JPH0635211Y2 - 平行スリット光の投射装置 - Google Patents
平行スリット光の投射装置Info
- Publication number
- JPH0635211Y2 JPH0635211Y2 JP1988032139U JP3213988U JPH0635211Y2 JP H0635211 Y2 JPH0635211 Y2 JP H0635211Y2 JP 1988032139 U JP1988032139 U JP 1988032139U JP 3213988 U JP3213988 U JP 3213988U JP H0635211 Y2 JPH0635211 Y2 JP H0635211Y2
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- Japan
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- light
- slit light
- parallel
- slit
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はスリット光相互の間隔を調節することの可能な
2つの平行なスリット光の投射装置に関する。本装置
は、例えば基板上に実装された電子部品の実装状態並び
に実装位置を検査するシステムにおいて利用可能であ
る。
2つの平行なスリット光の投射装置に関する。本装置
は、例えば基板上に実装された電子部品の実装状態並び
に実装位置を検査するシステムにおいて利用可能であ
る。
近年微細化の進んでいる基板上の実装電子部品の実装状
態を検査するための投光法としては、検査対象部品の斜
め、或いは上方よりスリット光を投射する、いわゆる光
切断法が一般的である。これは、第3図に図示する如く
部品10aに対して2枚、又は複数枚のスリット光12,14を
投射して、投射されたスリット光の破断位置、或いは特
定の線分位置により部品10aの一面或いは複数の面を認
識し、部品の姿勢若しくは位置を検出するものである。
この様な光切断法に使用されるスリット光投射装置とし
ては、第5図に示す様に、光源20から発生する光を遮へ
い板16の2つのスリット18a,18bから投射する装置や、
第6図に示す様に、例えば半導体レーザ発生器22a,22b
から発せられたレーザ光をシリンドリカルレンズ24を用
いて2つの扇形に拡がったスリット光12,14を投射する
装置がある。この場合、シリンドリカルレンズ24は矢視
線Vの方向から見た場合にD形状を成している。
態を検査するための投光法としては、検査対象部品の斜
め、或いは上方よりスリット光を投射する、いわゆる光
切断法が一般的である。これは、第3図に図示する如く
部品10aに対して2枚、又は複数枚のスリット光12,14を
投射して、投射されたスリット光の破断位置、或いは特
定の線分位置により部品10aの一面或いは複数の面を認
識し、部品の姿勢若しくは位置を検出するものである。
この様な光切断法に使用されるスリット光投射装置とし
ては、第5図に示す様に、光源20から発生する光を遮へ
い板16の2つのスリット18a,18bから投射する装置や、
第6図に示す様に、例えば半導体レーザ発生器22a,22b
から発せられたレーザ光をシリンドリカルレンズ24を用
いて2つの扇形に拡がったスリット光12,14を投射する
装置がある。この場合、シリンドリカルレンズ24は矢視
線Vの方向から見た場合にD形状を成している。
然しながら、上述の装置により生成される2つのスリッ
ト光12と14との間隔lは一定であって変向が容易ではな
い。例えば第4図に示す様な小さな電子部品10bの検査
に対しては2つのスリット光12,14の間隔lが大きすぎ
て有効に作用しない。最近の実装電子部品は前述の如く
小さくなってきてはいるが、中には大きいサイズの部品
もあり、その際最小寸法部品に合わせた間隔lに設定す
ると、前記の大きな部品の傾き姿勢の検査等においては
検査誤差が大きくなってしまう。
ト光12と14との間隔lは一定であって変向が容易ではな
い。例えば第4図に示す様な小さな電子部品10bの検査
に対しては2つのスリット光12,14の間隔lが大きすぎ
て有効に作用しない。最近の実装電子部品は前述の如く
小さくなってきてはいるが、中には大きいサイズの部品
もあり、その際最小寸法部品に合わせた間隔lに設定す
ると、前記の大きな部品の傾き姿勢の検査等においては
検査誤差が大きくなってしまう。
従って本考案は平行なスリット光の間隔を、投光対象の
寸法に対応して可変となる様に構成した投射装置の提供
を目的とする。
寸法に対応して可変となる様に構成した投射装置の提供
を目的とする。
上記目的に鑑みて本考案は、左右にスリット光の投光手
段を配設し、互いに交鎖角度を有するように設けられる
と共に、前記各投光手段から投光される各スリット光の
入射角度が夫々前記交鎖角度の2分の1の角度になるよ
うに配設され、該2つのスリット光を互いに平行であっ
て同一の方向に反射させる2つの反射面を有する反射装
置と、該反射装置を前記の交差角度を2分する直線方向
に移動並びに停止させることの可能な駆動装置と、被検
査対象物の寸法情報に応じて反射平行スリット光の間隔
