JPH0636358A - 光ディスク原盤露光装置 - Google Patents
光ディスク原盤露光装置Info
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- JPH0636358A JPH0636358A JP4191909A JP19190992A JPH0636358A JP H0636358 A JPH0636358 A JP H0636358A JP 4191909 A JP4191909 A JP 4191909A JP 19190992 A JP19190992 A JP 19190992A JP H0636358 A JPH0636358 A JP H0636358A
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- JP
- Japan
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- exposure
- beam expander
- optical
- expander
- light
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B28/00—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements
- C04B28/02—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing inorganic binders or the reaction product of an inorganic and an organic binder, e.g. polycarboxylate cements containing hydraulic cements other than calcium sulfates
- C04B28/10—Lime cements or magnesium oxide cements
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- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 アドレス部、データ部等のそれぞれの情報信
号に最適のピット形状を再現性良く露光することが可能
な光ディスク原盤露光装置を提供する。 【構成】 パルス変調器３によりパルス化された１本の
露光ビームａが対物レンズ４に向かう間の光路上に、１
本の露光ビームａを露光ビーム径の異なる２種類の露光
ビームｃ，ｄに変換する異なるビームエキスパンダ比の
ビームエキスパンダ１１，１２を有するビームエキスパ
ンダ光学系１３を配設した。
号に最適のピット形状を再現性良く露光することが可能
な光ディスク原盤露光装置を提供する。 【構成】 パルス変調器３によりパルス化された１本の
露光ビームａが対物レンズ４に向かう間の光路上に、１
本の露光ビームａを露光ビーム径の異なる２種類の露光
ビームｃ，ｄに変換する異なるビームエキスパンダ比の
ビームエキスパンダ１１，１２を有するビームエキスパ
ンダ光学系１３を配設した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク原盤露光装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レーザ光源から出射された露光ビ
ームを光量変調器により最適な光量に調整し、この調整
された連続光をパルス変調器に入射させることにより情
報信号に応じたパルス光に変換し、このパルス化された
１本の露光ビームを対物レンズにより集光して光ディス
ク原盤上に照射することによって、所望とするピットの
形成を行う光ディスク原盤露光装置としては種々のもの
が提案されている。
ームを光量変調器により最適な光量に調整し、この調整
された連続光をパルス変調器に入射させることにより情
報信号に応じたパルス光に変換し、このパルス化された
１本の露光ビームを対物レンズにより集光して光ディス
ク原盤上に照射することによって、所望とするピットの
形成を行う光ディスク原盤露光装置としては種々のもの
が提案されている。
【０００３】例えば、その第一の従来例として、光ディ
スク原盤としてのフォトレジスト板上に照射する露光ビ
ームの光量を調整することにより、そのフォトレジスト
板上に露光される溝形状を変化させ、これによりプリピ
ットパターンに応じた最適な溝形状を形成するようにし
たものがある。
スク原盤としてのフォトレジスト板上に照射する露光ビ
ームの光量を調整することにより、そのフォトレジスト
板上に露光される溝形状を変化させ、これによりプリピ
ットパターンに応じた最適な溝形状を形成するようにし
たものがある。
【０００４】また、その第二の従来例として、フォトレ
ジスト板上に露光ビームを合焦させる対物レンズをフォ
ーカス、デフォーカス状態に変化させ、これにより所望
とする露光溝形状を形成するようにしたものがある。
ジスト板上に露光ビームを合焦させる対物レンズをフォ
ーカス、デフォーカス状態に変化させ、これにより所望
とする露光溝形状を形成するようにしたものがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】第一の従来例のよう
に、露光光量を調整して最適な溝形状を形成する方式で
は、露光ビームはそのビーム形状を変えるのではなく相
似的に変化しているため、露光溝深さは変わるが露光溝
断面形状の急峻度は変わらない。このため、同じ溝深さ
で断面形状の異なるような露光を行うことはできない。
に、露光光量を調整して最適な溝形状を形成する方式で
は、露光ビームはそのビーム形状を変えるのではなく相
似的に変化しているため、露光溝深さは変わるが露光溝
断面形状の急峻度は変わらない。このため、同じ溝深さ
で断面形状の異なるような露光を行うことはできない。
【０００６】また、第二の従来例のように、対物レンズ
のフォーカス状態を変化させて露光溝断面形状を変える
方式では、第一の従来例とは異なり、露光されるビーム
形状を変えることができ、しかも、同一光量で露光する
ことができるため同じ溝深さで断面形状の異なる露光を
行うことはできる。しかし、この場合、ビーム形状を左
右する対物レンズの位置制御の調整が難しく、再現性良
く露光を行うことができないという問題がある。
のフォーカス状態を変化させて露光溝断面形状を変える
方式では、第一の従来例とは異なり、露光されるビーム
形状を変えることができ、しかも、同一光量で露光する
ことができるため同じ溝深さで断面形状の異なる露光を
行うことはできる。しかし、この場合、ビーム形状を左
右する対物レンズの位置制御の調整が難しく、再現性良
く露光を行うことができないという問題がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、レーザ光源から出射された露光ビームを光量変調器
により最適な光量に調整し、この調整された連続光をパ
ルス変調器に入射させることにより情報信号に応じたパ
ルス光に変換し、このパルス化された１本の露光ビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に照射す
ることにより所望とするピットの形成を行う光ディスク
原盤露光装置において、前記パルス変調器によりパルス
化された１本の露光ビームが前記対物レンズに向かう間
の光路上に、前記１本の露光ビームを露光ビーム径の異
なる２種類の露光ビームに変換する異なるビームエキス
パンダ比のビームエキスパンダを有するビームエキスパ
ンダ光学系を配設した。
は、レーザ光源から出射された露光ビームを光量変調器
により最適な光量に調整し、この調整された連続光をパ
ルス変調器に入射させることにより情報信号に応じたパ
ルス光に変換し、このパルス化された１本の露光ビーム
を対物レンズにより集光して光ディスク原盤上に照射す
ることにより所望とするピットの形成を行う光ディスク
原盤露光装置において、前記パルス変調器によりパルス
化された１本の露光ビームが前記対物レンズに向かう間
の光路上に、前記１本の露光ビームを露光ビーム径の異
なる２種類の露光ビームに変換する異なるビームエキス
パンダ比のビームエキスパンダを有するビームエキスパ
ンダ光学系を配設した。
【０００８】請求項２記載の発明では、請求項１記載の
発明において、パルス変調器によりパルス化された１本
の露光ビームがビームエキスパンダ光学系に入射する前
段の光路上に、直線偏光のビームを楕円偏光のビームに
変換するビーム形状変換手段を設けた。
発明において、パルス変調器によりパルス化された１本
の露光ビームがビームエキスパンダ光学系に入射する前
段の光路上に、直線偏光のビームを楕円偏光のビームに
変換するビーム形状変換手段を設けた。
【０００９】請求項３記載の発明では、請求項２記載の
発明において、ビーム形状変換手段とビームエキスパン
ダ光学系との間の光路上に、１本の露光ビームを２分割
するビーム分割手段を配設した。
発明において、ビーム形状変換手段とビームエキスパン
ダ光学系との間の光路上に、１本の露光ビームを２分割
するビーム分割手段を配設した。
【００１０】請求項４記載の発明では、請求項１，２又
は３記載の発明において、ビームエキスパンダ光学系に
より異なるビーム径に変換された２本の露光ビームを再
び１本化して同一光軸として対物レンズへ導くビーム合
成手段を設けた。
は３記載の発明において、ビームエキスパンダ光学系に
より異なるビーム径に変換された２本の露光ビームを再
び１本化して同一光軸として対物レンズへ導くビーム合
成手段を設けた。
【００１１】請求項５記載の発明では、請求項１，２，
３又は４記載の発明において、ビームエキスパンダ光学
系内の各々のビームエキスパンダは、位置決め及び取外
しの可能なビームエキスパンダ着脱部材を備えるように
した。
３又は４記載の発明において、ビームエキスパンダ光学
系内の各々のビームエキスパンダは、位置決め及び取外
しの可能なビームエキスパンダ着脱部材を備えるように
した。
【００１２】
【作用】請求項１記載の発明においては、ビームエキス
パンダにより１本の露光ビームから異なるビーム径の２
本の露光ビームに変換させることができ、これにより、
同一の光量でビーム形状が異なる露光ビームを作成させ
ることが可能となる。
パンダにより１本の露光ビームから異なるビーム径の２
本の露光ビームに変換させることができ、これにより、
同一の光量でビーム形状が異なる露光ビームを作成させ
ることが可能となる。
【００１３】請求項２記載の発明においては、ビーム形
状変換手段により直線偏光のビームを楕円偏光のビーム
に変換する調整は、変調帯域が数百ＭＨｚと非常に高速
に行うことが可能となる。
状変換手段により直線偏光のビームを楕円偏光のビーム
に変換する調整は、変調帯域が数百ＭＨｚと非常に高速
に行うことが可能となる。
【００１４】請求項３記載の発明においては、ビーム分
割手段により露光ビームを分割することによって、ビー
ム形状変換手段で楕円偏光成分を調整された露光ビーム
の出射方向を高効率にしかも精度良く切換えることが可
能となる。
割手段により露光ビームを分割することによって、ビー
ム形状変換手段で楕円偏光成分を調整された露光ビーム
の出射方向を高効率にしかも精度良く切換えることが可
能となる。
【００１５】請求項４記載の発明においては、ビーム合
成手段により異なるビーム径に拡大された露光ビームを
同一光軸上に調整することにより、光ディスク原盤上に
露光形成されるピットやグルーブを同一円周上に精度良
く得ることが可能となる。
成手段により異なるビーム径に拡大された露光ビームを
同一光軸上に調整することにより、光ディスク原盤上に
露光形成されるピットやグルーブを同一円周上に精度良
く得ることが可能となる。
【００１６】請求項５記載の発明においては、ビームエ
キスパンダ着脱部材を備えたビームエキスパンダは、所
定のビームエキスパンダ比以外の異なるビームエキスパ
ンダ比にして露光を行いたいような場合においてもユニ
ット毎に取替えて使用することが可能となり、しかも、
元の状態に戻したいような場合でも精度良く位置決めを
行うことが可能となる。
キスパンダ着脱部材を備えたビームエキスパンダは、所
定のビームエキスパンダ比以外の異なるビームエキスパ
ンダ比にして露光を行いたいような場合においてもユニ
ット毎に取替えて使用することが可能となり、しかも、
元の状態に戻したいような場合でも精度良く位置決めを
行うことが可能となる。
【００１７】
【実施例】本発明の一実施例を図面に基づいて説明す
る。図１は、光ディスク原盤露光装置の構成を示すもの
である。本装置は、レーザ光源としてのＡｒレーザ１か
ら出射された露光ビームａを光量変調器２により最適な
光量に調整し、この調整された連続光をパルス変調器３
に入射させることにより情報信号に応じたパルス光に変
換し、このパルス化された１本の露光ビームａをその後
対物レンズ４により集光して光ディスク原盤としてのフ
ォトレジスト板５上に照射することによって、所望とす
るピットの形成を行うようにしたものである。
る。図１は、光ディスク原盤露光装置の構成を示すもの
である。本装置は、レーザ光源としてのＡｒレーザ１か
ら出射された露光ビームａを光量変調器２により最適な
光量に調整し、この調整された連続光をパルス変調器３
に入射させることにより情報信号に応じたパルス光に変
換し、このパルス化された１本の露光ビームａをその後
対物レンズ４により集光して光ディスク原盤としてのフ
ォトレジスト板５上に照射することによって、所望とす
るピットの形成を行うようにしたものである。
【００１８】このような装置において、本実施例では、
以下に述べるような各種の部材を配置するようにしたも
のである。前記パルス変調器３によりパルス化された１
本の露光ビームａの光路上には、ミラー６，７を介し
て、直線偏光の露光ビームａを楕円偏光の露光ビームｂ
に変換するビーム形状変換手段としてのＥ／Ｏ変調器８
が配設されている。このＥ／Ｏ変調器８を通過して得ら
れた露光ビームｂの光路上には、その１本の露光ビーム
ｂを２本の露光ビームｃ，ｄ（Ｓ偏光波とＰ偏光波）に
分割するビーム分割手段としてのＰＢＳ（偏光ビームス
プリッタ）９が配設されている。図２は、前記Ｅ／Ｏ変
調器８と、前記ＰＢＳ９とにそれぞれ導かれるビーム状
態を示すものである。
以下に述べるような各種の部材を配置するようにしたも
のである。前記パルス変調器３によりパルス化された１
本の露光ビームａの光路上には、ミラー６，７を介し
て、直線偏光の露光ビームａを楕円偏光の露光ビームｂ
に変換するビーム形状変換手段としてのＥ／Ｏ変調器８
が配設されている。このＥ／Ｏ変調器８を通過して得ら
れた露光ビームｂの光路上には、その１本の露光ビーム
ｂを２本の露光ビームｃ，ｄ（Ｓ偏光波とＰ偏光波）に
分割するビーム分割手段としてのＰＢＳ（偏光ビームス
プリッタ）９が配設されている。図２は、前記Ｅ／Ｏ変
調器８と、前記ＰＢＳ９とにそれぞれ導かれるビーム状
態を示すものである。
【００１９】露光ビームｃの光路上には、ミラー１０を
介して、一対のビームエキスパンダ１１が配置されてい
る。露光ビームｄの光路上には、一対のビームエキスパ
ンダ１２が配置されている。ビームエキスパンダ１１と
ビームエキスパンダ１２とは、異なるビームエキスパン
ダ比を有しており、これにより１本の露光ビームｂを露
光ビーム径の異なる２種類の露光ビームｃ，ｄに変換す
ることができる。この場合、ビームエキスパンダ１１
と、ビームエキスパンダ１２と、ミラー１０とは、ビー
ムエキスパンダ光学系１３を構成している。また、ビー
ムエキスパンダ光学系１３内の各々のビームエキスパン
ダ１１，１２は、位置決め及び取外しの可能な図示しな
いビームエキスパンダ着脱部材を備えている。
介して、一対のビームエキスパンダ１１が配置されてい
る。露光ビームｄの光路上には、一対のビームエキスパ
ンダ１２が配置されている。ビームエキスパンダ１１と
ビームエキスパンダ１２とは、異なるビームエキスパン
ダ比を有しており、これにより１本の露光ビームｂを露
光ビーム径の異なる２種類の露光ビームｃ，ｄに変換す
ることができる。この場合、ビームエキスパンダ１１
と、ビームエキスパンダ１２と、ミラー１０とは、ビー
ムエキスパンダ光学系１３を構成している。また、ビー
ムエキスパンダ光学系１３内の各々のビームエキスパン
ダ１１，１２は、位置決め及び取外しの可能な図示しな
いビームエキスパンダ着脱部材を備えている。
【００２０】また、ビームエキスパンダ１１を通過した
露光ビームｃがミラー１４を介した光路とビームエキス
パンダ１２を通過した露光ビームｄの光路とが交差する
位置には、ビーム合成手段としてのＰＢＳ１５が配置さ
れている。このＰＢＳ１５により合成された露光ビーム
ｅは、ミラー１６を介して、対物レンズ４により集光さ
れ、光ディスク原盤５上に露光照射される。
露光ビームｃがミラー１４を介した光路とビームエキス
パンダ１２を通過した露光ビームｄの光路とが交差する
位置には、ビーム合成手段としてのＰＢＳ１５が配置さ
れている。このＰＢＳ１５により合成された露光ビーム
ｅは、ミラー１６を介して、対物レンズ４により集光さ
れ、光ディスク原盤５上に露光照射される。
【００２１】このような構成において、パルス化された
１本の露光ビームａは、Ｅ／Ｏ変調器８に入射すること
により直線偏光から楕円偏光のビーム形状に変換され
る。この楕円偏光となった露光ビームａはＰＢＳ９によ
り楕円偏光のＸ，Ｙ成分である露光ビームｃ，ｄに分離
される。これら露光ビームｃ，ｄは、それぞれ異なるビ
ームエキスパンダ比で構成されるビームエキスパンダ１
１，１２に入射されることにより、所望のビーム径に変
換される。すなわち、ビームエキスパンダ１１を通過し
た露光ビームｃはビーム径φ1 に、ビームエキスパンダ
１２を通過した露光ビームｄはビーム径φ2（＞φ1）に
それぞれ変換される。そして、このように異なるビーム
径とされた露光ビームｃ，ｄは、ＰＢＳ１５により同一
光軸上に合成され露光ビームｅとなった後、対物レンズ
４により集光され回転するフォトレジスト板５上にサブ
ミクロンまで絞り込まれて露光を行う。
１本の露光ビームａは、Ｅ／Ｏ変調器８に入射すること
により直線偏光から楕円偏光のビーム形状に変換され
る。この楕円偏光となった露光ビームａはＰＢＳ９によ
り楕円偏光のＸ，Ｙ成分である露光ビームｃ，ｄに分離
される。これら露光ビームｃ，ｄは、それぞれ異なるビ
ームエキスパンダ比で構成されるビームエキスパンダ１
１，１２に入射されることにより、所望のビーム径に変
換される。すなわち、ビームエキスパンダ１１を通過し
た露光ビームｃはビーム径φ1 に、ビームエキスパンダ
１２を通過した露光ビームｄはビーム径φ2（＞φ1）に
それぞれ変換される。そして、このように異なるビーム
径とされた露光ビームｃ，ｄは、ＰＢＳ１５により同一
光軸上に合成され露光ビームｅとなった後、対物レンズ
４により集光され回転するフォトレジスト板５上にサブ
ミクロンまで絞り込まれて露光を行う。
【００２２】図３（ａ）（ｂ）は大小のビーム径の露光
ビームｃ，ｄが、対物レンズ４を介して、フォトレジス
ト板５上に照射される様子を示したものである。このよ
うにして異なるビーム径φ1，φ2によりフォトレジスト
板５上に形成されるピット形状を図４（ａ）（ｂ）に示
す。この場合、図４（ａ）の傾斜の小さい溝１７は図３
（ａ）の細い露光ビームｃにより作成されたものであ
り、図４（ｂ）の溝１８は傾斜の大きい図３（ｂ）の太
い露光ビームｄにより作成されたものである。
ビームｃ，ｄが、対物レンズ４を介して、フォトレジス
ト板５上に照射される様子を示したものである。このよ
うにして異なるビーム径φ1，φ2によりフォトレジスト
板５上に形成されるピット形状を図４（ａ）（ｂ）に示
す。この場合、図４（ａ）の傾斜の小さい溝１７は図３
（ａ）の細い露光ビームｃにより作成されたものであ
り、図４（ｂ）の溝１８は傾斜の大きい図３（ｂ）の太
い露光ビームｄにより作成されたものである。
【００２３】上述したように、露光するピット形状に応
じてＥ／Ｏ変調器８によって楕円偏光のＸ，Ｙ成分を変
えることにより、ＰＢＳ９によって分光比が変わり異な
るビームエキスパンダ比のビームエキスパンダ１１，１
２に入射される。これにより、例えば、太いビームφ2
を形成するビームエキスパンダ１２を通過するようにＥ
／Ｏ変調器８で楕円偏光成分を調整することにより、急
峻度の高い溝形状を得ることができる。また、細いビー
ムφ1 を形成するビームエキスパンダ１１を通過するよ
うにＥ／Ｏ変調器８で楕円偏光成分を調整することによ
り、急峻度の低い溝形状を得ることができる。従って、
このようなことから、フォトレジスト板５上に作成され
るアドレス部、データ部等のそれぞれの情報信号に最適
なピット形状（断面形状）を再現性良く露光する露光光
学系を提供することができる。
じてＥ／Ｏ変調器８によって楕円偏光のＸ，Ｙ成分を変
えることにより、ＰＢＳ９によって分光比が変わり異な
るビームエキスパンダ比のビームエキスパンダ１１，１
２に入射される。これにより、例えば、太いビームφ2
を形成するビームエキスパンダ１２を通過するようにＥ
／Ｏ変調器８で楕円偏光成分を調整することにより、急
峻度の高い溝形状を得ることができる。また、細いビー
ムφ1 を形成するビームエキスパンダ１１を通過するよ
うにＥ／Ｏ変調器８で楕円偏光成分を調整することによ
り、急峻度の低い溝形状を得ることができる。従って、
このようなことから、フォトレジスト板５上に作成され
るアドレス部、データ部等のそれぞれの情報信号に最適
なピット形状（断面形状）を再現性良く露光する露光光
学系を提供することができる。
【００２４】また、本実施例では図示しないがビームエ
キスパンダ１１，１２がビームエキスパンダ着脱部材を
備えたことによって、所定のビームエキスパンダ比以外
の異なるビームエキスパンダ比にして露光を行いたいよ
うな場合においてもユニット毎に取替えて使用すること
が可能となり、しかも、元の状態に戻したいような場合
でも精度良く位置決めを行うことができるようになる。
キスパンダ１１，１２がビームエキスパンダ着脱部材を
備えたことによって、所定のビームエキスパンダ比以外
の異なるビームエキスパンダ比にして露光を行いたいよ
うな場合においてもユニット毎に取替えて使用すること
が可能となり、しかも、元の状態に戻したいような場合
でも精度良く位置決めを行うことができるようになる。
【００２５】
【発明の効果】請求項１記載の発明は、レーザ光源から
出射された露光ビームを光量変調器により最適な光量に
調整し、この調整された連続光をパルス変調器に入射さ
せることにより情報信号に応じたパルス光に変換し、こ
のパルス化された１本の露光ビームを対物レンズにより
集光して光ディスク原盤上に照射することにより所望と
するピットの形成を行う光ディスク原盤露光装置におい
て、前記パルス変調器によりパルス化された１本の露光
ビームが前記対物レンズに向かう間の光路上に、前記１
本の露光ビームを露光ビーム径の異なる２種類の露光ビ
ームに変換する異なるビームエキスパンダ比のビームエ
キスパンダを有するビームエキスパンダ光学系を配設し
たので、ビームエキスパンダを用いて１本の露光ビーム
から異なるビーム径の２本の露光ビームに変換させ、同
一の光量でビーム形状が異なる露光ビームを作成させる
ことが可能となり、光ディスク原盤に露光した場合、同
じ溝深さで急峻度（溝断面形状）が異なるピットの作成
を行うことができ、これにより、光ディスク原盤上に作
成される情報信号に最適なピット形状を再現性良く露光
する露光光学系を提供することができるものである。
出射された露光ビームを光量変調器により最適な光量に
調整し、この調整された連続光をパルス変調器に入射さ
せることにより情報信号に応じたパルス光に変換し、こ
のパルス化された１本の露光ビームを対物レンズにより
集光して光ディスク原盤上に照射することにより所望と
するピットの形成を行う光ディスク原盤露光装置におい
て、前記パルス変調器によりパルス化された１本の露光
ビームが前記対物レンズに向かう間の光路上に、前記１
本の露光ビームを露光ビーム径の異なる２種類の露光ビ
ームに変換する異なるビームエキスパンダ比のビームエ
キスパンダを有するビームエキスパンダ光学系を配設し
たので、ビームエキスパンダを用いて１本の露光ビーム
から異なるビーム径の２本の露光ビームに変換させ、同
一の光量でビーム形状が異なる露光ビームを作成させる
ことが可能となり、光ディスク原盤に露光した場合、同
じ溝深さで急峻度（溝断面形状）が異なるピットの作成
を行うことができ、これにより、光ディスク原盤上に作
成される情報信号に最適なピット形状を再現性良く露光
する露光光学系を提供することができるものである。
【００２６】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、パルス変調器によりパルス化された１本の
露光ビームがビームエキスパンダ光学系に入射する前段
の光路上に、直線偏光のビームを楕円偏光のビームに変
換するビーム形状変換手段を設けたので、直線偏光のビ
ームを楕円偏光のビームに変換する調整は変調帯域が数
百ＭＨｚと非常に高速に行うことが可能となり、これに
より、例えば露光して作成される異なるピット形状を容
易に得ることができるものである。
明において、パルス変調器によりパルス化された１本の
露光ビームがビームエキスパンダ光学系に入射する前段
の光路上に、直線偏光のビームを楕円偏光のビームに変
換するビーム形状変換手段を設けたので、直線偏光のビ
ームを楕円偏光のビームに変換する調整は変調帯域が数
百ＭＨｚと非常に高速に行うことが可能となり、これに
より、例えば露光して作成される異なるピット形状を容
易に得ることができるものである。
【００２７】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、ビーム形状変換手段とビームエキスパンダ
光学系との間の光路上に、１本の露光ビームを２分割す
るビーム分割手段を配設したので、ビーム形状変換手段
で楕円偏光成分に調整された露光ビームの出射方向を高
効率にしかも精度良く切換えることができるものであ
る。
明において、ビーム形状変換手段とビームエキスパンダ
光学系との間の光路上に、１本の露光ビームを２分割す
るビーム分割手段を配設したので、ビーム形状変換手段
で楕円偏光成分に調整された露光ビームの出射方向を高
効率にしかも精度良く切換えることができるものであ
る。
【００２８】請求項４記載の発明は、請求項１，２又は
３記載の発明において、ビームエキスパンダ光学系によ
り異なるビーム径に変換された２本の露光ビームを再び
１本化して同一光軸として対物レンズへ導くビーム合成
手段を設けたので、光ディスク原盤上に露光して形成さ
れるピットやグルーブを同一円周上に精度良く得ること
ができるものである。
３記載の発明において、ビームエキスパンダ光学系によ
り異なるビーム径に変換された２本の露光ビームを再び
１本化して同一光軸として対物レンズへ導くビーム合成
手段を設けたので、光ディスク原盤上に露光して形成さ
れるピットやグルーブを同一円周上に精度良く得ること
ができるものである。
【００２９】請求項５記載の発明は、請求項１，２，３
又は４記載の発明において、ビームエキスパンダ光学系
内の各々のビームエキスパンダは、位置決め及び取外し
の可能なビームエキスパンダ着脱部材を備えるようにし
たので、所定のビームエキスパンダ比以外の異なるビー
ムエキスパンダ比にして露光を行いたいような場合にお
いてもユニット毎に取替えて使用することができ、しか
も、元の状態に戻したいような場合でも精度良く位置決
めを行うことができ、これにより、再調整を必要とせず
再現性を良くすることができるものである。
又は４記載の発明において、ビームエキスパンダ光学系
