JPH0637430B2 - ｃｉｓ−菊酸アルキルエステルの製造用中間体化合物 - Google Patents
ｃｉｓ−菊酸アルキルエステルの製造用中間体化合物Info
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- JPH0637430B2 JPH0637430B2 JP3203746A JP20374691A JPH0637430B2 JP H0637430 B2 JPH0637430 B2 JP H0637430B2 JP 3203746 A JP3203746 A JP 3203746A JP 20374691 A JP20374691 A JP 20374691A JP H0637430 B2 JPH0637430 B2 JP H0637430B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D307/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D307/32—Oxygen atoms
- C07D307/33—Oxygen atoms in position 2, the oxygen atom being in its keto or unsubstituted enol form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/15—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction of organic compounds with carbon dioxide, e.g. Kolbe-Schmitt synthesis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
- C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D491/04—Ortho-condensed systems
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Furan Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明の主題は、cis −菊酸のラ
セミ又は光学活性アルキルエステルの製造方法及びこれ
より得られる新規化合物にある。
セミ又は光学活性アルキルエステルの製造方法及びこれ
より得られる新規化合物にある。
【０００２】
【発明の具体的説明】特に、本発明は、次式（Ｉ）
【化５】 （ここでＲは１〜６個の炭素原子を含有するアルキル基
を表わす）に相当するラセミ又は光学活性のcis 菊酸ア
ルキルエステルを製造するにあたり、cis 配置の次式
（II）
を表わす）に相当するラセミ又は光学活性のcis 菊酸ア
ルキルエステルを製造するにあたり、cis 配置の次式
（II）
【化６】 （ここでＲは既に述べた意味を有する）のラセミ又は光
学活性化合物を次式（III)
学活性化合物を次式（III)
【化７】 （ここで Halはハロゲン原子を表わし、Ａr は置換され
ていてもよい６〜１２個の炭素原子を含有するアリール
基を表わす）のハロゲンチオぎ酸アリールで処理してci
s 配置の次式（IV）
ていてもよい６〜１２個の炭素原子を含有するアリール
基を表わす）のハロゲンチオぎ酸アリールで処理してci
s 配置の次式（IV）
【化８】 （ここでＲ及びＡr は既に述べた意味を有する）の化合
物を得、要すればこの化合物を有機溶媒中で加熱して式
（Ｉ）の所望化合物を得ることを特徴とするラセミ又は
光学活性のcis 菊酸アルキルエステルの製造方法を主題
とする。
物を得、要すればこの化合物を有機溶媒中で加熱して式
（Ｉ）の所望化合物を得ることを特徴とするラセミ又は
光学活性のcis 菊酸アルキルエステルの製造方法を主題
とする。
【０００３】式（Ｉ）において、Ｒはメチル、エチル、
又は線状若しくはプロピル、ブチル、ペンチル若しくは
ヘキシル基を表わすことができる。式（III)において、
Hal は好ましくは塩素原子を表わし、Ａr は好ましくは
フェニル又はナフチル基を表わす。基Ａr が置換してい
るときは、１〜３個の炭素原子を有するアルキル置換基
の１個又はそれ以上で置換されている基が好ましい。式
（III)の好ましい化合物はクロルチオぎ酸ｐ−トリルで
ある。
又は線状若しくはプロピル、ブチル、ペンチル若しくは
ヘキシル基を表わすことができる。式（III)において、
Hal は好ましくは塩素原子を表わし、Ａr は好ましくは
フェニル又はナフチル基を表わす。基Ａr が置換してい
るときは、１〜３個の炭素原子を有するアルキル置換基
の１個又はそれ以上で置換されている基が好ましい。式
（III)の好ましい化合物はクロルチオぎ酸ｐ−トリルで
ある。
【０００４】本発明の方法を実施するのに好ましい条件
下では、式（IV）の化合物は非極性有機溶媒（これは好
ましくはジクロル又はトリクロルベンゼンである）中で
１００〜１５０℃の温度で加熱される。しかし、同様
に、溶媒の不存在下に実施することも可能である。
下では、式（IV）の化合物は非極性有機溶媒（これは好
