JPH0638894B2 - 逆浸透分離膜処理装置 - Google Patents
逆浸透分離膜処理装置Info
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- JPH0638894B2 JPH0638894B2 JP63142218A JP14221888A JPH0638894B2 JP H0638894 B2 JPH0638894 B2 JP H0638894B2 JP 63142218 A JP63142218 A JP 63142218A JP 14221888 A JP14221888 A JP 14221888A JP H0638894 B2 JPH0638894 B2 JP H0638894B2
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- reverse osmosis
- degassing
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、電子工業や製薬工業などに用いる超純水など
を得るための、水の純化処理技術に関する。さらに詳し
くは、供給水を逆浸透分離膜モジュールと、脱気膜モジ
ュールとで処理し、供給水の軟水化をし、かつ溶存ガス
を除去する逆浸透分離膜処理装置に関する。
を得るための、水の純化処理技術に関する。さらに詳し
くは、供給水を逆浸透分離膜モジュールと、脱気膜モジ
ュールとで処理し、供給水の軟水化をし、かつ溶存ガス
を除去する逆浸透分離膜処理装置に関する。
［従来の技術］ 逆浸透分離膜処理装置は原水中の塩類、微粒子、有機化
合物などを有効に排除する手段として有用である。その
ため電子工業や製薬工業、原子力発電など多くの用途で
実用化されている。しかし逆浸透膜では原水中の溶存酸
素や炭酸などの気体を除去することができず、この溶存
気体が多いと好ましくない問題を発生させる。したがっ
てこの溶存気体を除去するため、従来から真空槽を用い
た例（特開昭５８−１４９０５号公報、特開昭５８−１
０１７８４号公報、特開昭５８−１８６４９０号公報な
ど）、多孔質の脱気膜を用いた例（実開昭５７−３５７
９５号公報、特開昭６２−２７３０９５号公報）など、
いくつかの技術が提案されている。
合物などを有効に排除する手段として有用である。その
ため電子工業や製薬工業、原子力発電など多くの用途で
実用化されている。しかし逆浸透膜では原水中の溶存酸
素や炭酸などの気体を除去することができず、この溶存
気体が多いと好ましくない問題を発生させる。したがっ
てこの溶存気体を除去するため、従来から真空槽を用い
た例（特開昭５８−１４９０５号公報、特開昭５８−１
０１７８４号公報、特開昭５８−１８６４９０号公報な
ど）、多孔質の脱気膜を用いた例（実開昭５７−３５７
９５号公報、特開昭６２−２７３０９５号公報）など、
いくつかの技術が提案されている。
［発明が解決しようとする課題］ しかし、前記した真空脱気槽を用いる例にあってはコス
トが高く小型化できないという問題点があった。
トが高く小型化できないという問題点があった。
また従来の多孔質膜を用いた脱気膜処理は、細孔の間に
いわゆる水垢や無機物、その他の固形物が付着しやす
く、このような夾雑物が付着すると、目詰まりが起きた
り、細孔付近が親水化して水が透過しやすくなるという
問題点があった。
いわゆる水垢や無機物、その他の固形物が付着しやす
く、このような夾雑物が付着すると、目詰まりが起きた
り、細孔付近が親水化して水が透過しやすくなるという
問題点があった。
本発明は、このような従来の欠点を解消するものであっ
て、脱気膜として、少なくとも多孔質支持体層と、その
上に設けた高分子均質層または緻密層からなる気体分離
膜を使用し、これと逆浸透膜とを直列に配置することに
より、全体として比較的小型で、耐久性に優れ、かつ安
価な逆浸透分離膜装置を提供することを目的としてい
る。
て、脱気膜として、少なくとも多孔質支持体層と、その
上に設けた高分子均質層または緻密層からなる気体分離
膜を使用し、これと逆浸透膜とを直列に配置することに
より、全体として比較的小型で、耐久性に優れ、かつ安
価な逆浸透分離膜装置を提供することを目的としてい
