JPH0292936A - 透明樹脂または透明成形品の製造方法 - Google Patents
透明樹脂または透明成形品の製造方法Info
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- JPH0292936A JPH0292936A JP63247824A JP24782488A JPH0292936A JP H0292936 A JPH0292936 A JP H0292936A JP 63247824 A JP63247824 A JP 63247824A JP 24782488 A JP24782488 A JP 24782488A JP H0292936 A JPH0292936 A JP H0292936A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- light
- molded
- polyester
- wavelength
- Prior art date
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- Pending
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光記録媒体やレンズ・プリズム・回折格子等
の光学用成形品に適した樹脂の製造方法に関する。
の光学用成形品に適した樹脂の製造方法に関する。
近年、光学用途や自動車用途を始めとして様々な分野に
おいて種々の特性に優れた高透明性樹脂が要求されてい
る。中でも光ディスクや光カードといった光記録媒体に
おいては、追記型や消去可能型等のユーザーが情報を記
録できるものも登場し、記録方式の発展に伴い基体材料
の諸特性に対する要求のレベルも高くなってきている。
おいて種々の特性に優れた高透明性樹脂が要求されてい
る。中でも光ディスクや光カードといった光記録媒体に
おいては、追記型や消去可能型等のユーザーが情報を記
録できるものも登場し、記録方式の発展に伴い基体材料
の諸特性に対する要求のレベルも高くなってきている。
特に低峡
吸水性(低・水反り性)・低複屈折性・高耐熱性の3項
目は重要な特性である。現在基体材料として用いられて
いるものには主としてガラスおよびプラスチック材料が
あるが、ガラスは量産性が低くコストがかかる、重い、
割れ易いといった短所があり、プラスチック材料の方が
主流である。また、凹/凸レンズやフレネルレンズ等の
光学用しンズ、回折格子等の光学素子についても、用途
の拡大に連れて光デイスク同様の理由によりガラスより
もプラスチックに重きが置かれるようになりつつある。
目は重要な特性である。現在基体材料として用いられて
いるものには主としてガラスおよびプラスチック材料が
あるが、ガラスは量産性が低くコストがかかる、重い、
割れ易いといった短所があり、プラスチック材料の方が
主流である。また、凹/凸レンズやフレネルレンズ等の
光学用しンズ、回折格子等の光学素子についても、用途
の拡大に連れて光デイスク同様の理由によりガラスより
もプラスチックに重きが置かれるようになりつつある。
以上のような透明光学材料用樹脂として現在特に用いら
れているものはポリメチルメタクリレ−) (PMMA
)とビスフェノールAポリカーボネ−)(PC)である
が、PMMAは複屈折は極めて低いものの吸水(吸m)
性が高く吸水によって反りや変形が生じ、光学特性の低
下を招きやすいという欠点を有している。特にデジタル
オーディオディスクのような1枚の基体からなる光記録
媒体に用いた場合情報の忠実な再生が不可能となること
がある。また、耐熱性も今−歩の向上が望まれている。
れているものはポリメチルメタクリレ−) (PMMA
)とビスフェノールAポリカーボネ−)(PC)である
が、PMMAは複屈折は極めて低いものの吸水(吸m)
性が高く吸水によって反りや変形が生じ、光学特性の低
下を招きやすいという欠点を有している。特にデジタル
オーディオディスクのような1枚の基体からなる光記録
媒体に用いた場合情報の忠実な再生が不可能となること
がある。また、耐熱性も今−歩の向上が望まれている。
一方PCは吸水性は低く吸水反りもほとんどなく耐熱性
も問題ないが、複屈折が大きいという難点がある。デジ
タルオーディオディスクや小径のレンズのような比較的
径の小さいものでは成形条件を高精度に制御することに
より複屈折を要求レベル以下に抑えることが可能である
が、30cm径のレーザービジョンや大径のレンズにお
いては極めて困難である。
も問題ないが、複屈折が大きいという難点がある。デジ
タルオーディオディスクや小径のレンズのような比較的
径の小さいものでは成形条件を高精度に制御することに
より複屈折を要求レベル以下に抑えることが可能である
が、30cm径のレーザービジョンや大径のレンズにお
いては極めて困難である。
PCの大きな複屈折の主因は芳香環にあることが指摘さ
