JPH06350176A - レーザ光の高調波発生装置 - Google Patents
レーザ光の高調波発生装置Info
- Publication number
- JPH06350176A JPH06350176A JP13816193A JP13816193A JPH06350176A JP H06350176 A JPH06350176 A JP H06350176A JP 13816193 A JP13816193 A JP 13816193A JP 13816193 A JP13816193 A JP 13816193A JP H06350176 A JPH06350176 A JP H06350176A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- laser light
- harmonic
- filter
- convex lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 44
- 239000012466 permeate Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フィルタの反射光が非線形光学素子にそのま
ま入射することがなく、高い効率で高調波を発生するこ
とができるレーザ光の高調波発生装置を提供する。 【構成】 平凸レンズ２と平凸レンズ型フィルタ４とを
互いに凸面を対向させて所定の間隔で設け、平凸レンズ
２の焦点Ｓに非線形光学素子３を設ける。非線形光学素
子３は、高エネルギ密度で入射したレーザ光の基本波α
を高効率で第２高調波βに変換する。基本波αは凸面の
皮膜４ｂで反射され発散する。第２高調波βは皮膜４ｂ
を透過して平凸レンズ４ａに入射し、コリメートされ
る。
ま入射することがなく、高い効率で高調波を発生するこ
とができるレーザ光の高調波発生装置を提供する。 【構成】 平凸レンズ２と平凸レンズ型フィルタ４とを
互いに凸面を対向させて所定の間隔で設け、平凸レンズ
２の焦点Ｓに非線形光学素子３を設ける。非線形光学素
子３は、高エネルギ密度で入射したレーザ光の基本波α
を高効率で第２高調波βに変換する。基本波αは凸面の
皮膜４ｂで反射され発散する。第２高調波βは皮膜４ｂ
を透過して平凸レンズ４ａに入射し、コリメートされ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はレーザ光の高調波発生
装置に関し、特に、レーザ光の基本波を高調波に変換す
る非線形光学素子と、その非線形光学素子を透過したレ
ーザ光のうち基本波を反射し、高調波を透過させるフィ
ルタとを備えたレーザ光の高調波発生装置に関する。
装置に関し、特に、レーザ光の基本波を高調波に変換す
る非線形光学素子と、その非線形光学素子を透過したレ
ーザ光のうち基本波を反射し、高調波を透過させるフィ
ルタとを備えたレーザ光の高調波発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、レーザ光による加工やマーキ
ングにおいてレーザ光の基本波を第２高調波に変換する
高調波発生装置が用いられている。これは、基本波より
波長が短い第２高調波を使用したほうが小さな光スポッ
トを得ることができ、微細な加工を行なうことができる
からである。
ングにおいてレーザ光の基本波を第２高調波に変換する
高調波発生装置が用いられている。これは、基本波より
波長が短い第２高調波を使用したほうが小さな光スポッ
トを得ることができ、微細な加工を行なうことができる
からである。
【０００３】図２は従来の高調波発生装置３１の構成お
よびその使用状態を示す正面図である。この高調波発生
装置３１にあっては、その光軸３１ａにレーザ光の基本
波αを第２高調波βにある効率Ｅで変換する非線形光学
素子３２と、レーザ光の基本波αを反射し、第２高調波
βを透過させるフィルタ３３とが設けられている。
よびその使用状態を示す正面図である。この高調波発生
装置３１にあっては、その光軸３１ａにレーザ光の基本
波αを第２高調波βにある効率Ｅで変換する非線形光学
素子３２と、レーザ光の基本波αを反射し、第２高調波
βを透過させるフィルタ３３とが設けられている。
【０００４】しかして、高調波発生装置３１の光軸３１
ａにレーザ光源３４の光軸３４ａを合わせ、レーザ光源
３４からレーザ光を出射させると、レーザ光の基本波α
は非線形光学素子３２によって基本波αおよび第２高調
波βに変換され、そのうち第２高調波βのみがフィルタ
３３を透過する。第２高調波βは上述のとおり加工やマ
ーキングに供される。
ａにレーザ光源３４の光軸３４ａを合わせ、レーザ光源
３４からレーザ光を出射させると、レーザ光の基本波α
は非線形光学素子３２によって基本波αおよび第２高調
波βに変換され、そのうち第２高調波βのみがフィルタ
３３を透過する。第２高調波βは上述のとおり加工やマ