る。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するため本発明は下記の構成からなる。
(1) 逆浸透分離膜モジュールと、脱気膜モジュールと
を、被処理水ラインに直列に設けた分離膜処理装置にお
いて、前記脱気膜は少なくとも多孔質支持体層と、その
上に設けた高分子均質層または緻密層からなり、かつ酸
素分離係数αが１．３以上［ただしα＝ＱO2／ＱN2を示
す］であることを特徴とする分離膜処理装置。
を、被処理水ラインに直列に設けた分離膜処理装置にお
いて、前記脱気膜は少なくとも多孔質支持体層と、その
上に設けた高分子均質層または緻密層からなり、かつ酸
素分離係数αが１．３以上［ただしα＝ＱO2／ＱN2を示
す］であることを特徴とする分離膜処理装置。
逆浸透分離膜モジュールに使用される逆浸透膜としては
いかなるものも用いることができる。たとえば酢酸セル
ロース系非対称性膜、ポリアミド系複合合成膜（例え
ば、特開昭６２−１２１６０３号公報、特開昭６２−２
０１６０６号公報、特開昭５５−１４７１０６号公報）
等が例示される。逆浸透分離膜モジュールの形態として
はいかなるタイプのものであってもよく、スパイラルモ
ジュール、中空糸モジュール、あるいは平膜モジュール
等が例示される。
いかなるものも用いることができる。たとえば酢酸セル
ロース系非対称性膜、ポリアミド系複合合成膜（例え
ば、特開昭６２−１２１６０３号公報、特開昭６２−２
０１６０６号公報、特開昭５５−１４７１０６号公報）
等が例示される。逆浸透分離膜モジュールの形態として
はいかなるタイプのものであってもよく、スパイラルモ
ジュール、中空糸モジュール、あるいは平膜モジュール
等が例示される。
脱気膜モジュールの脱気膜は、少なくとも多孔質支持体
層と、その上に設けた高分子均質層または緻密層からな
り、かつ酸素分離係数αが１．３以上［ただしα＝ＱO2
／ＱN2を示す］である。図面を用いてそのモデルを示す
と、第１図のようになる。すなわち第１図の番号１は高
分子均質層または緻密層を示し、番号２は多孔質支持体
層である。多孔質支持体層２の下には、平膜の場合はタ
フタ織物などの補強層があるのが好ましいが、中空糸の
場合はとくに補強層は必要でない。高分子均質層とは、
多孔質支持体層２の高分子材料と同一、または別な高分
子材料で構成される層をいい、少なくとも２層を別々に
製造するものをいう。緻密層とは、多孔質支持体層２の
高分子材料と同じ高分子材料で構成される層をいい、１
工程で製造するものをいう。
層と、その上に設けた高分子均質層または緻密層からな
り、かつ酸素分離係数αが１．３以上［ただしα＝ＱO2
／ＱN2を示す］である。図面を用いてそのモデルを示す
と、第１図のようになる。すなわち第１図の番号１は高
分子均質層または緻密層を示し、番号２は多孔質支持体
層である。多孔質支持体層２の下には、平膜の場合はタ
フタ織物などの補強層があるのが好ましいが、中空糸の
場合はとくに補強層は必要でない。高分子均質層とは、
多孔質支持体層２の高分子材料と同一、または別な高分
子材料で構成される層をいい、少なくとも２層を別々に
製造するものをいう。緻密層とは、多孔質支持体層２の
高分子材料と同じ高分子材料で構成される層をいい、１
工程で製造するものをいう。
前記において多孔質支持体層の好ましい高分子として
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリ
アクリレート、ポリメタクリレート、テフロン（ポリ４
フッ化エチレン）、シリコーン、ポリスルホン、ポリカ
ーボネートなどが例示される。このうちとくに好ましく
はポリスルホン、またはポリプロピレンである。多孔質
支持体層の厚さは任意のものとすることができる。好ま
しくは数ミクロン〜数ｍｍである。多孔質支持体の空隙
率は１０〜８０％程度のものがよい。この多孔質支持体
を製造するには、一例としてポリエーテルスルホンを挙
げると、ジメチルホルムアミドなどの溶媒を用いてキャ
スト製膜し、次いで水の中で溶媒を除去することにより
得られる。
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリ
アクリレート、ポリメタクリレート、テフロン（ポリ４
フッ化エチレン）、シリコーン、ポリスルホン、ポリカ
