JPH0643302A - 光学部品 - Google Patents
光学部品Info
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- JPH0643302A JPH0643302A JP4218652A JP21865292A JPH0643302A JP H0643302 A JPH0643302 A JP H0643302A JP 4218652 A JP4218652 A JP 4218652A JP 21865292 A JP21865292 A JP 21865292A JP H0643302 A JPH0643302 A JP H0643302A
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- JP
- Japan
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- structural unit
- antireflection film
- oxide
- iii
- resin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複屈折が小さく、反射防止膜の密着性が高い
光学部品を提供すること。 【構成】 ノルボルナン骨格、ジメタノペルヒドロナフ
タレン骨格又はトリメタノペルヒドロアントラセン骨格
を有するポリカーボネート、ポリエステルカーボネート
又はポリエステルからなる基材の表面に反射防止膜が設
けられている光学部品。
光学部品を提供すること。 【構成】 ノルボルナン骨格、ジメタノペルヒドロナフ
タレン骨格又はトリメタノペルヒドロアントラセン骨格
を有するポリカーボネート、ポリエステルカーボネート
又はポリエステルからなる基材の表面に反射防止膜が設
けられている光学部品。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種の透明樹脂が、光学レンズ、メガネ
レンズ、光ディスク用基板、プラスチック光ファイバ
ー、回折格子などの光学部品に用いられている。かかる
光学部品としては、例えば、光ディスクのピックアップ
用レンズ、カメラ用レンズ、画像投影用レンズ等として
用いられている非球面レンズ、光ディスクのピックアッ
プ中でレーザービームの分割用として用いられる回折格
子、固体撮像素子の偽信号を除去するため光学系中に設
けられる光学的ローパスフィルターなどがある。
レンズ、光ディスク用基板、プラスチック光ファイバ
ー、回折格子などの光学部品に用いられている。かかる
光学部品としては、例えば、光ディスクのピックアップ
用レンズ、カメラ用レンズ、画像投影用レンズ等として
用いられている非球面レンズ、光ディスクのピックアッ
プ中でレーザービームの分割用として用いられる回折格
子、固体撮像素子の偽信号を除去するため光学系中に設
けられる光学的ローパスフィルターなどがある。
【０００３】このような光学部品用の樹脂としては、ポ
リメチルメタクリレート（以下、ＰＭＭＡと記す。）、
ポリアクリレート系共重合体、ビスフェノールＡ型のポ
リカーボネート（以下、ＰＣと記す。）などが主として
用いられている。又、透過光量を増やし、迷光を除く目
的で、上記光学部品の光入射面および出射面に無機誘電
体などからなる反射防止膜を形成することがある。
リメチルメタクリレート（以下、ＰＭＭＡと記す。）、
ポリアクリレート系共重合体、ビスフェノールＡ型のポ
リカーボネート（以下、ＰＣと記す。）などが主として
用いられている。又、透過光量を増やし、迷光を除く目
的で、上記光学部品の光入射面および出射面に無機誘電
体などからなる反射防止膜を形成することがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＰＭＭＡおよ
びポリアクリレート系共重合体においては、吸水率が比
較的大きいため、吸湿による寸法変化が発生し、光学特
性の変化が起こるだけでなく、反射防止膜にクラックが
発生し、剥離することがある。又、ＰＣは複屈折が大き
く、かつ表面硬度に欠けるため使用される用途が限定さ
れる。
びポリアクリレート系共重合体においては、吸水率が比
較的大きいため、吸湿による寸法変化が発生し、光学特
性の変化が起こるだけでなく、反射防止膜にクラックが
発生し、剥離することがある。又、ＰＣは複屈折が大き
く、かつ表面硬度に欠けるため使用される用途が限定さ
れる。
【０００５】本発明の目的は、複屈折が小さく、反射防
止膜の密着性が高い光学部品を提供することにある。
止膜の密着性が高い光学部品を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、ノ
ルボルナン骨格、ジメタノペルヒドロナフタレン骨格又
はトリメタノペルヒドロアントラセン骨格を有するポリ
カーボネート、ポリエステル又はポリエステルカーボネ
ートからなる基材の表面に反射防止膜が設けられてい
る。
ルボルナン骨格、ジメタノペルヒドロナフタレン骨格又
はトリメタノペルヒドロアントラセン骨格を有するポリ
カーボネート、ポリエステル又はポリエステルカーボネ
ートからなる基材の表面に反射防止膜が設けられてい
る。
【０００７】すなわち、本発明は下記一般式（Ｉ）ない
し（III）
し（III）
【化４】 でそれぞれ表される構造単位（Ｉ）ないし（III）から
なり、構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が構造単位（I
I）のモル分率（ｙ）及び構造単位（III）のモル分率
（ｚ）の合計モル分率（ｙ＋ｚ）と実質的に等しい樹脂
からなる基材、上記の構造単位（Ｉ）及び（II）からな
り、構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が、構造単位（I
I）のモル分率（ｙ）と実質的に等しい樹脂からなる基
材、又は上記の構造単位（Ｉ）及び（III）からなり、
構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が構造単位（III）の
モル分率（ｚ）と実質的に等しい樹脂からなる基材の表
面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする光学
部品である。
なり、構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が構造単位（I
I）のモル分率（ｙ）及び構造単位（III）のモル分率
（ｚ）の合計モル分率（ｙ＋ｚ）と実質的に等しい樹脂
からなる基材、上記の構造単位（Ｉ）及び（II）からな
り、構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が、構造単位（I
I）のモル分率（ｙ）と実質的に等しい樹脂からなる基
材、又は上記の構造単位（Ｉ）及び（III）からなり、
構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が構造単位（III）の
モル分率（ｚ）と実質的に等しい樹脂からなる基材の表
面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする光学
部品である。
【０００８】本発明の樹脂において、一般式（Ｉ）で表
される構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）は略５０モル％
である。一般式（II）で表される構造単位（II）のモル
分率（ｙ）は５０モル％以下の範囲であり、好ましくは
４０モル％以上５０モル％以下であることが好ましい。
含有率が２０モル％未満であると吸水性が十分に低くな
い場合があり好ましくない。又、一般式（III）で表さ
れる構造単位（III）が少量含まれたポリエステルカー
ボネートより得られる基材は、構造単位（III)が全く含
まれていないポリカーボネートから得られる基材に比べ
て力学的物性が優れる。構造単位（III）の好ましいモ
ル分率（ｚ）は１モル％以上２０モル％以下である。な
お、本発明の目的に沿う範囲内で少量の他の任意の構造
単位を含んでいても良い。その重合割合は通常１０モル
％以下である。
される構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）は略５０モル％
である。一般式（II）で表される構造単位（II）のモル
分率（ｙ）は５０モル％以下の範囲であり、好ましくは
４０モル％以上５０モル％以下であることが好ましい。
含有率が２０モル％未満であると吸水性が十分に低くな
い場合があり好ましくない。又、一般式（III）で表さ