れている。従って低複屈折性の樹脂を得るためには芳香
環を使用しないという材料設計方針が考えられるが、芳
香環の不使用は耐熱性の低下という問題点を生じる。
れている。従って低複屈折性の樹脂を得るためには芳香
環を使用しないという材料設計方針が考えられるが、芳
香環の不使用は耐熱性の低下という問題点を生じる。
低複屈折性でかつ耐熱性の良好な材料としては指環式ポ
リエステルカーボネートが考えられるが、該樹脂に関し
てはあまり知られていない。例としては英国特許第96
2.913号や特公昭3g−26798等が脂環式ポリ
エステル、ポリカーボネートまたはポリアミドを開示し
ている。また、本発明者らは特願昭62−293639
において光記録媒体用基体として使用する際に要求され
る特性において優れた指環式ポリエステルカーボネート
を提案している。
リエステルカーボネートが考えられるが、該樹脂に関し
てはあまり知られていない。例としては英国特許第96
2.913号や特公昭3g−26798等が脂環式ポリ
エステル、ポリカーボネートまたはポリアミドを開示し
ている。また、本発明者らは特願昭62−293639
において光記録媒体用基体として使用する際に要求され
る特性において優れた指環式ポリエステルカーボネート
を提案している。
本発明者らは耐熱性低複屈折性透明材料としての上記脂
環式ポリエステルカーボネートについて鋭意検討した結
果、従来提案されている方法に従って製造した場合には
その透明性すなわち光透過率特には短波長域でのそれが
必ずしも十分でない場合があることを認めた。
環式ポリエステルカーボネートについて鋭意検討した結
果、従来提案されている方法に従って製造した場合には
その透明性すなわち光透過率特には短波長域でのそれが
必ずしも十分でない場合があることを認めた。
本発明の目的は光透過率特には短波長域でのそれがさら
に高められた上記指環式ポリエステルカーボネートおよ
びその製造方法を提供することにある。
に高められた上記指環式ポリエステルカーボネートおよ
びその製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記の目的に鑑み鋭意検討を加えた結果
、該樹脂を製造するに際し、重合中の反応混合物や得ら
れた樹脂あるいは該樹脂を用いた成形品に特、定波長の
光線を照射した場合には得られる樹脂の可視光透過率特
に短波長域でのそれが向上することを見出し本発明に至
った。
、該樹脂を製造するに際し、重合中の反応混合物や得ら
れた樹脂あるいは該樹脂を用いた成形品に特、定波長の
光線を照射した場合には得られる樹脂の可視光透過率特
に短波長域でのそれが向上することを見出し本発明に至
った。
すなわち本発明は、下記一般式(Dで表わされる化合物
を原料の一部として用い重縮合反応によりポリエステル
、ポリカーボネートまたはポリエステルカーボネートを
製造する方法において、重合中の反応混合物および/も
しくは重合後に得られる樹脂または該樹脂を用いた成形
品に特定の光線を照射することによって光線透過率を高
めることを特徴とする透明性の優れた樹脂の製造方法で
ある。
を原料の一部として用い重縮合反応によりポリエステル
、ポリカーボネートまたはポリエステルカーボネートを
製造する方法において、重合中の反応混合物および/も
しくは重合後に得られる樹脂または該樹脂を用いた成形
品に特定の光線を照射することによって光線透過率を高
めることを特徴とする透明性の優れた樹脂の製造方法で
ある。
(R,〜R4は水素原子または炭素数8以下のアルキル
基である。) 一般式(+)で表わされるものとしては次のものが挙げ
られる。
基である。) 一般式(+)で表わされるものとしては次のものが挙げ
られる。
これらのうち好ましくは次のものかよい。
また、さらに好ましくは次のものがよい。
本発明においては一般式(I)の化合物が原料として用
いられているか否かが重要な点である。すなわち一般式
(I)の化合物を原料の一部に用いた場合には特定の光
線を照射することにより得られた樹脂または成形品の光
線透過率を高めることができるが、一般式(I)の化合
物を原料として用いていなければ、光線透過率を高める
ことができないばかりか逆に低下することもある。
いられているか否かが重要な点である。すなわち一般式
(I)の化合物を原料の一部に用いた場合には特定の光
線を照射することにより得られた樹脂または成形品の光
線透過率を高めることができるが、一般式(I)の化合
物を原料として用いていなければ、光線透過率を高める
ことができないばかりか逆に低下することもある。
一般式(I)の化合物の全原料に対する割合は特に限定
はされないが、本発明の効果を十分に発現させるために
は通常5〜50モル%の範囲の量を用いるのがよい。
はされないが、本発明の効果を十分に発現させるために
は通常5〜50モル%の範囲の量を用いるのがよい。
本発明の製造方法において一般式(I)の化合物以外の
原料については、ポリエステル、ポリカーボネートもし
くはポリエステルカーボネートを与える化合物が適切な
割合で用いられていれば特に限定はされない。一般式で
示せばジヒドロキシ化合物については一般式(n)で与
えられ、またカーボネートおよびジカルボキシ化合物に
ついてはそれぞれ一般式(II)および(IV)で示す
ことができる。
原料については、ポリエステル、ポリカーボネートもし
くはポリエステルカーボネートを与える化合物が適切な
割合で用いられていれば特に限定はされない。一般式で
示せばジヒドロキシ化合物については一般式(n)で与
えられ、またカーボネートおよびジカルボキシ化合物に
ついてはそれぞれ一般式(II)および(IV)で示す
ことができる。
Ho−(cHt)−A−Gcot)−oH(II)ln
z−o−c−o−z
(I[l)
一般式(III)の化合物としては具体的には下記のも
のが示される。
のが示される。
一般式(II)の化合物としては具体的には下記のもの
が挙げられる。
が挙げられる。
また、一般式(IV)の化合物としては下記のものを具
体的に示すことができる。
体的に示すことができる。
HO−@−o −@−OH
各一般式で表わされる化合物はそれぞれ1種類だけを用
いても、2種以上の混合物であってもよい。
いても、2種以上の混合物であってもよい。
一般式(I)、(It)、(I[I)および(IV)で
表わされる各原料化合物の仕込み比については特に限定
されないが、一般式(I)、(II)、(nl)および
(TV)で表わされる原料化合物の仕込みモル分率をそ
れぞれx’、y。
表わされる各原料化合物の仕込み比については特に限定
されないが、一般式(I)、(II)、(nl)および
(TV)で表わされる原料化合物の仕込みモル分率をそ
れぞれx’、y。
w、z′で表わすと通常0.5≦(x十y)/(w十z
)≦2の範囲である。一般式(III)で表わされる原
料化合物および(TV)で表わされる原料化合物がいず
れもジフェニルエステルである場合は0.95≦(x+
y)/(w十z)≦1.05の範囲であることがよい。
)≦2の範囲である。一般式(III)で表わされる原
料化合物および(TV)で表わされる原料化合物がいず
れもジフェニルエステルである場合は0.95≦(x+
y)/(w十z)≦1.05の範囲であることがよい。
また、Xとyの関係については通常x:y=O:lOO
から100=″0の範囲である。
から100=″0の範囲である。
上記原料より得られた樹脂は下記一般式(V)で表わさ
れる。繰り返し単位よりなり、ポリスチレン換算の数平
均分子量が3.0 (I 0以上100.000以下で
あるポリエステル、ポリカーボネートもしくはポリエス
テルカーボネート樹脂であって、2mmの板厚において
波長400nmの光線の透過率が75%以上、波長80
0 nmの光線の透過率が85%以上である。
れる。繰り返し単位よりなり、ポリスチレン換算の数平
均分子量が3.0 (I 0以上100.000以下で
あるポリエステル、ポリカーボネートもしくはポリエス
テルカーボネート樹脂であって、2mmの板厚において
波長400nmの光線の透過率が75%以上、波長80
0 nmの光線の透過率が85%以上である。
ついては上述と同じ。)
本発明において用いられるポリエステルカーボネート樹
脂は、前記一般式(■)で表わされる繰り返し単位が、
全繰り返し単位に対して少なくとも70モル%、より好
ましくは80モル%あればよく、他のポリエステル単位
又はポリカーボネート単位が30モル%より少なく、好
ましくは20%より少な(含まれていてもよい。
脂は、前記一般式(■)で表わされる繰り返し単位が、
全繰り返し単位に対して少なくとも70モル%、より好
ましくは80モル%あればよく、他のポリエステル単位
又はポリカーボネート単位が30モル%より少なく、好
ましくは20%より少な(含まれていてもよい。
本発明の樹脂は、特定の光線を照射する以外は公知の適
当な方法に従って製造することができる。
当な方法に従って製造することができる。
すなわちたとえば炭酸ジフェニルとジカルボン酸のジフ
ェニルエステルおよびジオールの混合物からの脱フエノ
ール反応、炭酸ジアルキルエステルとジカルボン酸のジ
アルキルエステルお上びジオールの混合物からの脱アル
コール反応、ホスゲンとジカルボン酸塩化物およびジオ
ールからの脱塩化水素反応、ホスゲンとジカルボン酸塩
化物およびジオールのアルカリ金属塩の混合物からの脱
アルカリ金属塩化物反応等の反応を必要に応じて適当な
触媒の存在下で行なわせることにより製造することがで
きる。反応の形感は反応方法に応じて溶融法や溶液法等
の手法を採用できるが、反応の容易さからは溶融法がよ
い。
ェニルエステルおよびジオールの混合物からの脱フエノ
ール反応、炭酸ジアルキルエステルとジカルボン酸のジ
アルキルエステルお上びジオールの混合物からの脱アル