ーボネートなどが例示される。このうちとくに好ましく
はポリスルホン、またはポリプロピレンである。多孔質
支持体層の厚さは任意のものとすることができる。好ま
しくは数ミクロン〜数ｍｍである。多孔質支持体の空隙
率は１０〜８０％程度のものがよい。この多孔質支持体
を製造するには、一例としてポリエーテルスルホンを挙
げると、ジメチルホルムアミドなどの溶媒を用いてキャ
スト製膜し、次いで水の中で溶媒を除去することにより
得られる。
多孔質支持体は高分子均質膜または緻密膜を支持する機
能をはたすもので、表面の孔の大きさが約１０Å〜５０
００Å、好ましくは約１０Å〜１０００Åである。ま
た、気体の透過抵抗になりにくいように非対称構造を持
つことが好ましい。気体透過性としては、窒素透過速度
で１０（m3／m2・hr／atm ）以上のものが好ましい。
能をはたすもので、表面の孔の大きさが約１０Å〜５０
００Å、好ましくは約１０Å〜１０００Åである。ま
た、気体の透過抵抗になりにくいように非対称構造を持
つことが好ましい。気体透過性としては、窒素透過速度
で１０（m3／m2・hr／atm ）以上のものが好ましい。
次に高分子均質層または緻密層の好ましい材料として
は、酸素透過係数 が、１×１０-8（cm3・cm／cm2・cmHg・sec ）以上の高
分子である。
は、酸素透過係数 が、１×１０-8（cm3・cm／cm2・cmHg・sec ）以上の高
分子である。
かかる高分子の具体例としては、ポリオルガノシロキサ
ン、架橋型ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロ
キサン／ポリカーボネート共重合体、ポリオルガノシロ
キサン／ポリフェニレン共重合体、ポリオルガノシロキ
サン／ポリスチレン共重合体、ポリトリメチルシリルプ
ロピンなどが挙げられる。この中でも、機械的強度が高
く酸素透過係数が大きいという点で、架橋型ポリジメチ
ルシロキサンが最も好ましい。この架橋型ポリジメチル
シロキサンは、製法によって、得られる薄膜の性能が異
なり、特開昭 60-257803、特願昭61-60272、特願昭61-5
9269に記載されている製法に従って得られた架橋型ポリ
ジメチルシロキサンの薄膜が気体透過性に優れ、ピンホ
ールが少ないため好ましい。これらは酸素分離係数α
［ただし が高いからである。たとえばポリシロキサンはα＝２．
０〜２．１、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）はα＝
４．０、ポリスチレンはα＝８．５、ニトロセルロース
はα＝１０．０である。また緻密層としてはエチルセル
ロースなどを用いることができる。
ン、架橋型ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロ
キサン／ポリカーボネート共重合体、ポリオルガノシロ
キサン／ポリフェニレン共重合体、ポリオルガノシロキ
サン／ポリスチレン共重合体、ポリトリメチルシリルプ
ロピンなどが挙げられる。この中でも、機械的強度が高
く酸素透過係数が大きいという点で、架橋型ポリジメチ
ルシロキサンが最も好ましい。この架橋型ポリジメチル
シロキサンは、製法によって、得られる薄膜の性能が異
なり、特開昭 60-257803、特願昭61-60272、特願昭61-5
9269に記載されている製法に従って得られた架橋型ポリ
ジメチルシロキサンの薄膜が気体透過性に優れ、ピンホ
ールが少ないため好ましい。これらは酸素分離係数α
［ただし が高いからである。たとえばポリシロキサンはα＝２．
０〜２．１、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）はα＝
４．０、ポリスチレンはα＝８．５、ニトロセルロース
はα＝１０．０である。また緻密層としてはエチルセル
ロースなどを用いることができる。
多孔質支持体上に架橋型ポリジメチルシロキサンから成
る均質膜を設ける方法としては、具体的には下記のイ〜
ハに示すような方法がある。
る均質膜を設ける方法としては、具体的には下記のイ〜
ハに示すような方法がある。
イ．特開昭60-257803 に示されている、末端にシラノー
ル基を有するポリジメチルシロキサンと四官能以上のシ
ラン架橋剤、または四官能以上のシロキサン架橋剤を溶