を設定する間隔設定部と、この設定された間隔に応じて
上記駆動装置を制御する制御部とを具備する平行スリッ
ト光の投射装置を提供する。
段を配設し、互いに交鎖角度を有するように設けられる
と共に、前記各投光手段から投光される各スリット光の
入射角度が夫々前記交鎖角度の2分の1の角度になるよ
うに配設され、該2つのスリット光を互いに平行であっ
て同一の方向に反射させる2つの反射面を有する反射装
置と、該反射装置を前記の交差角度を2分する直線方向
に移動並びに停止させることの可能な駆動装置と、被検
査対象物の寸法情報に応じて反射平行スリット光の間隔
を設定する間隔設定部と、この設定された間隔に応じて
上記駆動装置を制御する制御部とを具備する平行スリッ
ト光の投射装置を提供する。
反射装置を2つの反射面の交鎖角度を2分する方向に移
動させると、左右の投光手段から投光される各スリット
光の入射角度は変化せず、各反射面上の入射点(線)の
み変化し、これにより2つの反射スリット光の間隔が変
化する。
動させると、左右の投光手段から投光される各スリット
光の入射角度は変化せず、各反射面上の入射点(線)の
み変化し、これにより2つの反射スリット光の間隔が変
化する。
以下本考案を添付図面に示す実施例に基づいて更に詳細
に説明する。まず第2図を参照すると、反射体30の2つ
の反射面32a,32bは交鎖角度θを成し、この両反射面32
a,32bに対して夫々入射角度αにてスリット光12と14が
入射し、反射角度αにて同一方向に互いに平行なスリッ
ト光12,14として投射される。この条件を満たす角度α
はθ/2に等しくなくてはならない。即ちα=θ/2であり
さえすれば交鎖角度θや角度αの値は種々の値を取り得
る。
に説明する。まず第2図を参照すると、反射体30の2つ
の反射面32a,32bは交鎖角度θを成し、この両反射面32
a,32bに対して夫々入射角度αにてスリット光12と14が
入射し、反射角度αにて同一方向に互いに平行なスリッ
ト光12,14として投射される。この条件を満たす角度α
はθ/2に等しくなくてはならない。即ちα=θ/2であり
さえすれば交鎖角度θや角度αの値は種々の値を取り得
る。
その一例としてθ=90度、α=45度の場合につき、第1
図に装置全体の構成を示す。反射体30の左右に配設した
半導体レーザ発生器22a,22bから反射体30の反射面32a,3
2bに向かって45度の入射角αにてビーム光を投光する。
そのビーム光の途中に、夫々シリンドリカルレンズ24a,
24bをその長手方向がビーム光に直交するように配設し
ており、各ビーム光はこれらのレンズ24a,24bを通過し
た後は第1図の紙面に垂直な方向に拡がり、スリット光
は12,14となる。このスリット光12,14は第1図の紙面上
の角度において入射角度=反射角度=α=45度にて互い
に平行なスリット光12,14となってX方向に投射され
る。
図に装置全体の構成を示す。反射体30の左右に配設した
半導体レーザ発生器22a,22bから反射体30の反射面32a,3
2bに向かって45度の入射角αにてビーム光を投光する。
そのビーム光の途中に、夫々シリンドリカルレンズ24a,
24bをその長手方向がビーム光に直交するように配設し
ており、各ビーム光はこれらのレンズ24a,24bを通過し
た後は第1図の紙面に垂直な方向に拡がり、スリット光
は12,14となる。このスリット光12,14は第1図の紙面上
の角度において入射角度=反射角度=α=45度にて互い
に平行なスリット光12,14となってX方向に投射され
る。
反射体30の後部には摺動部材42が左右に固定されてお
り、案内壁40に沿ってX方向に摺動可能となっている。
この2つの摺動部材42の間にはブラケット部材44を介し
て、例えばボールナット34が固定されている。一方モー
タ38に取り付けられたボールねじ軸36が上記ボールナッ
ト34と螺合しており、モータ38の出力軸が回転すると反
射体30がX方向に直線移動する。その場合、各半導体レ
ーザ発生器22a,22bから投光されてシリンドリカルレン
ズ24a,24bを通過したスリット光は、半導体30の各反射
面32a,32bに入射する場所が変化し、これにより反射さ
れたスリット光12と14の間隔lが変化する。
り、案内壁40に沿ってX方向に摺動可能となっている。
この2つの摺動部材42の間にはブラケット部材44を介し
て、例えばボールナット34が固定されている。一方モー
タ38に取り付けられたボールねじ軸36が上記ボールナッ
ト34と螺合しており、モータ38の出力軸が回転すると反
射体30がX方向に直線移動する。その場合、各半導体レ
ーザ発生器22a,22bから投光されてシリンドリカルレン
ズ24a,24bを通過したスリット光は、半導体30の各反射
面32a,32bに入射する場所が変化し、これにより反射さ
れたスリット光12と14の間隔lが変化する。
上記のモータ38を駆動制御するには、例えばマイクロコ
ンピュータから成る平行スリット光の間隔l設定部52に
対して検査対象の電子部品等の寸法情報を入力し、これ
により間隔lを決定してモータ制御部54にこの間隔lの
数値を入力する。モータ38はこのモータ制御部54の指令
に基づき適宜数回転する。
