を減圧下で留去して、
生成物（2-ベンジルチオエタノール）を得た。
【００３０】実施例１ ２リットル四つ口フラスコに、2-ベンジルチオエタノー
ル 312部、メチルメタクリレート 700部、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル 0.4部およびジエチルヒドロキシ
アミン 4部、とを入れ、触媒としてテトラ-n- ブトキシ
エタン10部を加えた。撹拌下、90〜 100℃で生成したメ
タノールをメチルメタクリレートと共沸除去しながら５
時間反応させた。
ル 312部、メチルメタクリレート 700部、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル 0.4部およびジエチルヒドロキシ
アミン 4部、とを入れ、触媒としてテトラ-n- ブトキシ
エタン10部を加えた。撹拌下、90〜 100℃で生成したメ
タノールをメチルメタクリレートと共沸除去しながら５
時間反応させた。
【００３１】反応終了後、過剰のメチルメタクリレート
を減圧下で留去し、トルエン 500部を加えたあと、5%塩
酸水溶液で酸洗、5%水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ
洗、純水で水洗した。ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル 0.4部を加え、溶媒を減圧留去した。
を減圧下で留去し、トルエン 500部を加えたあと、5%塩
酸水溶液で酸洗、5%水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ
洗、純水で水洗した。ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル 0.4部を加え、溶媒を減圧留去した。
【００３２】得られた生成物の核磁気共鳴スペクトルは
図１に示す通りである。これより、生成物が2-ベンジル
チオエチル＝メタクリレートであることが確認できた。
この生成物は、無色透明であり、粘度は8.5cpsであっ
た。また、モノマー状態での屈折率は1.54で、スチレン
モノマーとほぼ同等であり、従来の反応性（メタ）アク
リレート（屈折率の範囲はおおよそ1.41〜1.49である）
に比べて、そのポリマーも優れた屈折率を持つものと期
待される。
図１に示す通りである。これより、生成物が2-ベンジル
チオエチル＝メタクリレートであることが確認できた。
この生成物は、無色透明であり、粘度は8.5cpsであっ
た。また、モノマー状態での屈折率は1.54で、スチレン
モノマーとほぼ同等であり、従来の反応性（メタ）アク
リレート（屈折率の範囲はおおよそ1.41〜1.49である）
に比べて、そのポリマーも優れた屈折率を持つものと期
待される。
【００３３】応用例１（溶解性） 実施例１で得られた2-ベンジルチオエチルメタクリレー
ト60部、ウレタンアクリレート（根上工業社製「アート
レジンUN-6060P」）30部を加熱して、均一混合した後放
冷した。この際の溶解性は良好であり、室温で１カ月放
置した後も相分離、析出は認められなかった。
ト60部、ウレタンアクリレート（根上工業社製「アート
レジンUN-6060P」）30部を加熱して、均一混合した後放
冷した。この際の溶解性は良好であり、室温で１カ月放
置した後も相分離、析出は認められなかった。
【００３４】応用例２（重合挙動） 前記混合物30部にラジカル重合開始剤として2,4,6-トリ
メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
（ＢＡＳＦ社製「ルシリンT.P.O 」） 0.2部を加え、熱
分析装置UV-DSC（セイコー電子社製PDC-121 ）にて重合
発熱を調べた。波長 365nmの光を200mW ／cm2 の強度で
照射したところ、照射後0.48分後に大きな発熱ピークが
認められ、すみやかに重合することが確認された。ま
た、スチレン20部を用い、同様にウレタンアクリレート
UN-6060P 10 部およびルシリンT.P.O 0.2 部を均一混合
して、同様の測定を行ったが、照射後0.45分後にわずか
な発熱が認められたものの、重合はほとんど進行しなか
った。
メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
（ＢＡＳＦ社製「ルシリンT.P.O 」） 0.2部を加え、熱
分析装置UV-DSC（セイコー電子社製PDC-121 ）にて重合
発熱を調べた。波長 365nmの光を200mW ／cm2 の強度で
照射したところ、照射後0.48分後に大きな発熱ピークが
認められ、すみやかに重合することが確認された。ま
た、スチレン20部を用い、同様にウレタンアクリレート
UN-6060P 10 部およびルシリンT.P.O 0.2 部を均一混合
して、同様の測定を行ったが、照射後0.45分後にわずか
な発熱が認められたものの、重合はほとんど進行しなか
った。
【００３５】
【発明の効果】本発明による新規化合物が低粘度であ
り、屈折率が高い上に、重合速度が早いことは［発明の
概要］の項において前記したところである。
り、屈折率が高い上に、重合速度が早いことは［発明の
概要］の項において前記したところである。
【図１】実施例１にて製造した、2-ベンジルチオエチル
メタクリレートの1 Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
メタクリレートの1 Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
Claims (2)
- 【請求項１】芳香族置換基を有するチオエーテルアルコ
ールのアクリル酸またはメタクリル酸のエステルからな
る、エチレン性不飽和モノマー。 - 【請求項２】下記の式［Ｉ］で表される、請求項１に記
載のエチレン性不飽和モノマー。 Ｐｈ0 −Ｒ1 −Ｓ−Ｒ2 −Ｏ−ＣＯ−Ｃ（Ｒ3 ）＝ＣＨ2 ［Ｉ］ ここで、Ｐｈ0 、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は下記の意味を
持つ。 Ｐｈ0 ：５個までのハロゲン原子で置換されてもよいフ
ェニル基 Ｒ1 ：炭素数０〜６の炭化水素鎖 Ｒ2 ：炭素数６までの炭化水素鎖 Ｒ3 ：水素またはメチル基
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13181193A JPH06340616A (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 新規なエチレン性不飽和モノマー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13181193A JPH06340616A (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 新規なエチレン性不飽和モノマー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06340616A true JPH06340616A (ja) | 1994-12-13 |
Family
ID=15066666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13181193A Pending JPH06340616A (ja) | 1993-06-02 | 1993-06-02 | 新規なエチレン性不飽和モノマー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06340616A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006160824A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| JP2009127030A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Fujifilm Corp | インクジェット記録用インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
-
1993
- 1993-06-02 JP JP13181193A patent/JPH06340616A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006160824A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| JP2009127030A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Fujifilm Corp | インクジェット記録用インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040120 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |