JPH0640708U - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JPH0640708U JPH0640708U JP7711892U JP7711892U JPH0640708U JP H0640708 U JPH0640708 U JP H0640708U JP 7711892 U JP7711892 U JP 7711892U JP 7711892 U JP7711892 U JP 7711892U JP H0640708 U JPH0640708 U JP H0640708U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 パンを繰返し焼く時のように加熱室が高温時
でもパンの両面をムラ無くほぼ均一に焼き上げる高周波
加熱装置を得るにある。 【構成】 被加熱物3を加熱調理する加熱室1内に高周
波加熱エネルギーを供給する高周波発生手段と、この高
周波発生手段を冷却する冷却手段8と、加熱室1内に輻
射熱を供給する上発熱部材5および下の発熱部材6と、
加熱室1内の温度を検知する温度検知部材7と、この温
度検知部材7による加熱室1内の温度に応じてパンなど
を繰返し焼く時に冷却手段8の連続運転および下発熱部
材6への断続通電を同時制御することによって加熱室1
底面2の温度上昇の抑止を図る制御手段9とで構成され
ている。
でもパンの両面をムラ無くほぼ均一に焼き上げる高周波
加熱装置を得るにある。 【構成】 被加熱物3を加熱調理する加熱室1内に高周
波加熱エネルギーを供給する高周波発生手段と、この高
周波発生手段を冷却する冷却手段8と、加熱室1内に輻
射熱を供給する上発熱部材5および下の発熱部材6と、
加熱室1内の温度を検知する温度検知部材7と、この温
度検知部材7による加熱室1内の温度に応じてパンなど
を繰返し焼く時に冷却手段8の連続運転および下発熱部
材6への断続通電を同時制御することによって加熱室1
底面2の温度上昇の抑止を図る制御手段9とで構成され
ている。
Description
本考案は、パンを繰返して焼く時に、加熱室内の温度に応じて冷却手段の連続 運転制御および下発熱部材の断続通電制御を同時に行なうことによってパンの両 面をムラ無くほぼ均一に焼上げる高周波加熱装置に関するものである。
従来の高周波加熱装置にあっては、上、下両ヒータを備えた高周波加熱装置で 連続してパンを焼く場合の加熱室内の温度は、パンを焼き始めてから二回目、三 回目と連続してパンを焼くにつれて加熱室内の温度が次第に上昇する。 従って連続してパンを焼く場合、もしパンの焼き上げに要する時間を常に一定 にするとパンの焼き上がり状態に差が出てしまい、パンの焼き上げ回数が多くな るほどパンの焦げ目が濃くなって来る。 これに対して、特開平1-294395号公報や特開平1-315982号公報に提示されるよ うに、連続してパンを焼く場合に、パンを焼き始めるのと同時に上下両ヒータに 通電を開始し、それら上下両ヒータによる加熱によって加熱室内が所定温度に到 達した時点からは上下両ヒータへの通電を断続させるほかマグネトロンなどの高 周波発生手段の冷却ファンの運転を開始して加熱室内の温度をある一定の所定温 度に保持し、さらに二回目、三回目と繰返してパンを焼く場合も同様加熱室内の 温度に応じて上下両ヒータへの通電および冷却ファンの運転を制御し乍らパンの 焼き上げ時間を制御するものがある。
しかるにかかるものにあっては、上下両ヒータへの通電および冷却ファンの運 転制御を行なって加熱室内の温度をある一定の所定温度に保持するようにしたと しても、通例上ヒータに比して下ヒータがパンの載置部材に近接して設けられて いるため加熱室底面の温度が上昇気味となり、パンを繰返して焼いた場合にはど うしてもパン裏面の焦げが濃くなる傾向にある。
本考案は前述の課題を解決するためになされたものであり、加熱室内に高周波 加熱エネルギーを供給する高周波発生手段の冷却手段と、前述加熱室内を加熱す る上下の発熱部材と、前述加熱室内の温度を検知する温度検知部材と、前述加熱 室内の温度に応じて前述冷却手段の運転制御および前述発熱部材の通電制御を行 なう制御手段とで構成され、この制御手段によって繰返して同一調理を行なう時 に前述冷却手段の連続運転および前述下発熱部材の断続通電を同時に制御すると ともに前述加熱室底面の温度上昇の抑止を図るようにしたものである。
パンを繰返して焼く場合には、前述制御手段によって前述冷却手段の連続運転 および前述下発熱部材への断続通電を同時に制御するとともにこの同時制御によ って前述加熱室底面の温度上昇の抑止を図ったので、下発熱部材による前述加熱 室底面の過度の温度上昇が回避されるようになり、パンの一面側が接する載置部 材表面の温度とパンの他面側が接触する加熱室内の雰囲気温度がほぼ同じ程度に 保持される。
以下、本考案の一実施例を図に従って説明する。 図1は本考案の一実施例による高周波加熱装置の概略の横断面図、図2は同じ く冷却手段の連続運転および下発熱部材への断続通電を制御する場合の概略の回 路図、図3は同じく加熱室底面の概略の温度上昇特性図である。 図において1は加熱室で、この加熱室1内の底面2近傍には例えばパンなどの 被加熱物3を載置して回転する載置部材4が設けられている。 5および6はそれぞれ上発熱部材および下発熱部材で、前述加熱室1の上外面 および前述底面2の下外面に設けられており、この下発熱部材6は例えばパンな どの被加熱物3を繰返して焼く時には後述する温度検知部材7からの検知温度を 基に後述する制御手段9によって断続通電制御が行なわれるものである。 7は温度検知部材で、前述加熱室1の上内面に設けられており、前述被加熱物 3の加熱調理時に前述加熱室1内の温度を検知し、後述する制御手段9にその検 知結果を知らせるものである。 8はマグネトロンなどの高周波発生手段(図示省略)を冷却するための冷却手段 で、前述加熱室1の外側面(図示省略)に設けられており、前述同様パンなどの被 加熱物3を繰返して焼く時には温度検知部材7からの検知温度を基に後述する制 御手段9によって連続運転制御されるものである。 9は制御手段で、高周波加熱装置の本体内(図示省略)に設けられており、前述 温度検知部材7からの検知温度に基いて例えばパンなどの被加熱物3を繰返して 焼く時に下発熱部材6への断続通電と冷却手段8の連続運転を同時に行なうよう に制御するものである。 次に、上記構成における作用を図によって説明する。 パンなどの被加熱物3の加熱調理を連続して行なう場合、まず加熱室1内の載 置部材4上に被加熱物3を載置してからドア(図示省略)を閉める。 次に加熱調理の開始を指示(説明省略)すると、制御手段9によって例えば上発 熱部材5および下発熱部材6への連続通電制御が行なわれ、加熱室1内の温度は 次第に上昇する。 この上昇した加熱室1内の温度は温度検知部材7によって検知される。 この時この検知された温度が制御手段9によって所定の温度以上と判断された 時点から下発熱部材6への断続通電と冷却手段8の連続通電が同時に行なわれる ように制御手段9によって制御される。 そのために被加熱物3が載置されている載置部材4表面の急激な温度上昇が抑 止される。 従って前述下発熱部材6への断続通電および冷却手段8の連続通電の経過とと もに前述載置部材4表面の温度と、載置部材4表面近傍の前述加熱室1内の雰囲 気温度がほぼ同じ程度に安定して来る。 このような温度状態を常時保持することによって、パンなどの被加熱物3の加 熱調理を繰返し行なっても、パンの両面の温度をいつもほぼ同じように保てる。 パンの繰返し焼き上げ調理時には、載置部材4表面温度と載置部材4表面近傍 の前述加熱室1内の雰囲気温度が常時ほぼ同じ程度になるように保持され、しか もパンの繰返し焼き上げ調理条件が常に一定になるように前述制御手段9によっ て管理されることは言うまでもない。
パンの繰返し焼き上げ調理時に、制御手段によって冷却手段の連続運転および 下発熱部材への断続通電を同時に制御するとともに加熱室底面の温度上昇を抑止 して下発熱部材による加熱室底面の過度の温度上昇を回避するので、パンの一面 側が接する載置部材表面の温度とパンの他面側が接触する加熱室内の雰囲気温度 がほぼ同じ程度に保持され、パンの両面はムラ無くほぼ均一に焼き上げられる。
【図1】本考案の一実施例による高周波加熱装置の概略
の横断面図である。
の横断面図である。
【図2】同じく冷却手段の連続運転および下発熱部材へ
の断続通電を制御する場合の概略の回路図である。
の断続通電を制御する場合の概略の回路図である。
【図3】同じく加熱室底面の概略の温度上昇特性図であ
る。
る。
1 加熱室 2 底面 3 被加熱物 5 上発熱部材 6 下発熱部材 7 温度検知部材 8 冷却部材 9 制御手段
Claims (4)
- 【請求項1】 被加熱物(3)を加熱調理するための加熱
室(1)と、この加熱室内に高周波加熱エネルギーを供給
するための高周波発生手段と、この高周波発生手段を冷
却するための冷却手段(8)と、前記加熱室内に夫々輻射
熱を供給するための上発熱部材(5)および下発熱部材
(6)と、これら両発熱部材および前記高周波発生手段に
よって加熱される前記加熱室内の温度を検知するための
温度検知部材(7)と、この温度検知部材によって検知さ
れる前記加熱室内の温度に応じて前記冷却手段の運転制
御および前記発熱部材への通電制御を行なうための制御
手段(9)とで構成したことを特徴とする高周波加熱装
置。 - 【請求項2】 前記冷却手段の運転を前記制御手段によ
って連続運転制御する請求項1記載の高周波加熱装置。 - 【請求項3】 前記下発熱部材への通電を前記制御手段
によって断続通電制御する請求項1記載の高周波加熱装
置。 - 【請求項4】 繰返し同一調理時における前記冷却手段
の連続運転および前記下発熱部材への断続通電を前記制
御手段によって同時制御するとともに前記加熱室底面
(2)の温度上昇の抑止を図る請求項1、請求項2および
請求項3記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7711892U JPH0640708U (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7711892U JPH0640708U (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0640708U true JPH0640708U (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=13624881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7711892U Pending JPH0640708U (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0640708U (ja) |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP7711892U patent/JPH0640708U/ja active Pending
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