ンピュータから成る平行スリット光の間隔l設定部52に
対して検査対象の電子部品等の寸法情報を入力し、これ
により間隔lを決定してモータ制御部54にこの間隔lの
数値を入力する。モータ38はこのモータ制御部54の指令
に基づき適宜数回転する。
以上の説明から明らかな様に本考案によれば、検査対象
部品の大きさに応じて平行スリット光の間隔を変化させ
ることのできる投射装置の提供が可能となる。
部品の大きさに応じて平行スリット光の間隔を変化させ
ることのできる投射装置の提供が可能となる。
第1図は本考案による平行スリット光の投射装置の構成
図、 第2図は平行光生成の説明図、 第3図は従来において、部品を正常に検査をすることの
可能な場合の略示説明図、 第4図は従来において、部品を正常に検査することの不
可能な場合の略示説明図、 第5図はスリット孔を使用した場合の平行スリット光生
成の実施例図、 第6図はシリンドリカルレンズを使用した場合の平行ス
リット光生成の実施例図。 12,14…平行スリット光、 22a,22b…半導体レーザ発生器、 24a,24b…シリンドリカルレンズ、 30…反射体、 32a,32b…反射面、 34…ボールナット、 36…ボールねじ軸、 38…モータ、 α…光の入射角度(反射角度)、 θ…反射面の交鎖角度。
図、 第2図は平行光生成の説明図、 第3図は従来において、部品を正常に検査をすることの
可能な場合の略示説明図、 第4図は従来において、部品を正常に検査することの不
可能な場合の略示説明図、 第5図はスリット孔を使用した場合の平行スリット光生
成の実施例図、 第6図はシリンドリカルレンズを使用した場合の平行ス
リット光生成の実施例図。 12,14…平行スリット光、 22a,22b…半導体レーザ発生器、 24a,24b…シリンドリカルレンズ、 30…反射体、 32a,32b…反射面、 34…ボールナット、 36…ボールねじ軸、 38…モータ、 α…光の入射角度(反射角度)、 θ…反射面の交鎖角度。
Claims (1)
- 【請求項1】左右にスリット光の投光手段(22a,22b)
を配設し、 互いに交鎖角度(θ)を有するように設けられると共
に、前記各投光手段から投光される各スリット光の入射
角度(α)が夫々前記交鎖角度の2分の1の角度になる
よう配設され、該2つのスリット光を互いに平行であっ
て同一の方向(X)に反射させる2つの反射面(32a,32
b)を有する反射装置(30)と、 該反射装置を前記の交鎖角度を2分する直線方向(X)
に移動並びに停止させることの可能な駆動装置(34,36,
38)と、 被検査対象物の寸法情報に応じて反射平行スリット光の
間隔(l)を設定する間隔設定部(52)と、 この設定された間隔に応じて上記駆動装置を制御する制
御部(54)と、 を具備することを特徴とする平行スリット光の投射装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988032139U JPH0635211Y2 (ja) | 1988-03-12 | 1988-03-12 | 平行スリット光の投射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988032139U JPH0635211Y2 (ja) | 1988-03-12 | 1988-03-12 | 平行スリット光の投射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01136918U JPH01136918U (ja) | 1989-09-19 |
| JPH0635211Y2 true JPH0635211Y2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=31258461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988032139U Expired - Lifetime JPH0635211Y2 (ja) | 1988-03-12 | 1988-03-12 | 平行スリット光の投射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0635211Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366528A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-25 | Matsumoto Denshi Kogyo:Kk | 平行走査光線発生装置 |
| JPS6349516U (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-04 |
-
1988
- 1988-03-12 JP JP1988032139U patent/JPH0635211Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01136918U (ja) | 1989-09-19 |
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