媒に混合して得られた溶液を多孔質支持体上に塗工して
得る方法。
ル基を有するポリジメチルシロキサンと四官能以上のシ
ラン架橋剤、または四官能以上のシロキサン架橋剤を溶
媒に混合して得られた溶液を多孔質支持体上に塗工して
得る方法。
ロ．特願昭61-60272で示されている、側鎖の末端がアミ
ノ変成されたポリオルガノシロキサンと、側鎖の末端が
イソシアネート変成されたポリオルガノシロキサンを溶
媒に混合して得られた溶液を多孔質支持体上に塗工して
得る方法。
ノ変成されたポリオルガノシロキサンと、側鎖の末端が
イソシアネート変成されたポリオルガノシロキサンを溶
媒に混合して得られた溶液を多孔質支持体上に塗工して
得る方法。
ハ．特願昭61-59269で示されている、側鎖の末端がシラ
ノール変成されたポリオルガノシロキサンとシラン架橋
剤またはシロキサン架橋剤を溶媒に混合した溶液を多孔
質支持体上に塗工して得る方法。
ノール変成されたポリオルガノシロキサンとシラン架橋
剤またはシロキサン架橋剤を溶媒に混合した溶液を多孔
質支持体上に塗工して得る方法。
高分子均質膜または緻密膜の膜厚は、気体透過性の点
で、薄いほど好ましいが、ピンホールの発生を考え合せ
ると極度に薄いものは適当ではない。
で、薄いほど好ましいが、ピンホールの発生を考え合せ
ると極度に薄いものは適当ではない。
上記記載された製法に従えば、膜厚が０．１μｍ程度ま
でピンホールフリーの薄膜を作成することが可能である
ため０．１μｍに近いほど好ましい。
でピンホールフリーの薄膜を作成することが可能である
ため０．１μｍに近いほど好ましい。
本発明の脱気膜全体としては、酸素分離係数αが１．３
以上であることが必要である。分離効率が高いからであ
る。酸素分離係数αは１．５以上であればさらに好まし
く、とくには、２．０以上である。参考までに従来技術
の多孔質の脱気膜の酸素分離係数αは１．０またはそれ
以下のものである。
以上であることが必要である。分離効率が高いからであ
る。酸素分離係数αは１．５以上であればさらに好まし
く、とくには、２．０以上である。参考までに従来技術
の多孔質の脱気膜の酸素分離係数αは１．０またはそれ
以下のものである。
前記した多孔質支持体と高分子均質層の組み合わせの代
表的例としては、特開昭５３−８６６８４号公報があ
り、多孔質支持体と緻密層の組み合わせの例としては、
特開昭５２−５５７１９号公報、特開昭５８−９５５２
５号公報などがある。
表的例としては、特開昭５３−８６６８４号公報があ
り、多孔質支持体と緻密層の組み合わせの例としては、
特開昭５２−５５７１９号公報、特開昭５８−９５５２
５号公報などがある。
本発明においてこのような気体分離膜、とくに酸素濃縮
膜を用いるのは、水中の溶存酸素を特異的に除去できる
からである。たとえば多孔質支持体にポリスルホンを用
い、高分子均質層にポリシロキサンを用いた脱気膜を用
いて、４０torr程度の減圧で、原水中の溶存酸素は１／
８程度以下に減少する。
膜を用いるのは、水中の溶存酸素を特異的に除去できる
からである。たとえば多孔質支持体にポリスルホンを用
い、高分子均質層にポリシロキサンを用いた脱気膜を用
いて、４０torr程度の減圧で、原水中の溶存酸素は１／
８程度以下に減少する。
従来酸素濃縮膜の濃縮の原理は、空気中の酸素をいった
ん膜中に溶解し、これを透過側に拡散するという考えか
たが定説である。したがってこの膜を水中の脱気に使用
しても、飽和水蒸気中のわずかな溶存酸素の除去は分離
効率が悪いと考えるのが普通の当業者の予想である。し
かしながら実際は前記のとおり極めて分離効率がよく、
さらに長期安定性に優れるという予期できない効果を奏
することがなかった。
ん膜中に溶解し、これを透過側に拡散するという考えか
たが定説である。したがってこの膜を水中の脱気に使用
しても、飽和水蒸気中のわずかな溶存酸素の除去は分離
効率が悪いと考えるのが普通の当業者の予想である。し
かしながら実際は前記のとおり極めて分離効率がよく、
さらに長期安定性に優れるという予期できない効果を奏
することがなかった。
このような脱気膜モジュールの形態として、スパイラル
モジュール、中空糸モジュール、あるいは平膜モジュー
ル等が例示される。
モジュール、中空糸モジュール、あるいは平膜モジュー