ましくはジクロル又はトリクロルベンゼンである）中で
１００〜１５０℃の温度で加熱される。しかし、同様
に、溶媒の不存在下に実施することも可能である。
【０００５】式（II）の化合物は、知られており、例え
ば Agr. Bio. Chem.２８（７）、４５６−６６（１９６
４）に記載されている。また、本発明によれば、ラセミ
又は光学活性のcis 配置の式（II）の化合物は、次式
（Ｖ）
ば Agr. Bio. Chem.２８（７）、４５６−６６（１９６
４）に記載されている。また、本発明によれば、ラセミ
又は光学活性のcis 配置の式（II）の化合物は、次式
（Ｖ）
【化９】 のラセミ又は光学活性化合物にカルボン酸化剤を反応さ
せて次式（VI）
せて次式（VI）
【化１０】 の化合物を得、この化合物を選択的に還元して次式（VI
I)
I)
【化１１】 の化合物を得、この化合物を環化して次式（VIII)
【化１２】 のラクトンを得、この化合物に２−ジアゾプロパンを反
応させて次式（IX a）及び（IX b）
応させて次式（IX a）及び（IX b）
【化１３】 のピラゾリン混合物を得、要すればこの混合物を分離
し、次いで式（IX a）の化合物又は式（IX b）の化合物
又はそれらの混合物に増感剤の存在下に放射線照射して
次式（Ｘ）
し、次いで式（IX a）の化合物又は式（IX b）の化合物
又はそれらの混合物に増感剤の存在下に放射線照射して
次式（Ｘ）
【化１４】 の化合物を得、化合物を塩基性薬剤で、次いでエステル
化剤で処理して式（II）の化合物を得ることを特徴とす
る方法によって製造することもできる。
化剤で処理して式（II）の化合物を得ることを特徴とす
る方法によって製造することもできる。
【０００６】本発明の方法を実施するのに好ましい条件
下では、式（Ｖ）の化合物のカルボン酸化は強塩基（こ
れは好ましくはアルキルリチウムである）の存在下に炭
酸ガスを作用させることにより行われ、式（VI）の化合
物の還元は触媒の存在下に水素によって行われ、式（VI
I)の化合物の環化は自然発生的に又は酸（これは好まし
くは無機酸である）の存在下に行われ、式（IX a）若し
くは（IX b）のピラゾリン又はそれらの混合物の放射線
照射はベンゾフェノンのような増感剤の存在下に水銀灯
により行われ、式（Ｘ）の化合物の塩基性薬剤による処
理は水酸化ナトリウム又は好ましくは水酸化カリウムの
ような水酸化アルカリによって行われ、そして操作は水
−アルコール溶媒中で行われ、式（II）のエステルを導
くエステル化は式（Ｘ）の化合物のけん化により生ずる
酸を単離しないでその場で行われる。式（II）の化合物
を導くエステル化剤は、所望のエステルを導く当業者に
知られた薬剤のいずれであってもよい。メチルエステル
を製造したいときには、ジアゾメタンを使用するのが特
に具合がよい。他のアルキルエステルを製造したいと望
むときは、対応するジアゾアルカンを用いることができ
る。
下では、式（Ｖ）の化合物のカルボン酸化は強塩基（こ
れは好ましくはアルキルリチウムである）の存在下に炭
酸ガスを作用させることにより行われ、式（VI）の化合
物の還元は触媒の存在下に水素によって行われ、式（VI
I)の化合物の環化は自然発生的に又は酸（これは好まし
くは無機酸である）の存在下に行われ、式（IX a）若し
くは（IX b）のピラゾリン又はそれらの混合物の放射線
照射はベンゾフェノンのような増感剤の存在下に水銀灯
により行われ、式（Ｘ）の化合物の塩基性薬剤による処
理は水酸化ナトリウム又は好ましくは水酸化カリウムの
ような水酸化アルカリによって行われ、そして操作は水
−アルコール溶媒中で行われ、式（II）のエステルを導
くエステル化は式（Ｘ）の化合物のけん化により生ずる
酸を単離しないでその場で行われる。式（II）の化合物
を導くエステル化剤は、所望のエステルを導く当業者に
知られた薬剤のいずれであってもよい。メチルエステル
を製造したいときには、ジアゾメタンを使用するのが特
に具合がよい。他のアルキルエステルを製造したいと望
むときは、対応するジアゾアルカンを用いることができ
る。
【０００７】cis −菊酸又はそれらのアルキルエステル
の合成は、現在では全く特別の利益を提供する。なぜな
らば、それらはジハロビニル鎖を持つシクロプロパンカ
ルボン酸（そのうちのある種のエステルは顕著なペスチ
サイド性、特に殺虫性を有するために周知である）の製
造に特に用いられるからである。
の合成は、現在では全く特別の利益を提供する。なぜな
らば、それらはジハロビニル鎖を持つシクロプロパンカ
ルボン酸（そのうちのある種のエステルは顕著なペスチ
サイド性、特に殺虫性を有するために周知である）の製
造に特に用いられるからである。
【０００８】また、本発明の方法は、ごく少数の工程よ
りなり、そして高収率をもたらすcis −菊酸のラセミ又
は光学活性アルキルエステルの全合成法を提供する。こ
の合成は立体特異的である。事実、付加反応並びに式
（IX a）及び（IX b）のピラゾリンを導く環化は立体特
異的であり、そして後続の工程は異性化を何ら起させな
い。cis 配置の式（II）の化合物、そして式（IV）及び
（Ｉ）の化合物は得られる唯一の異性体である。
りなり、そして高収率をもたらすcis −菊酸のラセミ又
は光学活性アルキルエステルの全合成法を提供する。こ
の合成は立体特異的である。事実、付加反応並びに式
（IX a）及び（IX b）のピラゾリンを導く環化は立体特
異的であり、そして後続の工程は異性化を何ら起させな
い。cis 配置の式（II）の化合物、そして式（IV）及び
（Ｉ）の化合物は得られる唯一の異性体である。
【０００９】さらに、本発明の方法は、従来技術の教示
からみて、全く予期されなかった特徴を示す。事実、多
くの著者、中でも松井氏他（Agr. Biol. Chem.２８、４
５６（１９６４））、Ficini氏他（Tet. Letters １９
７６、２４４１）及びSnieckus氏他（Tet. Letters １
９８２、１３４３）は、cis 配置の式（II）のアルコー
ルの脱水に成功しなかった。本発明の方法は、この脱水
を７０％を越える全収率でもって行わしめるものであ
る。
からみて、全く予期されなかった特徴を示す。事実、多
くの著者、中でも松井氏他（Agr. Biol. Chem.２８、４
５６（１９６４））、Ficini氏他（Tet. Letters １９
７６、２４４１）及びSnieckus氏他（Tet. Letters １
９８２、１３４３）は、cis 配置の式（II）のアルコー
ルの脱水に成功しなかった。本発明の方法は、この脱水
を７０％を越える全収率でもって行わしめるものであ
る。
【００１０】また、本発明の方法は、新規な工業用化合
物の製造を可能にさせる。したがって、本発明は、新規
な工業用化合物としての、前記のような式（IV）、（V
I）及び（VII)、そして式（IX a）及び（IX b）のラセ
ミ又は光学活性化合物を主題とする。
物の製造を可能にさせる。したがって、本発明は、新規
な工業用化合物としての、前記のような式（IV）、（V
I）及び（VII)、そして式（IX a）及び（IX b）のラセ
ミ又は光学活性化合物を主題とする。
【００１１】本発明の方法の開始時で用いられる式
（Ｖ）の化合物のラセミ又は光学活性化合物は知られて
おり、例えば Tet. Letters ２９、２６８３（１９７
９）に記載されている。
（Ｖ）の化合物のラセミ又は光学活性化合物は知られて
おり、例えば Tet. Letters ２９、２６８３（１９７
９）に記載されている。
【００１２】
【実施例】下記の例は本発明を例示するものであって、
これを何ら制約しない。
これを何ら制約しない。
【００１３】例１：（１Ｓ，cis ）菊酸メチル工程Ａ ：４Ｒ−ヒドロキシ−５−メチル−２−ヘキシン
酸 １０．５ｇの３Ｒ−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペン
チルを１８０ccのテトラヒドロフランに溶解し、そして
−７８℃に冷却してなる溶液に１９５．６ccの１．３Ｍ
ブチルリチウムヘキサン溶液をゆっくりと添加する。添
加が終ったならば過剰量の固体二酸化炭素を小片として
添加する。多量の沈殿が生じる。周囲温度に戻した後、
１００ccの水を加えてコロイド状物体を溶解させる。水
性相を有機相から分離した後、濃塩酸で酸性化し、エー
テルで抽出する。溶媒を蒸発させ、２１．０５ｇの所期
生成物を得、これをベンゼンから再結晶する。このよう
にして８．９ｇの白色結晶を回収した。ｍｐ＝８０℃、
〔α〕D （２５℃）＝＋１０．６°（ｃ＝２％ジオキサ
ン）。工程Ｂ ：５Ｒ−（１−メチルエチル）−２−（５Ｈ）−
フラノン ７．６２ｇの工程Ａで得た酸を１２０ccのメタノールに
溶解してから５００mgのパラジウム担持硫酸バリウム及
び数滴のキノリンの存在下に常温常圧下に水素化する。
理論量の水素が固定されたときに水素化を停止する。触
媒を濾過し、濾液を蒸発させる。後者を２０ccのエーテ
ルに溶解し、この溶液に２ccの濃ＨＣlを加え、全体を
激しくかきまぜる。次いでエーテル相を分離し、重炭酸
ナトリウムで洗い、次いで水洗する。硫酸ナトリウムで
乾燥し、エーテルを蒸発させ、残留物を蒸留した後、
５．７０ｇの所期生成物を得た。ｂｐ＝７８〜７９℃／
０．１mmHg。〔α〕D （２５℃）＝−９６°（ｃ＝２％
ジオキサン）。工程Ｃ ：４，４−ジメチル−６Ｒ−（１−メチルエチ
ル）−７−オキサ−２，３−ジアザビシクロ−２−オク
テン−８−オン（化合物Ａ）及び４，４−ジメチル−８
Ｒ−（１−メチルエチル）−７−オキサ−２，３−ジア
ザビシクロ−２−オクテン−６−オン（化合物Ｂ） C. Dietrich - Buchecker 及び M. Franck - Neumann両
氏（Tetrahedron ３３、７４５（１９７７））の方法に
従って製造した２−ジアゾプロパンの３．３Ｍエーテル
−エチルベンゼン混合物溶液２５mlを、５．３０ｇの工
程Ｂで得た生成物を２０mlのエーテルに溶解してなる溶
液に、温度を約−１０℃に保ちながら、５mlづつで加え
る。周囲温度で２時間後に、エーテルを周囲温度で除去
する。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、２０％
のエーテルを含むヘキサンで溶離する。この方法で第一
画分の化合物Ｂ（結晶化する。ｍｐ＝７８〜８２℃（分
解を伴なう））、続いて３００mgの化合物ＡとＢとの混
合物、そして最終画分の４．３７ｇの化合物Ａを無色液
状物として得た。工程Ｄ ：（１Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）６，６−ジメチル−４−
（１−メチルエチル）−３−オキサビシクロヘキサン−
２−オン ２．３８ｇの上で得た化合物Ｂと４．８ｇのベンゾフェ
ノンを２００mlのベンゼンに溶解してなる溶液にフィリ
ップス型ＨＰＫ１２５の水銀灯により理論量の窒素が放
出されるまで照射する。溶媒を蒸留させた後、残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、２０％のエーテルを含
むヘキサンで溶離する。１．２８ｇの所期のシクロプロ
パンラクトンを回収する。これは旋光能〔α〕D （２０
℃）＝＋８０°（クロロホルム）を有する。４．３０ｇ
の化合物Ａを９．０ｇのベンゾフェノンの存在下に１リ
ットルのベンゼンに溶解してなる溶液を上記と同一条件
下で光分解し、上述のように窒素を完全に発生させ、単
離した後、上記と同じ３．３０ｇのシクロプロパンラク
トンを得た。旋光能〔α〕D（２０℃）＝＋７０°（ク
ロロホルム）。工程Ｅ ：（１Ｓ，３Ｒ）２，２−ジメチル−３−（１−
ヒドロキシ−２−メチル）プロピル−１−シクロプロパ
ンカルボン酸メチル ４．２ｇの工程Ｄで得たシクロプロパンラクトンを５５
mlのエタノールに溶解してなる溶液を、１１．３ｇの水
酸化カリウムを３０mlの水に溶解してなる溶液と混合す
る。周囲温度で４８時間後に、そしてエタノールの大部
分を減圧下に除去した後、水を加え、水溶液を水洗す
る。その後、水性相を１０％塩酸で酸性化し、エーテル
で抽出する。有機抽出物を脱水し、次いで僅かに過剰の
ジアゾメタンエーテル溶液で直ちに処理する。周囲温度
で１時間後に、溶媒を減圧下に蒸発させる。５．０ｇの
所期のアルコールエステルを得、これはそのまま次の合
成に用いる。工程Ｆ ：（１Ｓ，３Ｒ）２，２−ジメチル−３−〔１−
（４−メチルフェノキシカルボノチオイルオキシ）−２
−メチルプロピル〕−１−シクロプロパンカルボン酸メ
チル ２．８０ｇの工程Ｅで得たアルコールエステルと１．５
mlのピリジンを４０mlの塩化メチレンに加えてなる混合
物に２．４mlのクロルチオぎ酸Ｏ−ｐ−トリルを滴下す
る。周囲温度で４８時間後に、反応混合物を２００mlの
エーテルで希釈し、水洗する。脱水し、溶媒を除去した
後、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、５％のエ
ーテルを含むヘキサンで溶離する。この方法で２．３４
ｇの所期生成物を得た。工程Ｇ ：（１Ｓ，cis ）菊酸メチル １．７２５ｇの工程Ｆで得た生成物を２０mlの１，２，
４−トリクロルベンゼンに溶解してなる溶液を１４０℃
にゆっくりと加熱し、次いでこの温度に１５分間保つ。
冷却した後、溶液をシリカでクロマトグラフィーし、２
％のエーテルを含むヘキサンで溶離する。６９２mgの所
期のcis −菊酸メチルを回収した。これは（１Ｓ，３
Ｒ）配置を有し、旋光能〔α〕D （２０℃）＝−６０．
５°（ベンゼン）を有する。
酸 １０．５ｇの３Ｒ−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペン
チルを１８０ccのテトラヒドロフランに溶解し、そして
−７８℃に冷却してなる溶液に１９５．６ccの１．３Ｍ
ブチルリチウムヘキサン溶液をゆっくりと添加する。添
加が終ったならば過剰量の固体二酸化炭素を小片として
添加する。多量の沈殿が生じる。周囲温度に戻した後、
１００ccの水を加えてコロイド状物体を溶解させる。水
性相を有機相から分離した後、濃塩酸で酸性化し、エー
テルで抽出する。溶媒を蒸発させ、２１．０５ｇの所期
生成物を得、これをベンゼンから再結晶する。このよう
にして８．９ｇの白色結晶を回収した。ｍｐ＝８０℃、
〔α〕D （２５℃）＝＋１０．６°（ｃ＝２％ジオキサ
ン）。工程Ｂ ：５Ｒ−（１−メチルエチル）−２−（５Ｈ）−
フラノン ７．６２ｇの工程Ａで得た酸を１２０ccのメタノールに
溶解してから５００mgのパラジウム担持硫酸バリウム及
び数滴のキノリンの存在下に常温常圧下に水素化する。
理論量の水素が固定されたときに水素化を停止する。触
媒を濾過し、濾液を蒸発させる。後者を２０ccのエーテ
ルに溶解し、この溶液に２ccの濃ＨＣlを加え、全体を
激しくかきまぜる。次いでエーテル相を分離し、重炭酸
ナトリウムで洗い、次いで水洗する。硫酸ナトリウムで
乾燥し、エーテルを蒸発させ、残留物を蒸留した後、
５．７０ｇの所期生成物を得た。ｂｐ＝７８〜７９℃／
０．１mmHg。〔α〕D （２５℃）＝−９６°（ｃ＝２％
ジオキサン）。工程Ｃ ：４，４−ジメチル−６Ｒ−（１−メチルエチ
ル）−７−オキサ−２，３−ジアザビシクロ−２−オク
テン−８−オン（化合物Ａ）及び４，４−ジメチル−８
Ｒ−（１−メチルエチル）−７−オキサ−２，３−ジア
ザビシクロ−２−オクテン−６−オン（化合物Ｂ） C. Dietrich - Buchecker 及び M. Franck - Neumann両
氏（Tetrahedron ３３、７４５（１９７７））の方法に
従って製造した２−ジアゾプロパンの３．３Ｍエーテル
−エチルベンゼン混合物溶液２５mlを、５．３０ｇの工
程Ｂで得た生成物を２０mlのエーテルに溶解してなる溶
液に、温度を約−１０℃に保ちながら、５mlづつで加え