れる構造単位（III）が少量含まれたポリエステルカー
ボネートより得られる基材は、構造単位（III)が全く含
まれていないポリカーボネートから得られる基材に比べ
て力学的物性が優れる。構造単位（III）の好ましいモ
ル分率（ｚ）は１モル％以上２０モル％以下である。な
お、本発明の目的に沿う範囲内で少量の他の任意の構造
単位を含んでいても良い。その重合割合は通常１０モル
％以下である。
【０００９】構造単位（Ｉ）におけるｎとしては、耐熱
性が高く、又吸収率が小さい基材が得られる点から１又
は２であることが好ましく、原料化合物の製造が容易で
ある点から１であることがより好ましい。構造単位
（Ｉ）の具体例としては、以下のものが挙げられる。
性が高く、又吸収率が小さい基材が得られる点から１又
は２であることが好ましく、原料化合物の製造が容易で
ある点から１であることがより好ましい。構造単位
（Ｉ）の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【化５】 又、構造単位（III）におけるＡとしては、複屈折及び
吸水率が小さく、耐熱性が高い基材が得られる点から炭
素数２０以下の２価の飽和脂環式炭化水素基が好まし
い。構造単位（III）の具体例として、以下のものが挙
げられる。
吸水率が小さく、耐熱性が高い基材が得られる点から炭
素数２０以下の２価の飽和脂環式炭化水素基が好まし
い。構造単位（III）の具体例として、以下のものが挙
げられる。
【化６】
【００１０】本発明における樹脂は公知の適当な方法に
より製造することができる。すなわち、対応する酸、そ
のエステル、酸塩化物（構造単位（II）に対してはホス
ゲン）、酸無水物、ジオール、そのエステル又はアルコ
キシド等を原料に用い、界面法、溶液法、溶融法等の方
法によって本発明の樹脂を得ることができる。反応の際
は必要に用じて触媒を使用することができる。触媒とし
ては、（１）種々のアルコキシド、（２）アルカリ金
属、（３）アルカリ金属の水素化物、（４）アルカリ金
属水酸化物、（５）金属ハロゲン化物等があげられる。
触媒の使用量は特に限定されないが、通常原料全体に対
して０．０００１〜１モル％の範囲である。
より製造することができる。すなわち、対応する酸、そ
のエステル、酸塩化物（構造単位（II）に対してはホス
ゲン）、酸無水物、ジオール、そのエステル又はアルコ
キシド等を原料に用い、界面法、溶液法、溶融法等の方
法によって本発明の樹脂を得ることができる。反応の際
は必要に用じて触媒を使用することができる。触媒とし
ては、（１）種々のアルコキシド、（２）アルカリ金
属、（３）アルカリ金属の水素化物、（４）アルカリ金
属水酸化物、（５）金属ハロゲン化物等があげられる。
触媒の使用量は特に限定されないが、通常原料全体に対
して０．０００１〜１モル％の範囲である。
【００１１】反応の条件は用いる原料及び製造法により
異なるが、例えば対応するエステルとジオールとを用い
て溶融法により製造する場合には、原料と触媒とを窒
素、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気下で加
熱して撹拌し、発生するアルコール又はフェニルエステ
ルを用いる場合にはフェノールを留出させることにより
反応を進行させることができる。反応温度は用いる原
料、生成するアルコール又はフェノールの沸点等によっ
て異なるが、通常１５０〜３００℃の範囲である。反応
時間は通常３０分から１０時間の範囲内から選ばれる。
反応の後半では必要に応じて系を減圧にして反応を追い
込むが、この際の圧は通常０．００１〜１００ｍｍＨｇ
の範囲である。生成した樹脂は粉末状、塊状、ペレット
状等任意の状態で反応漕から取り出すことができ、一般
の成形用透明樹脂と同様の方法で成形に供することがで
きる。
異なるが、例えば対応するエステルとジオールとを用い
て溶融法により製造する場合には、原料と触媒とを窒
素、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気下で加
熱して撹拌し、発生するアルコール又はフェニルエステ
ルを用いる場合にはフェノールを留出させることにより
反応を進行させることができる。反応温度は用いる原
料、生成するアルコール又はフェノールの沸点等によっ
て異なるが、通常１５０〜３００℃の範囲である。反応
時間は通常３０分から１０時間の範囲内から選ばれる。
反応の後半では必要に応じて系を減圧にして反応を追い
込むが、この際の圧は通常０．００１〜１００ｍｍＨｇ
の範囲である。生成した樹脂は粉末状、塊状、ペレット
状等任意の状態で反応漕から取り出すことができ、一般
の成形用透明樹脂と同様の方法で成形に供することがで
きる。
【００１２】本発明における樹脂の分子量については、
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）に
より平均分子量（ポリスチレン換算）が１０，０００以
上１００，０００以下であることが好ましく、２０，０
００以上８０，０００以下であることがより好ましい。
数平均分子量が１０，０００以下の樹脂は脆く、十分な
強度が得られず、数平均分子量が１００，０００以上の
樹脂を合成することは困難である。
ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）に
より平均分子量（ポリスチレン換算）が１０，０００以
上１００，０００以下であることが好ましく、２０，０
００以上８０，０００以下であることがより好ましい。
数平均分子量が１０，０００以下の樹脂は脆く、十分な
強度が得られず、数平均分子量が１００，０００以上の
樹脂を合成することは困難である。
【００１３】本発明において基材の光入射面又は出射面
（及びこれらの両面）に設けられる反射防止膜として
は、金属酸化物、金属硫化物、金属フッ化物などの無機
誘電体からなるものが好ましい。金属酸化物の例として
は、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ビスマス、
酸化クロム、酸化ユーロピウム、酸化鉄、酸化ハフニウ
ム、酸化インジウム、酸化ランタン、酸化モリブデン、
酸化マグネシウム、酸化ネオジウム、酸化鉛、酸化プラ
セオジム、酸化サマリウム、酸化アンチモン、酸化ケイ
素、酸化スカンジウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化タ
ンタル、酸化タングステン、酸化イットリウム、酸化ジ
ルコニウム、酸化亜鉛が挙げられる。ここで、酸化数は
一定値に限られるものではない。例えば、酸化ケイ素で
は、ＳｉＯｘで表される組成式のｘの値は０から２まで
の任意の値をとることが可能である。また、金属硫化物
の例としては硫化亜鉛を挙げることができる。金属フッ
化物の例としては、フッ化アルミニウム、フッ化バリウ
ム、フッ化セリウム、フッ化カルシウム、フッ化ランタ
ン、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、クリオライ
ト、チオライト、フッ化ネオジウム、フッ化ナトリウ
ム、フッ化鉛、フッ化サマリウム、フッ化ストロンチウ
ムが挙げられる。なお、反射防止膜としては、紫外線硬
化型などの樹脂からなるものも用いられる。
（及びこれらの両面）に設けられる反射防止膜として
は、金属酸化物、金属硫化物、金属フッ化物などの無機
誘電体からなるものが好ましい。金属酸化物の例として
は、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ビスマス、
酸化クロム、酸化ユーロピウム、酸化鉄、酸化ハフニウ
ム、酸化インジウム、酸化ランタン、酸化モリブデン、
酸化マグネシウム、酸化ネオジウム、酸化鉛、酸化プラ
セオジム、酸化サマリウム、酸化アンチモン、酸化ケイ
素、酸化スカンジウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化タ
ンタル、酸化タングステン、酸化イットリウム、酸化ジ
ルコニウム、酸化亜鉛が挙げられる。ここで、酸化数は
一定値に限られるものではない。例えば、酸化ケイ素で
は、ＳｉＯｘで表される組成式のｘの値は０から２まで
の任意の値をとることが可能である。また、金属硫化物
の例としては硫化亜鉛を挙げることができる。金属フッ
化物の例としては、フッ化アルミニウム、フッ化バリウ
ム、フッ化セリウム、フッ化カルシウム、フッ化ランタ
ン、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、クリオライ
ト、チオライト、フッ化ネオジウム、フッ化ナトリウ
ム、フッ化鉛、フッ化サマリウム、フッ化ストロンチウ