ーキングに供される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな高調波発生装置３１にあっては、フィルタ３３で反
射したレーザ光の基本波αが非線形光学素子３２に再び
入射するため、反射光のレーザエネルギによっては非線
形光学素子３２が破損したり、出力が不安定になるとい
う問題があった。
うな高調波発生装置３１にあっては、フィルタ３３で反
射したレーザ光の基本波αが非線形光学素子３２に再び
入射するため、反射光のレーザエネルギによっては非線
形光学素子３２が破損したり、出力が不安定になるとい
う問題があった。
【０００６】また、図３に示すように、レーザ光のエネ
ルギ密度Ｐを小さくすると、非線形光学素子３２の変換
効率Ｅが小さくなるため、エネルギ密度が比較的小さな
レーザ光を使用する場合はエネルギの利用効率が悪かっ
た。
ルギ密度Ｐを小さくすると、非線形光学素子３２の変換
効率Ｅが小さくなるため、エネルギ密度が比較的小さな
レーザ光を使用する場合はエネルギの利用効率が悪かっ
た。
【０００７】それゆえに、この発明の主たる目的は、フ
ィルタの反射光が非線形光学素子にそのまま入射するこ
とを防止することができ、エネルギ密度が小さなレーザ
光からも効率よく高調波を発生することができるレーザ
光の高調波発生装置を提供することである。
ィルタの反射光が非線形光学素子にそのまま入射するこ
とを防止することができ、エネルギ密度が小さなレーザ
光からも効率よく高調波を発生することができるレーザ
光の高調波発生装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明はレーザ光源か
ら出射されたレーザ光の基本波を高調波に変換する非線
形光学素子と、該非線形光学素子を透過したレーザ光の
うち基本波を反射し、高調波を透過させるフィルタとを
備えたレーザ光の高調波発生装置において、前記フィル
タは基本波を発散反射し、高調波を透過させる凸面形状
をしたレンズであり、前記レーザ光源と前記非線形光学
素子との間に設けられ、前記レーザ光を集光して前記非
線形光学素子に入射させる集光レンズを含めて構成され
る。
ら出射されたレーザ光の基本波を高調波に変換する非線
形光学素子と、該非線形光学素子を透過したレーザ光の
うち基本波を反射し、高調波を透過させるフィルタとを
備えたレーザ光の高調波発生装置において、前記フィル
タは基本波を発散反射し、高調波を透過させる凸面形状
をしたレンズであり、前記レーザ光源と前記非線形光学
素子との間に設けられ、前記レーザ光を集光して前記非
線形光学素子に入射させる集光レンズを含めて構成され
る。
【０００９】
【作用】この発明に係るレーザ光の高調波発生装置にあ
っては、フィルタが凸面形状をしたレンズであるので、
フィルタの反射光は凸面の形状に応じた発散光となる。
したがって、フィルタの反射光がそのまま非線形光学素
子に入射することを防止することができ、フィルタの反
射光によって非線形光学素子が破損したり、出力が不安
定になるのを防止することができる。
っては、フィルタが凸面形状をしたレンズであるので、
フィルタの反射光は凸面の形状に応じた発散光となる。
したがって、フィルタの反射光がそのまま非線形光学素
子に入射することを防止することができ、フィルタの反
射光によって非線形光学素子が破損したり、出力が不安
定になるのを防止することができる。
【００１０】また、レーザ光源と非線形光学素子の間に
集光レンズを設けたので、この集光レンズによりレーザ
光のエネルギ密度を増大させて非線形光学素子に照射す
ることができる。したがって、エネルギ密度が小さなレ
ーザ光からも効率よく高調波を発生することができる。
集光レンズを設けたので、この集光レンズによりレーザ
光のエネルギ密度を増大させて非線形光学素子に照射す
ることができる。したがって、エネルギ密度が小さなレ
ーザ光からも効率よく高調波を発生することができる。
【００１１】
【実施例】図１はこの発明の一実施例による高調波発生
装置１の構成およびその使用状態を示す正面図である。
この高調波発生装置１は、レーザ光を集光するための平
凸レンズ２とレーザ光の基本波αをある効率Ｅで第２高
調波βに変換する非線形光学素子３（たとえば、ＫＴ
Ｐ；ＫＴｉＯＰＯ4 ）と、平凸レンズ型フィルタ４とを
含む。平凸レンズ型フィルタ４は、平凸レンズ４ａの凸
面にレーザ光の基本波αを反射し、第２高調波βを透過
させる光学的性質を有する皮膜４ｂをコーティングした
ものである。
装置１の構成およびその使用状態を示す正面図である。
この高調波発生装置１は、レーザ光を集光するための平
凸レンズ２とレーザ光の基本波αをある効率Ｅで第２高
調波βに変換する非線形光学素子３（たとえば、ＫＴ
Ｐ；ＫＴｉＯＰＯ4 ）と、平凸レンズ型フィルタ４とを
含む。平凸レンズ型フィルタ４は、平凸レンズ４ａの凸
面にレーザ光の基本波αを反射し、第２高調波βを透過
させる光学的性質を有する皮膜４ｂをコーティングした
ものである。
【００１２】平凸レンズ２と平凸レンズ型フィルタ４