る。周囲温度で２時間後に、エーテルを周囲温度で除去
する。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、２０％
のエーテルを含むヘキサンで溶離する。この方法で第一
画分の化合物Ｂ（結晶化する。ｍｐ＝７８〜８２℃（分
解を伴なう））、続いて３００mgの化合物ＡとＢとの混
合物、そして最終画分の４．３７ｇの化合物Ａを無色液
状物として得た。工程Ｄ ：（１Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）６，６−ジメチル−４−
（１−メチルエチル）−３−オキサビシクロヘキサン−
２−オン ２．３８ｇの上で得た化合物Ｂと４．８ｇのベンゾフェ
ノンを２００mlのベンゼンに溶解してなる溶液にフィリ
ップス型ＨＰＫ１２５の水銀灯により理論量の窒素が放
出されるまで照射する。溶媒を蒸留させた後、残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、２０％のエーテルを含
むヘキサンで溶離する。１．２８ｇの所期のシクロプロ
パンラクトンを回収する。これは旋光能〔α〕D （２０
℃）＝＋８０°（クロロホルム）を有する。４．３０ｇ
の化合物Ａを９．０ｇのベンゾフェノンの存在下に１リ
ットルのベンゼンに溶解してなる溶液を上記と同一条件
下で光分解し、上述のように窒素を完全に発生させ、単
離した後、上記と同じ３．３０ｇのシクロプロパンラク
トンを得た。旋光能〔α〕D（２０℃）＝＋７０°（ク
ロロホルム）。工程Ｅ ：（１Ｓ，３Ｒ）２，２−ジメチル−３−（１−
ヒドロキシ−２−メチル）プロピル−１−シクロプロパ
ンカルボン酸メチル ４．２ｇの工程Ｄで得たシクロプロパンラクトンを５５
mlのエタノールに溶解してなる溶液を、１１．３ｇの水
酸化カリウムを３０mlの水に溶解してなる溶液と混合す
る。周囲温度で４８時間後に、そしてエタノールの大部
分を減圧下に除去した後、水を加え、水溶液を水洗す
る。その後、水性相を１０％塩酸で酸性化し、エーテル
で抽出する。有機抽出物を脱水し、次いで僅かに過剰の
ジアゾメタンエーテル溶液で直ちに処理する。周囲温度
で１時間後に、溶媒を減圧下に蒸発させる。５．０ｇの
所期のアルコールエステルを得、これはそのまま次の合
成に用いる。工程Ｆ ：（１Ｓ，３Ｒ）２，２−ジメチル−３−〔１−
（４−メチルフェノキシカルボノチオイルオキシ）−２
−メチルプロピル〕−１−シクロプロパンカルボン酸メ
チル ２．８０ｇの工程Ｅで得たアルコールエステルと１．５
mlのピリジンを４０mlの塩化メチレンに加えてなる混合
物に２．４mlのクロルチオぎ酸Ｏ−ｐ−トリルを滴下す
る。周囲温度で４８時間後に、反応混合物を２００mlの
エーテルで希釈し、水洗する。脱水し、溶媒を除去した
後、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、５％のエ
ーテルを含むヘキサンで溶離する。この方法で２．３４
ｇの所期生成物を得た。工程Ｇ ：（１Ｓ，cis ）菊酸メチル １．７２５ｇの工程Ｆで得た生成物を２０mlの１，２，
４−トリクロルベンゼンに溶解してなる溶液を１４０℃
にゆっくりと加熱し、次いでこの温度に１５分間保つ。
冷却した後、溶液をシリカでクロマトグラフィーし、２
％のエーテルを含むヘキサンで溶離する。６９２mgの所
期のcis −菊酸メチルを回収した。これは（１Ｓ，３
Ｒ）配置を有し、旋光能〔α〕D （２０℃）＝−６０．
５°（ベンゼン）を有する。
【００１４】例２：（１Ｒ，cis ）菊酸メチル 例１に記載の方法と類似の態様であるが、ただし出発時
に３Ｓ−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンチンを用
い、そして同じ工程順序に従って実施することによっ
て、旋光能〔α〕D （２０℃）＝＋６６．５°（ベンゼ
ン）である（１Ｒ，cis ）菊酸メチルを得た。
に３Ｓ−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンチンを用
い、そして同じ工程順序に従って実施することによっ
て、旋光能〔α〕D （２０℃）＝＋６６．５°（ベンゼ
ン）である（１Ｒ，cis ）菊酸メチルを得た。
【００１５】例３：cis −菊酸メチル工程Ａ ：４，４−ジメチル−６−（１−メチルエチル）
−７−オキサ−２，３−ジアザビシクロ−２−オクテン
−８−オン（化合物Ｃ）及び４，４−ジメチル−８−
（１−メチルエチル）−７−オキサ−２，３−ジアザビ
シクロ−２−オクテン−６−オン（化合物Ｄ） 例１に記載のようにして出発時で３（ＲＳ）−ヒドロキ
シ−４−メチル−２−ペンチンを用いて得た７．７０ｇ
の５（ＲＳ）−（１−メチルエチル）−２（５Ｈ）−フ
ラノンを２０mlのエーテルに溶解してなる溶液に、C. D
ietrich - Buchecker 及び M. Franck - Neumann両氏の
方法（Tetrahedron ３３、７４５（１９７７））に従っ
て製造した２−ジアゾプロパンをエーテル−エチルベン
ゼン混合物に溶解してなる３Ｍ溶液４０mlを５mlづつで
温度を約−１０℃に保ちながら添加する。周囲温度で２
時間後にエーテルを周囲温度で除去する。残留物をシリ
カでクロマトグラフィーし、２０％のエーテルを含むヘ
キサンで溶離する。この方法で４．４ｇの結晶化する化
合物Ｄの画分（ｍｐ＝６８〜６９℃）及び無色液状の
７．２５ｇの化合物Ｃの画分を得た。工程Ｂ ：６，６−ジメチル−１−（１−メチルエチル）
−３−オキサビシクロヘキサン−２−オン ３．５０ｇの上で得た化合物Ｄと７．００ｇのベンゾフ
ェノンを１リットルのベンゼンに溶解してなる溶液にフ
ィリップス型ＨＰＫ１２５の水銀灯により理論量の窒素
の全てが放出されるまで照射する。溶媒を蒸発させた
後、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、まず５％
のエーテル、次いで１０％のエーテルをそれぞれ含むヘ
キサンで溶離する。２．７３ｇの所期のシクロプロパン
ラクトンを回収した。ｂｐ＝４７〜４８℃／０．０５mm
Hg。４．３０ｇの化合物Ｃを９．０ｇのベンゾフェノン
の存在下に１リットルのベンゼンに溶解してなる溶液を
上記と同じ条件下で光分解し、上述のように窒素を完全
に発生させ、分離をした後、３．３０ｇの同一のシクロ
プロパンラクトンを得た。工程Ｃ ：cis −２，２−ジメチル−３−（１−ヒドロキ
シ−２−メチル）プロピル−１−シクロプロパンカルボ
ン酸メチル ２．７ｇの上で得たシクロプロパンラクトンを４０mlの
エタノールに溶解してなる溶液を、７．５ｇの水酸化カ
リウムを２０mlの水に溶解してなる溶液と混合する。周
囲温度で４８時間後に、そしてエタノールの大部分を減
圧下に除去した後、水を添加し、水溶液をエーテルで洗
う。次いで水性相を１０％塩酸で酸性化し、エーテルで
抽出する。有機抽出物を脱水し、濃縮し、アルコール酸
（２．９ｇ）を僅かに過剰のジアゾメタンエーテル溶液
により直ちに処理する。周囲温度で１時間後に溶媒を減
圧下に蒸発させる。３．１０ｇの所期のアルコールエス
テルを得た。ｍｐ＝５８〜５９℃（エチルエーテル−ヘ
キサン混合物より再結晶化後）。工程Ｄ ：cis −２，２−ジメチル−３−〔１−（４−メ
チルフェノキシカルボノチオイルオキシ）−２−メチル
プロピル〕−１−シクロプロパンカルボン酸メチル ０．２ｇの上記工程で得たアルコールエステルと０．１
６mlのピリジンを６mlの乾燥塩化メチレンに加えてなる
混合物に０．３mlのクロルチオぎ酸Ｏ−ｐ−トリルを滴
下する。４８時間後に反応混合物を最小量のシリカ（≒
２ｇ）に０℃で吸着させ、次いでシリカでクロマトグラ
フィーし、２％のエーテルを含むヘキサンで溶離する。
この方法で０．３８３ｇのチオ炭酸エステルを得た。ｍ
ｐ＝９２〜９３℃（ヘキサンから再結晶化後）。工程Ｅ ：cis 菊酸メチル ０．６９３ｇの上記工程で得たチオ炭酸エステルを１０
mlの１，２，４−トリクロルベンゼンに溶解してなる溶
液を１４０℃までゆっくりと加熱し、次いでこの温度に
１５分間保つ。冷却した後、溶液をシリカカラムに直接
注ぎ、２％のエーテルを含むヘキサンで溶離する。０．
３２３ｇの所期のcis −菊酸メチルを回収した。
−７−オキサ−２，３−ジアザビシクロ−２−オクテン
−８−オン（化合物Ｃ）及び４，４−ジメチル−８−
（１−メチルエチル）−７−オキサ−２，３−ジアザビ
シクロ−２−オクテン−６−オン（化合物Ｄ） 例１に記載のようにして出発時で３（ＲＳ）−ヒドロキ
シ−４−メチル−２−ペンチンを用いて得た７．７０ｇ
の５（ＲＳ）−（１−メチルエチル）−２（５Ｈ）−フ
ラノンを２０mlのエーテルに溶解してなる溶液に、C. D
ietrich - Buchecker 及び M. Franck - Neumann両氏の
方法（Tetrahedron ３３、７４５（１９７７））に従っ
て製造した２−ジアゾプロパンをエーテル−エチルベン
ゼン混合物に溶解してなる３Ｍ溶液４０mlを５mlづつで
温度を約−１０℃に保ちながら添加する。周囲温度で２
時間後にエーテルを周囲温度で除去する。残留物をシリ
カでクロマトグラフィーし、２０％のエーテルを含むヘ
キサンで溶離する。この方法で４．４ｇの結晶化する化
合物Ｄの画分（ｍｐ＝６８〜６９℃）及び無色液状の
７．２５ｇの化合物Ｃの画分を得た。工程Ｂ ：６，６−ジメチル−１−（１−メチルエチル）
−３−オキサビシクロヘキサン−２−オン ３．５０ｇの上で得た化合物Ｄと７．００ｇのベンゾフ
ェノンを１リットルのベンゼンに溶解してなる溶液にフ
ィリップス型ＨＰＫ１２５の水銀灯により理論量の窒素
の全てが放出されるまで照射する。溶媒を蒸発させた
後、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、まず５％
のエーテル、次いで１０％のエーテルをそれぞれ含むヘ
キサンで溶離する。２．７３ｇの所期のシクロプロパン
ラクトンを回収した。ｂｐ＝４７〜４８℃／０．０５mm
Hg。４．３０ｇの化合物Ｃを９．０ｇのベンゾフェノン
の存在下に１リットルのベンゼンに溶解してなる溶液を
上記と同じ条件下で光分解し、上述のように窒素を完全
に発生させ、分離をした後、３．３０ｇの同一のシクロ
プロパンラクトンを得た。工程Ｃ ：cis −２，２−ジメチル−３−（１−ヒドロキ
シ−２−メチル）プロピル−１−シクロプロパンカルボ
ン酸メチル ２．７ｇの上で得たシクロプロパンラクトンを４０mlの
エタノールに溶解してなる溶液を、７．５ｇの水酸化カ