ムが挙げられる。なお、反射防止膜としては、紫外線硬
化型などの樹脂からなるものも用いられる。
【００１４】本発明における反射防止膜は無機誘電体等
の１層または多層からなり、反射防止膜を構成する材料
及び各層の膜厚は、構成材料の屈折率に基いて、要求性
能を満足するように適宜定められる。無機誘電体からな
る反射防止膜は、蒸着法、スパッタリング法、ＣＬＤ
法、メッキ法等により形成される。又、樹脂からなる反
射防止膜は、スピンコート法、ディップコート法等によ
り形成される。反射防止膜と基材との密着性を向上させ
るために、基板表面に対して、洗浄、コーティング、エ
ッチング等の処理を施してもよく、又、膜の蒸着形成時
に基材を加温してもよい。
の１層または多層からなり、反射防止膜を構成する材料
及び各層の膜厚は、構成材料の屈折率に基いて、要求性
能を満足するように適宜定められる。無機誘電体からな
る反射防止膜は、蒸着法、スパッタリング法、ＣＬＤ
法、メッキ法等により形成される。又、樹脂からなる反
射防止膜は、スピンコート法、ディップコート法等によ
り形成される。反射防止膜と基材との密着性を向上させ
るために、基板表面に対して、洗浄、コーティング、エ
ッチング等の処理を施してもよく、又、膜の蒸着形成時
に基材を加温してもよい。
【００１５】なお、本発明の光情報記録媒体を構成する
基板はプレス成形法、押出成形法、射出成形法、射出圧
縮成形法等の溶融成形法、キャスト法等によって形成さ
れる。
基板はプレス成形法、押出成形法、射出成形法、射出圧
縮成形法等の溶融成形法、キャスト法等によって形成さ
れる。
【００１６】
【実施例】以下実施例を挙げて本発明を説明する。
【００１７】（実施例１）下記の式で示される２，３−
ジ（ヒドロキシメチル）−ペルヒドロ−１，４：５，８
−ジメタノナフタレン
ジ（ヒドロキシメチル）−ペルヒドロ−１，４：５，８
−ジメタノナフタレン
【化７】 と下記の式で示されるジフェニルカーボネート
【化８】 とを原料物質として用いて、テトラブチルアンモニウム
テトラフェニルボレートを触媒として、溶融重縮合反応
により下記の式に示すような構造を有する無色透明な樹
脂（数平均分子量（ＧＰＣ換算）：３７０００）からな
る長円筒状のチップを得た。
テトラフェニルボレートを触媒として、溶融重縮合反応
により下記の式に示すような構造を有する無色透明な樹
脂（数平均分子量（ＧＰＣ換算）：３７０００）からな
る長円筒状のチップを得た。
【化９】 得られたチップを乾燥し、射出成形（樹脂温度：２５０
℃）することによりプラスチックレンズの基材（直径：
５０ｍｍ、厚さ：３ｍｍ、複屈折：３ｎｍ）を作製し
た。この基材の表裏両面に、以下の方法で可視光領域に
おいて反射防止効果のある３層の無機誘電体層からなる
反射防止膜を形成した。 第１層 ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２） 屈折率：１．８０
厚さ：８１ｎｍ 第２層 ＴｉＯ2 〃 ：２．１４
〃 ：６８ｎｍ 第３層 ＳｉＯ2 〃 ：１．４６
〃 ：９９ｎｍ 成膜は真空蒸着法によって行った。第１層はＳｉＯを蒸
発源とし、真空系の中に酸素を少量流すことで成膜し
た。第２層および第３層はそれぞれＴｉＯ2、ＳｉＯ2を
蒸発源とした。こうして得られたプラスチックレンズに
ついて、４５０ｎｍから７５０ｎｍの波長に対する平均
光線透過率は９９％であった。上記プラスチックレンズ
を８０℃、８５％相対湿度の環境下に２０００時間放置
したのち、外観検査、粘着テープによる剥離試験を行っ
たが、反射防止膜に損傷は認められなかった。
℃）することによりプラスチックレンズの基材（直径：
５０ｍｍ、厚さ：３ｍｍ、複屈折：３ｎｍ）を作製し
た。この基材の表裏両面に、以下の方法で可視光領域に
おいて反射防止効果のある３層の無機誘電体層からなる
反射防止膜を形成した。 第１層 ＳｉＯｘ（１＜ｘ＜２） 屈折率：１．８０
厚さ：８１ｎｍ 第２層 ＴｉＯ2 〃 ：２．１４
〃 ：６８ｎｍ 第３層 ＳｉＯ2 〃 ：１．４６
〃 ：９９ｎｍ 成膜は真空蒸着法によって行った。第１層はＳｉＯを蒸
発源とし、真空系の中に酸素を少量流すことで成膜し
た。第２層および第３層はそれぞれＴｉＯ2、ＳｉＯ2を
蒸発源とした。こうして得られたプラスチックレンズに
ついて、４５０ｎｍから７５０ｎｍの波長に対する平均
光線透過率は９９％であった。上記プラスチックレンズ