は、ともに光軸を高調波発生装置１の光軸１に合わせて
平凸レンズ２の焦点距離以上の間隔で設けられており、
平凸レンズ２の凸面と平凸レンズ型フィルタ４の凸面は
互いに対向している。つまり、平凸レンズ２と平凸レン
ズ型フィルタ４はケプラー型のビームエキスパンダを構
成している。また、非線形光学素子３は、平凸レンズ２
の焦点Ｓを含むようにして設けられる。
は、ともに光軸を高調波発生装置１の光軸１に合わせて
平凸レンズ２の焦点距離以上の間隔で設けられており、
平凸レンズ２の凸面と平凸レンズ型フィルタ４の凸面は
互いに対向している。つまり、平凸レンズ２と平凸レン
ズ型フィルタ４はケプラー型のビームエキスパンダを構
成している。また、非線形光学素子３は、平凸レンズ２
の焦点Ｓを含むようにして設けられる。
【００１３】しかして、高調波発生装置１の光軸１ａに
レーザ光源５（たとえば、連続発振型ＹＡＧレーザ）の
光軸５ａを合わせ、レーザ光源５からレーザ光を出射さ
せると、レーザ光は平凸レンズ２によって集光され、高
いエネルギ密度で非線形光学素子３に照射される。した
がって、レーザ光の基本波αは高い効率Ｅで第２高調波
レーザに変換される。
レーザ光源５（たとえば、連続発振型ＹＡＧレーザ）の
光軸５ａを合わせ、レーザ光源５からレーザ光を出射さ
せると、レーザ光は平凸レンズ２によって集光され、高
いエネルギ密度で非線形光学素子３に照射される。した
がって、レーザ光の基本波αは高い効率Ｅで第２高調波
レーザに変換される。
【００１４】非線形光学素子３を透過した基本波αおよ
び第２高調波βは、拡がりながら平凸レンズ型フィルタ
４の凸面に照射される。このうち基本波αは凸面の皮膜
４ｂで反射され発散する。したがって、反射した基本波
αは非線形光学素子３にほとんど入射しない。一方、第
２高調波βは皮膜４ｂを透過して平凸レンズ型４ａに入
射し、平凸レンズ４ａによってコリメートされる。コリ
メートされた第２高調波βは、加工やマーキングに供さ
れる。
び第２高調波βは、拡がりながら平凸レンズ型フィルタ
４の凸面に照射される。このうち基本波αは凸面の皮膜
４ｂで反射され発散する。したがって、反射した基本波
αは非線形光学素子３にほとんど入射しない。一方、第
２高調波βは皮膜４ｂを透過して平凸レンズ型４ａに入
射し、平凸レンズ４ａによってコリメートされる。コリ
メートされた第２高調波βは、加工やマーキングに供さ
れる。
【００１５】なお、この実施例ではこの発明を第２高調
波βを発生する高調波発生装置１に適用したが、第４高
調波を発生する高調波発生装置にも適用できる。ただ
し、その場合は、それに応じた光学的性質の非線形光学
素子３（たとえば、ＢＢＯ；β−ＢａＢ2 Ｏ4 ）や皮膜
４ｂを用いる必要がある。
波βを発生する高調波発生装置１に適用したが、第４高
調波を発生する高調波発生装置にも適用できる。ただ
し、その場合は、それに応じた光学的性質の非線形光学
素子３（たとえば、ＢＢＯ；β−ＢａＢ2 Ｏ4 ）や皮膜
４ｂを用いる必要がある。
【００１６】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、フィ
ルタが凸面形状をしたレンズであるので、フィルタの反
射光は凸面の形状に応じた発散光となる。したがって、
従来のようにフィルタの反射光がそのまま非線形光学素
子に入射することがなく、フィルタの反射光によって非
線形光学素子が破損したり、出力が不安定になることが
ない。
ルタが凸面形状をしたレンズであるので、フィルタの反
射光は凸面の形状に応じた発散光となる。したがって、
従来のようにフィルタの反射光がそのまま非線形光学素
子に入射することがなく、フィルタの反射光によって非
線形光学素子が破損したり、出力が不安定になることが
ない。
【００１７】また、レーザ光源と非線形光学素子の間に
集光レンズを設けるので、非線形光学素子に入射するレ
ーザ光のエネルギ密度を増大させることができる。した
がって、エネルギ密度が小さなレーザ光からも高い効率
で高調波を発生することができる。
集光レンズを設けるので、非線形光学素子に入射するレ
ーザ光のエネルギ密度を増大させることができる。した
がって、エネルギ密度が小さなレーザ光からも高い効率
で高調波を発生することができる。
【図１】この発明の一実施例による高調波発生装置の構
成およびその使用状態を示す正面図である。
成およびその使用状態を示す正面図である。
【図２】従来の高調波発生装置の構成およびその使用状
態を示す正面図である。
態を示す正面図である。
【図３】非線形光学素子の変換効率Ｅのレーザ光のエネ
ルギ密度Ｐ依存性を示す図である。
ルギ密度Ｐ依存性を示す図である。
１ 高調波発生装置 ２ 平凸レンズ（集光レンズ） ３ 非線形光学素子 ４ 平凸レンズ型フィルタ ５ レーザ光源 α 基本波 β 第２高調波
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザ光源から出射されたレーザ光の基