ル等が例示される。
上述したような、逆浸透分離膜モジュールおよび脱気膜
モジュールは、被処理水ラインに直列に設けられる限
り、いずれのモジュールが上流側に置かれてもよい。
モジュールは、被処理水ラインに直列に設けられる限
り、いずれのモジュールが上流側に置かれてもよい。
さらに本発明においては、逆浸透膜を用いた分離装置の
濃縮水流出側にエゼクタの駆動水側を接続するととも
に、脱気膜を用いた脱気装置の吸引配管にエゼクタの吸
引側を接続し、逆浸透装置の濃縮水の残圧を用いて脱気
装置を真空にすることが好ましい。回収エネルギーを有
効に使えるからである。
濃縮水流出側にエゼクタの駆動水側を接続するととも
に、脱気膜を用いた脱気装置の吸引配管にエゼクタの吸
引側を接続し、逆浸透装置の濃縮水の残圧を用いて脱気
装置を真空にすることが好ましい。回収エネルギーを有
効に使えるからである。
本発明に係る純水用脱気装置は、被処理水中の炭酸ガス
等を除去して、本装置に接続される後段のイオン交換器
の負荷を軽減させたり、薬液の処理を軽減または省略で
きる用途の他、水中の溶存ガスを除去して無泡水を製造
する用途等に用いられる。
等を除去して、本装置に接続される後段のイオン交換器
の負荷を軽減させたり、薬液の処理を軽減または省略で
きる用途の他、水中の溶存ガスを除去して無泡水を製造
する用途等に用いられる。
［実施例］ 以下の実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
膜性能の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りであ
る。
る。
気体分離性の測定は下記のとおりとした。
また、脱気膜の性能は、気体分離膜を隔てて、一次側の
圧力を２atm 、二次側の圧力を１atm にし、気体（酸素
または窒素）透過速度を精密膜流量計ＳＦ−１０１（ス
タンダード・テクノロジー社製）で測定した。
圧力を２atm 、二次側の圧力を１atm にし、気体（酸素
または窒素）透過速度を精密膜流量計ＳＦ−１０１（ス
タンダード・テクノロジー社製）で測定した。
酸素透過速度 （単位はm3／m2・hr・atm である。）を気体透過性能と
し、酸素透過速度と窒素透過速度 （単位はm3／m2・hr・atm である。）の比である分離係
数αを気体分離性能の評価基準とした。
し、酸素透過速度と窒素透過速度 （単位はm3／m2・hr・atm である。）の比である分離係
数αを気体分離性能の評価基準とした。
脱気膜としては、多孔質支持体材料にポリエーテルスル
ホン（アモコ社、旧ユニオンカーバイド社製Ｐ−３５０
０）を用い、溶媒にジメチルホルムアミドを用いて、ポ
リエステルタフタ上にキャストし水中で脱溶媒して多孔
質層とした。この上に特開昭６２−１４０６２０号公報
に記載されている方法でポリジメチルシロキサンの均質
膜を形成した。この脱気膜の分離係数αは２．０であっ
た。
ホン（アモコ社、旧ユニオンカーバイド社製Ｐ−３５０
０）を用い、溶媒にジメチルホルムアミドを用いて、ポ
リエステルタフタ上にキャストし水中で脱溶媒して多孔
質層とした。この上に特開昭６２−１４０６２０号公報
に記載されている方法でポリジメチルシロキサンの均質
膜を形成した。この脱気膜の分離係数αは２．０であっ
た。
逆浸透膜は東レ株式会社製品のＵＴＣ−７０（架橋ポリ
アラミド）を用いた。
アラミド）を用いた。
実施例１ 第２図は、本発明の一実施例に係る純水用逆浸透膜処理
装置のプロセス図である。
装置のプロセス図である。
この実施例に係るフローシートは、被処理水ラインの上
流側に逆浸透分離膜モジュール５が、下流側に脱気膜モ
ジュール６が設けられている。原水（供給水）３は供給
ポンプ４で昇圧され、逆浸透分離膜モジュール５で脱塩
処理され、次いで脱気膜モジュール６で溶存酸素が除去
され、精製水はライン７から取り出す。逆浸透分離膜モ
ジュール５は４インチの直径のスパイラルモジュールを
用い、直列に１本用いた。また原水の供給圧力は５kg／
cm2とした。原水の供給量は１０／分であった。また
脱気膜モジュール６の透過ガス流路側に前記逆浸透膜を
用いた分離装置の濃縮水流出側にエゼクタ８の駆動水側
を接続するとともに、脱気膜を用いた脱気装置の吸引配
管にエゼクタ８の吸引側を接続し、逆浸透装置の濃縮水