リウムを２０mlの水に溶解してなる溶液と混合する。周
囲温度で４８時間後に、そしてエタノールの大部分を減
圧下に除去した後、水を添加し、水溶液をエーテルで洗
う。次いで水性相を１０％塩酸で酸性化し、エーテルで
抽出する。有機抽出物を脱水し、濃縮し、アルコール酸
（２．９ｇ）を僅かに過剰のジアゾメタンエーテル溶液
により直ちに処理する。周囲温度で１時間後に溶媒を減
圧下に蒸発させる。３．１０ｇの所期のアルコールエス
テルを得た。ｍｐ＝５８〜５９℃（エチルエーテル−ヘ
キサン混合物より再結晶化後）。工程Ｄ ：cis −２，２−ジメチル−３−〔１−（４−メ
チルフェノキシカルボノチオイルオキシ）−２−メチル
プロピル〕−１−シクロプロパンカルボン酸メチル ０．２ｇの上記工程で得たアルコールエステルと０．１
６mlのピリジンを６mlの乾燥塩化メチレンに加えてなる
混合物に０．３mlのクロルチオぎ酸Ｏ−ｐ−トリルを滴
下する。４８時間後に反応混合物を最小量のシリカ（≒
２ｇ）に０℃で吸着させ、次いでシリカでクロマトグラ
フィーし、２％のエーテルを含むヘキサンで溶離する。
この方法で０．３８３ｇのチオ炭酸エステルを得た。ｍ
ｐ＝９２〜９３℃（ヘキサンから再結晶化後）。工程Ｅ ：cis 菊酸メチル ０．６９３ｇの上記工程で得たチオ炭酸エステルを１０
mlの１，２，４−トリクロルベンゼンに溶解してなる溶
液を１４０℃までゆっくりと加熱し、次いでこの温度に
１５分間保つ。冷却した後、溶液をシリカカラムに直接
注ぎ、２％のエーテルを含むヘキサンで溶離する。０．
３２３ｇの所期のcis −菊酸メチルを回収した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バンサント・ブロワ フランス国パリ、アブニュ・ド・ビラー ル、15
Claims (1)
- 【請求項１】 新規工業用化合物としてのラセミ又は
光学活性のｃｉｓ配置の次式（ＩＶ） 【化１】 （ここでＲは１〜６個の炭素原子を含有するアルキル基
を表わし、Ａｒは置換されていてもよい６〜１２個の炭
素原子を含有するアリール基を表わす） の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR83-12073 | 1983-07-21 | ||
| FR8312073A FR2549470B1 (fr) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | Procede de preparation d'esters d'alcoyle de l'acide cis-chrysanthemique et nouveaux intermediaires obtenus |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59149843A Division JPS6041637A (ja) | 1983-07-21 | 1984-07-20 | ｃｉｓ−菊酸アルキルエステルの製造方法及びこれより得られる新規化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0525090A JPH0525090A (ja) | 1993-02-02 |
| JPH0637430B2 true JPH0637430B2 (ja) | 1994-05-18 |
Family
ID=9291004
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59149843A Granted JPS6041637A (ja) | 1983-07-21 | 1984-07-20 | ｃｉｓ−菊酸アルキルエステルの製造方法及びこれより得られる新規化合物 |
| JP3203746A Expired - Lifetime JPH0637430B2 (ja) | 1983-07-21 | 1991-07-19 | ｃｉｓ−菊酸アルキルエステルの製造用中間体化合物 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59149843A Granted JPS6041637A (ja) | 1983-07-21 | 1984-07-20 | ｃｉｓ−菊酸アルキルエステルの製造方法及びこれより得られる新規化合物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4551545A (ja) |
| EP (1) | EP0135415B1 (ja) |
| JP (2) | JPS6041637A (ja) |
| DE (1) | DE3463381D1 (ja) |
| FR (1) | FR2549470B1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2624511B1 (fr) * | 1987-12-11 | 1990-09-21 | Roussel Uclaf | Procede enantioselectif pour preparer des derives de l'aldehyde hemicaronique de structure trans ou cis |