本波を高調波に変換する非線形光学素子と、該非線形光
学素子を透過したレーザ光のうち基本波を反射し、高調
波を透過させるフィルタとを備えたレーザ光の高調波発
生装置において、 前記フィルタは基本波を発散反射し、高調波を透過させ
る凸面形状をしたレンズであり、 前記レーザ光源と前記非線形光学素子との間に設けら
れ、前記レーザ光を集光して前記非線形光学素子に入射
させる集光レンズを含むことを特徴とする、レーザ光の
高調波発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13816193A JPH06350176A (ja) | 1993-06-10 | 1993-06-10 | レーザ光の高調波発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13816193A JPH06350176A (ja) | 1993-06-10 | 1993-06-10 | レーザ光の高調波発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06350176A true JPH06350176A (ja) | 1994-12-22 |
Family
ID=15215452
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13816193A Withdrawn JPH06350176A (ja) | 1993-06-10 | 1993-06-10 | レーザ光の高調波発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06350176A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010010607A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Seiko Epson Corp | レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置 |
-
1993
- 1993-06-10 JP JP13816193A patent/JPH06350176A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010010607A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Seiko Epson Corp | レーザ光源装置、プロジェクタ、モニタ装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07507901A (ja) | ハイパワー小型のダイオードポンプ型チューナブルレーザ | |
| JPH0511287A (ja) | レーザー光波長変換装置 | |
| JPH0412039B2 (ja) | ||
| JPH0542382A (ja) | Ｙａｇレーザの高調波を用いたレーザ加工方法 | |
| JPH06350176A (ja) | レーザ光の高調波発生装置 | |
| JPH02126242A (ja) | 光波長変換装置 | |
| JP2001042370A (ja) | 波長変換装置 | |
| JPH03166531A (ja) | ファイバー型光波長変換装置 | |
| JP2751119B2 (ja) | 平行光作成装置 | |
| JPH01274487A (ja) | 光波長変換装置 | |
| JPH01128484A (ja) | 高効率第二高調波発生レーザ発振器 | |
| KR100458677B1 (ko) | 유도 브릴루앙 산란 및 내부 공진기형 2차 조화파 발생을이용한 라만 레이저 발진 장치 및 방법 | |
| JPH0374516B2 (ja) | ||
| JPH05341334A (ja) | 波長変換装置 | |
| JPH0315832A (ja) | 高調波発生装置 | |
| JPH0318833A (ja) | 高調波発生素子および高調波発生装置 | |
| JPH02195332A (ja) | 高調波発生装置 | |
| JPH08307017A (ja) | レーザ装置 | |
| JP2004219911A (ja) | 高調波発生装置 | |
| TWI470887B (zh) | 雷射倍頻模組 | |
| JPH0241607Y2 (ja) | ||
| JPH0389574A (ja) | 第２次高調波発生装置 | |
| JPS58200213A (ja) | 多光路レ−ザ−照射装置 | |
| KR100219580B1 (ko) | 단파장광원장치 | |
| JPH11326969A (ja) | レーザ光の波長変換装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000905 |