を８０℃、８５％相対湿度の環境下に２０００時間放置
したのち、外観検査、粘着テープによる剥離試験を行っ
たが、反射防止膜に損傷は認められなかった。
【００１８】（実施例２）実施例１において、原料物質
として、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−ペルヒドロ
−１，４：５，８−ジメタノナフタレンに代えて、下記
の式
として、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−ペルヒドロ
−１，４：５，８−ジメタノナフタレンに代えて、下記
の式
【化１０】 で示される化合物を用いる以外は同様にして、下記の式
に示す構造を有する無色透明な樹脂（数平均分子量：３
３０００）からなるチップを得た。
に示す構造を有する無色透明な樹脂（数平均分子量：３
３０００）からなるチップを得た。
【化１１】 得られたチップを乾燥し、内部にスタンパを設置した金
型を用いて射出成形（樹脂温度：２５０℃）することに
より回折格子の基材（厚さ：１ｍｍ）を作製した。ここ
で、成形に用いたスタンパは、フォトリソグラフィーに
よって形成した。ピッチが３０μｍで、段差が０．２５
μｍの一次元状に配列されたパターンを、電鋳法によっ
てニッケルに転写して作製したものである。金型のスタ
ンパと対向する面は鏡面となっており、鏡面とスタンパ
との距離は１ｍｍである。この回折格子の基材の波長８
３０ｎｍに対する回折効率は１９．８％であり、複屈折
は３ｎｍであった。上記基材の格子面および裏面に波長
８３０ｎｍの半導体レーザー光に対して透過率を向上さ
せるように下記の１層の反射防止膜を形成した。 第１層 ＭｇＦ2 屈折率：１．３８ 厚さ：１５０ｎ
ｍ こうして得られた回折格子について、波長８３０ｎｍに
対する光線透過率は９８％であった。上記回折格子を８
０℃、８５％の相対湿度の環境下に２０００時間放置し
たのち、外観検査、粘着テープによる剥離試験を行った
が、反射防止膜に損傷は認められなかった。
型を用いて射出成形（樹脂温度：２５０℃）することに
より回折格子の基材（厚さ：１ｍｍ）を作製した。ここ
で、成形に用いたスタンパは、フォトリソグラフィーに
よって形成した。ピッチが３０μｍで、段差が０．２５
μｍの一次元状に配列されたパターンを、電鋳法によっ
てニッケルに転写して作製したものである。金型のスタ
ンパと対向する面は鏡面となっており、鏡面とスタンパ
との距離は１ｍｍである。この回折格子の基材の波長８
３０ｎｍに対する回折効率は１９．８％であり、複屈折
は３ｎｍであった。上記基材の格子面および裏面に波長
８３０ｎｍの半導体レーザー光に対して透過率を向上さ
せるように下記の１層の反射防止膜を形成した。 第１層 ＭｇＦ2 屈折率：１．３８ 厚さ：１５０ｎ
ｍ こうして得られた回折格子について、波長８３０ｎｍに
対する光線透過率は９８％であった。上記回折格子を８
０℃、８５％の相対湿度の環境下に２０００時間放置し
たのち、外観検査、粘着テープによる剥離試験を行った
が、反射防止膜に損傷は認められなかった。
【００１９】（実施例３）実施例１において、原料物質
として、実施例１で用いた２，３−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレ
ンと下記の式
として、実施例１で用いた２，３−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレ
ンと下記の式
【化１２】 で示される化合物との混合物（モル比：１対１）を用い
る以外は同様にして、下記の式に示す構造を有する無色
透明な樹脂（数平均分子量：３９０００）からなるチッ
プを得た。これによりプラスチックレンズの基材（複屈
折：３ｎｍ）を作製し、基材の表裏両側に実施例１にお
けると同じ反射防止膜を設けてプラスチックレンズを作
製した。
る以外は同様にして、下記の式に示す構造を有する無色
透明な樹脂（数平均分子量：３９０００）からなるチッ
プを得た。これによりプラスチックレンズの基材（複屈
折：３ｎｍ）を作製し、基材の表裏両側に実施例１にお
けると同じ反射防止膜を設けてプラスチックレンズを作
製した。
【化１３】 上記プラスチックレンズを８０℃、８５％相対湿度の環
境下に２０００時間放置したのち、外観検査、粘着テー
プによる剥離試験を行ったが、反射防止膜に損傷は認め