| JPH075400B2 (ja) * | 1989-12-22 | 1995-01-25 | 東洋インキ製造株式会社 | 水性有機珪素系組成物 |
| CN116854691A (zh) * | 2022-03-27 | 2023-10-10 | 重庆博腾制药科技股份有限公司 | 杂双环衍生物的制备方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US3836568A (en) * | 1970-12-28 | 1974-09-17 | Sumitomo Chemical Co | Process for production of lower alkyl esters of cis-chrysanthemum monocarboxylic acid |
| US3864376A (en) * | 1973-04-30 | 1975-02-04 | Zoecon Corp | Cyclopropylmethyl carbonates |
| GB1572183A (en) * | 1975-09-05 | 1980-07-23 | Wellcome Found | Cyclopropane carboxylic acid ester synthesis and intermediates therefor |
| FR2355797A1 (fr) * | 1975-09-05 | 1978-01-20 | Wellcome Found | Procede de preparation de vinylcyclopropanes substitues utilisables dans la preparation d'insecticides |
| CA1146578A (en) * | 1979-03-27 | 1983-05-17 | Petrus A. Kramer | Trihalomethyl carbonate derivatives and a process for their production |
| GB2085428A (en) * | 1980-10-09 | 1982-04-28 | Shell Int Research | Process for the preparation of cyclopropane derivatives |
| CA1167048A (en) * | 1980-10-22 | 1984-05-08 | Petrus A. Kramer | Cyclopropane derivatives, processes for their preparation and their use in the preparation of dihalovinylcyclopropane carboxylic acids |
-
1983
- 1983-07-21 FR FR8312073A patent/FR2549470B1/fr not_active Expired
-
1984
- 1984-07-18 US US06/632,203 patent/US4551545A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-07-19 EP EP84401520A patent/EP0135415B1/fr not_active Expired
- 1984-07-19 DE DE8484401520T patent/DE3463381D1/de not_active Expired
- 1984-07-20 JP JP59149843A patent/JPS6041637A/ja active Granted
-
1985
- 1985-07-16 US US06/755,486 patent/US4677218A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-07-19 JP JP3203746A patent/JPH0637430B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4677218A (en) | 1987-06-30 |
| JPH0525090A (ja) | 1993-02-02 |
| FR2549470B1 (fr) | 1985-12-27 |
| US4551545A (en) | 1985-11-05 |
| JPH053457B2 (ja) | 1993-01-14 |
| JPS6041637A (ja) | 1985-03-05 |
| EP0135415A2 (fr) | 1985-03-27 |
| DE3463381D1 (en) | 1987-06-04 |
| EP0135415A3 (en) | 1985-07-03 |
| FR2549470A1 (fr) | 1985-01-25 |
| EP0135415B1 (fr) | 1987-04-29 |
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|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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