の残圧を用いて脱気装置を真空（真空度４０torr）にし
た。
流側に逆浸透分離膜モジュール５が、下流側に脱気膜モ
ジュール６が設けられている。原水（供給水）３は供給
ポンプ４で昇圧され、逆浸透分離膜モジュール５で脱塩
処理され、次いで脱気膜モジュール６で溶存酸素が除去
され、精製水はライン７から取り出す。逆浸透分離膜モ
ジュール５は４インチの直径のスパイラルモジュールを
用い、直列に１本用いた。また原水の供給圧力は５kg／
cm2とした。原水の供給量は１０／分であった。また
脱気膜モジュール６の透過ガス流路側に前記逆浸透膜を
用いた分離装置の濃縮水流出側にエゼクタ８の駆動水側
を接続するとともに、脱気膜を用いた脱気装置の吸引配
管にエゼクタ８の吸引側を接続し、逆浸透装置の濃縮水
の残圧を用いて脱気装置を真空（真空度４０torr）にし
た。
このように構成することにより、被処理水に溶存してい
る各種の気体が、脱気膜６を介して取り除かれる。とく
に溶存酸素は８ppm が１ppm 以下に減少した。さらに長
期安定性にも優れていた。
る各種の気体が、脱気膜６を介して取り除かれる。とく
に溶存酸素は８ppm が１ppm 以下に減少した。さらに長
期安定性にも優れていた。
［発明の効果］ 本発明は、脱気膜として、少なくとも多孔質支持体層
と、その上に設けた高分子均質層または緻密層からな
り、かつ酸素分離係数αが１．３以上である膜を使用
し、これと逆浸透膜とを直列に配置することにより、全
体として比較的小型で、かつ安価な逆浸透分離膜装置を
提供することができた。
と、その上に設けた高分子均質層または緻密層からな
り、かつ酸素分離係数αが１．３以上である膜を使用
し、これと逆浸透膜とを直列に配置することにより、全
体として比較的小型で、かつ安価な逆浸透分離膜装置を
提供することができた。
また、装置の小型化により、被処理水の脱気をオンライ
ンで行うことができるので、本発明は、比較的小規模の
純水用脱気装置として好適である。
ンで行うことができるので、本発明は、比較的小規模の
純水用脱気装置として好適である。
第１図は本発明に使用する脱気膜の一例の断面図を示
す。第２図は本発明の実施例に係る純水用逆浸透膜処理
装置の構成の概略を示したブロック図である。 １：高分子均質層、または緻密層 ２：多孔質支持体層 ５：逆浸透分離膜モジュール ６：脱気膜モジュール ８：エジェクタ
す。第２図は本発明の実施例に係る純水用逆浸透膜処理
装置の構成の概略を示したブロック図である。 １：高分子均質層、または緻密層 ２：多孔質支持体層 ５：逆浸透分離膜モジュール ６：脱気膜モジュール ８：エジェクタ
Claims (2)
- 【請求項１】逆浸透分離膜モジュールと、脱気膜モジュ
ールとを、被処理水ラインに直列に設けた分離膜処理装
置において、前記脱気膜は少なくとも多孔質支持体層
と、その上に設けた高分子均質層または緻密層からな
り、かつ酸素分離係数αが１．３以上［ただしα＝ＱO2
／ＱN2を示す］であることを特徴とする分離膜処理装
置。 - 【請求項２】逆浸透膜を用いた分離装置の濃縮水流出側
にエゼクタの駆動水側を接続するとともに、脱気膜を用
いた脱気装置の吸引配管にエゼクタの吸引側を接続し、
逆浸透装置の濃縮水の残圧を用いて脱気装置を真空にす
ることを特徴とする請求項第(1) 項の分離膜処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63142218A JPH0638894B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 逆浸透分離膜処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63142218A JPH0638894B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-06-09 | 逆浸透分離膜処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH022802A JPH022802A (ja) | 1990-01-08 |
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