られなかった。
境下に２０００時間放置したのち、外観検査、粘着テー
プによる剥離試験を行ったが、反射防止膜に損傷は認め
られなかった。
【００２０】（実施例４）実施例２において、原料物質
として、実施例１で用いた２，３−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレ
ンとジフェニルカーボネート及び下記の式（IV）
として、実施例１で用いた２，３−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレ
ンとジフェニルカーボネート及び下記の式（IV）
【化１４】 で表される化合物との混合物（モル比：１０対９対１）
を用いる以外は同様にして下記の式に示す構造を有する
無色透明な樹脂（平均分子量：２９０００）からなるチ
ップを得た。これより回折格子の基材（複屈折：４ｎ
ｍ）を作製し、基材の格子面および裏面に実施例２にお
けると同じ反射防止膜を設けて回折格子を作製した。
を用いる以外は同様にして下記の式に示す構造を有する
無色透明な樹脂（平均分子量：２９０００）からなるチ
ップを得た。これより回折格子の基材（複屈折：４ｎ
ｍ）を作製し、基材の格子面および裏面に実施例２にお
けると同じ反射防止膜を設けて回折格子を作製した。
【化１５】 上記回折格子を８０℃、８５％相対湿度の環境下に２０
００時間放置したのち、外観検査、粘着テープによる剥
離試験を行ったが、反射防止膜に損傷は認められなかっ
た。
００時間放置したのち、外観検査、粘着テープによる剥
離試験を行ったが、反射防止膜に損傷は認められなかっ
た。
【００２１】（実施例５）実施例１において、原料物質
として実施例１で用いた２．３−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレ
ンと上記の式（IV）で示される化合物との混合物（モル
比：１対１）を用いる以外は同様にして、下記の式に示
す構造を有する無色透明な樹脂（数平均分子量３２００
０）からなるチップを得た。これよりプラスチックレン
ズの基材（複屈折：３ｎｍ）を作製し、基材の表裏両面
に実施例１におけると同じ反射防止膜を設けてプラスチ
ックレンズを作製した。
として実施例１で用いた２．３−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレ
ンと上記の式（IV）で示される化合物との混合物（モル
比：１対１）を用いる以外は同様にして、下記の式に示
す構造を有する無色透明な樹脂（数平均分子量３２００
０）からなるチップを得た。これよりプラスチックレン
ズの基材（複屈折：３ｎｍ）を作製し、基材の表裏両面
に実施例１におけると同じ反射防止膜を設けてプラスチ
ックレンズを作製した。
【化１６】 上記のプラスチックレンズを８０℃、８５％相対湿度の
環境下に２０００時間放置したのち、外観検査、粘着テ
ープによる剥離試験を行ったが、反射防止膜に損傷は認
められなかった。
環境下に２０００時間放置したのち、外観検査、粘着テ
ープによる剥離試験を行ったが、反射防止膜に損傷は認
められなかった。
【００２２】比較例１ 基材材料としてＰＭＭＡ（（株）クラレ製パラペットＨ
−１０００）を用いて、実施例１と同様にして反射防止
膜を有するプラスチックレンズを作製した。上記プラス
チックレンズを８０℃、８５％相対湿度の環境下に２０
００時間放置したのち、外観検査、粘着テープによる剥
離試験を行ったが、反射防止膜にクラックが発生してお
り、粘着テープで一部が剥離した。 比較例２ 基材材料として上記のＰＭＭＡを用いて、実施例２と同
様にして反射防止膜を有する回折格子を作製した。上記
回折格子を８５℃、８５％相対湿度の環境下に２０００
時間放置したのち、外観検査、粘着テープによる剥離試
験を行ったが、反射防止膜にクラックが発生しており、
粘着テープで一部が剥離した。
−１０００）を用いて、実施例１と同様にして反射防止
膜を有するプラスチックレンズを作製した。上記プラス
チックレンズを８０℃、８５％相対湿度の環境下に２０
００時間放置したのち、外観検査、粘着テープによる剥
離試験を行ったが、反射防止膜にクラックが発生してお
り、粘着テープで一部が剥離した。 比較例２ 基材材料として上記のＰＭＭＡを用いて、実施例２と同
様にして反射防止膜を有する回折格子を作製した。上記