内の各々のビームエキスパンダは、位置決め及び取外し
の可能なビームエキスパンダ着脱部材を備えるようにし
たので、所定のビームエキスパンダ比以外の異なるビー
ムエキスパンダ比にして露光を行いたいような場合にお
いてもユニット毎に取替えて使用することができ、しか
も、元の状態に戻したいような場合でも精度良く位置決
めを行うことができ、これにより、再調整を必要とせず
再現性を良くすることができるものである。
【図１】本発明の一実施例である光ディスク原盤露光装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
【図２】Ｅ／Ｏ変調器に入射した露光ビームの進行経路
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図３】ビーム形状の異なる露光ビームが光ディスク原
盤上に照射される状態を示す状態図である。
盤上に照射される状態を示す状態図である。
【図４】光ディスク原盤上に形成されるピット形状を示
す側面図である。
す側面図である。
１ レーザ光源 ２ 光量変調器 ３ パルス変調器 ４ 対物レンズ ５ 光ディスク原盤 ８ ビーム形状変換手段 ９ ビーム分割手段 １１，１２ ビームエキスパンダ １３ ビームエキスパンダ １５ ビーム合成手段
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザ光源から出射された露光ビームを
光量変調器により最適な光量に調整し、この調整された
連続光をパルス変調器に入射させることにより情報信号
に応じたパルス光に変換し、このパルス化された１本の
露光ビームを対物レンズにより集光して光ディスク原盤
上に照射することにより所望とするピットの形成を行う
光ディスク原盤露光装置において、前記パルス変調器に
よりパルス化された１本の露光ビームが前記対物レンズ
に向かう間の光路上に、前記１本の露光ビームを露光ビ
ーム径の異なる２種類の露光ビームに変換する異なるビ
ームエキスパンダ比のビームエキスパンダを有するビー
ムエキスパンダ光学系を配設したことを特徴とする光デ
ィスク原盤露光装置。 - 【請求項２】 パルス変調器によりパルス化された１本
の露光ビームがビームエキスパンダ光学系に入射する前
段の光路上に、直線偏光のビームを楕円偏光のビームに
変換するビーム形状変換手段を設けたことを特徴とする
請求項１記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項３】 ビーム形状変換手段とビームエキスパン
ダ光学系との間の光路上に、１本の露光ビームを２分割
するビーム分割手段を配設したことを特徴とする請求項
２記載の光ディスク原盤露光装置。 - 【請求項４】 ビームエキスパンダ光学系により異なる
ビーム径に変換された２本の露光ビームを再び１本化し
て同一光軸として対物レンズへ導くビーム合成手段を設
けたことを特徴とする請求項１，２又は３記載の光ディ
スク原盤露光装置。 - 【請求項５】 ビームエキスパンダ光学系内の各々のビ
ームエキスパンダは、位置決め及び取外しの可能なビー
ムエキスパンダ着脱部材を備えたことを特徴とする請求
項１，２，３又は４記載の光ディスク原盤露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4191909A JPH0636358A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4191909A JPH0636358A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636358A true JPH0636358A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16282470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4191909A Pending JPH0636358A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 光ディスク原盤露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636358A (ja) |
-
1992
- 1992-07-20 JP JP4191909A patent/JPH0636358A/ja active Pending
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