回折格子を８５℃、８５％相対湿度の環境下に２０００
時間放置したのち、外観検査、粘着テープによる剥離試
験を行ったが、反射防止膜にクラックが発生しており、
粘着テープで一部が剥離した。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、複屈折が小さく、反射
防止膜の密着性が高い光学部品が提供される。
防止膜の密着性が高い光学部品が提供される。
Claims (3)
- 【請求項１】 下記の一般式（Ｉ）ないし（III） 【化１】 でそれぞれ表される構造単位（Ｉ）ないし（III）から
なり、構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が構造単位（I
I）のモル分率（ｙ）及び構造単位（III）のモル分率
（ｚ）の合計モル分率（ｙ＋ｚ）と実質的に等しい樹脂
からなる基材の表面に反射防止膜が設けられていること
を特徴とする光学部品。 - 【請求項２】 下記の一般式（Ｉ）及び（II） 【化２】 でそれぞれ表される構造単位（Ｉ）及び（II）からな
り、構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が構造単位（II）
のモル分率（ｙ）と実質的に等しい樹脂からなる基材の
表面に反射防止膜が設けられていることを特徴とする光
学部品。 - 【請求項３】 下記の一般式（Ｉ）及び（III） 【化３】 でそれぞれ表される構造単位（Ｉ）及び（III）からな
り、構造単位（Ｉ）のモル分率（ｘ）が構造単位（II
I）のモル分率（ｚ）と実質的に等しい樹脂からなる基
材の表面に反射防止膜が設けられていることを特徴とす
る光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4218652A JPH0643302A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4218652A JPH0643302A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643302A true JPH0643302A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16723308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4218652A Pending JPH0643302A (ja) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643302A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5884549A (en) * | 1996-08-13 | 1999-03-23 | Smc Kabushiki Kaisha | Linear actuator |
| WO2021200952A1 (ja) | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 三菱ケミカル株式会社 | カーボネート結合を有する熱可塑性樹脂 |
-
1992
- 1992-07-24 JP JP4218652A patent/JPH0643302A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5884549A (en) * | 1996-08-13 | 1999-03-23 | Smc Kabushiki Kaisha | Linear actuator |
| WO2021200952A1 (ja) | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 三菱ケミカル株式会社 | カーボネート結合を有する熱可塑性樹脂 |
| EP4400490A2 (en) | 2020-03-31 | 2024-07-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Thermoplastic resin having carbonate bond |
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