コール反応、ホスゲンとジカルボン酸塩化物およびジオ
ールからの脱塩化水素反応、ホスゲンとジカルボン酸塩
化物およびジオールのアルカリ金属塩の混合物からの脱
アルカリ金属塩化物反応等の反応を必要に応じて適当な
触媒の存在下で行なわせることにより製造することがで
きる。反応の形感は反応方法に応じて溶融法や溶液法等
の手法を採用できるが、反応の容易さからは溶融法がよ
い。
溶融法にて本発明の樹脂を製造する場合、触媒としては
反応性の高さから金属リチウムや種々のリチウム化合物
がよい。好ましくは金属リチウム、水素化リチ、ウム、
窒化リチウム、水酸化リチウム、リチウムのエトキシド
やブトキシド等のりチウムアルコキシドがよく、さらに
好ましくは金属リチウムおよび水素化リチウムがよい。
反応性の高さから金属リチウムや種々のリチウム化合物
がよい。好ましくは金属リチウム、水素化リチ、ウム、
窒化リチウム、水酸化リチウム、リチウムのエトキシド
やブトキシド等のりチウムアルコキシドがよく、さらに
好ましくは金属リチウムおよび水素化リチウムがよい。
触媒の使用量は原料全体に対して通常0.0001〜1
モル%の範囲、好ましくはO,OQ1〜0.1モル%の
範囲である。触媒の使用量が少ないと反応速度が極端に
低下し、また触媒の使用量が多すぎると得られる樹脂の
吸水率が上昇する。
モル%の範囲、好ましくはO,OQ1〜0.1モル%の
範囲である。触媒の使用量が少ないと反応速度が極端に
低下し、また触媒の使用量が多すぎると得られる樹脂の
吸水率が上昇する。
重縮合反応は、原料と触媒を窒素やアルゴン、二酸化炭
素等の不活性ガス雰囲気中で加熱して撹拌し、発生する
アルコールもしくはフェノールを留出させることにより
進行させることができる。
素等の不活性ガス雰囲気中で加熱して撹拌し、発生する
アルコールもしくはフェノールを留出させることにより
進行させることができる。
反応温度は原料や発生するアルコールもしくは)反応の
後半では必要に応じて系を減圧にして反応を追い込む。
後半では必要に応じて系を減圧にして反応を追い込む。
この際の圧は0.001−100mmHgの範囲である
。
。
本発明の樹脂の分子量については、ゲルパーミエイショ
ンクロマトグラフイー(GPC)による数平均分子ff
1(ポリスチレン換算)が3.000以上100、 O
OO以下、好ましくは5.000以上100.000以
下、より好ましくは10,000以上too、000以
下であることがよい。分子1が低くなると機械的強度が
低下する。また、分子量が高くなると合成困難となる。
ンクロマトグラフイー(GPC)による数平均分子ff
1(ポリスチレン換算)が3.000以上100、 O
OO以下、好ましくは5.000以上100.000以
下、より好ましくは10,000以上too、000以
下であることがよい。分子1が低くなると機械的強度が
低下する。また、分子量が高くなると合成困難となる。
本発明において照射する光線の波長成分については、3
50n+sから50 OnIlの範囲のうちで最大の分
光出力を有する波長における分光出力を100とした場
合に、波長350nmよりも短波長の成分については2
0以下、好ましくはlO以下、さらに好ましくは5以下
であるのがよい。500nmよりも波長の長い成分につ
いては特に限定されないが、波長500 n+a以上の
成分の分光出力が異常に高いと特に成形品に照射した場
合に温度が上昇し、変形・融着・熱分解等の問題が生じ
ることがある。
50n+sから50 OnIlの範囲のうちで最大の分
光出力を有する波長における分光出力を100とした場
合に、波長350nmよりも短波長の成分については2
0以下、好ましくはlO以下、さらに好ましくは5以下
であるのがよい。500nmよりも波長の長い成分につ
いては特に限定されないが、波長500 n+a以上の
成分の分光出力が異常に高いと特に成形品に照射した場
合に温度が上昇し、変形・融着・熱分解等の問題が生じ
ることがある。
一方、350nmよりも短波長の成分の出力が高いと樹
脂が逆に着色したり分解したりすることがあり好ましく
ない。
脂が逆に着色したり分解したりすることがあり好ましく
ない。
光を照射する際の光源としては波長350n@以上の領
域に発光があれば特に限定はされない。
域に発光があれば特に限定はされない。
350nmよりも短波長に強い発光を有する場合には該
波長域の光を適当なフィルタにより減衰させて使用すれ
ばよい。500n@以上の波長成分の分光強度が強過ぎ
て照射物に変形が起こる場合等にもフィルタを使用して
よい。好ましい光源としてはカーボンアーク灯、サンシ
ャインカーボンアーク灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、
キャノン灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。こ
れらのうちカーボンアーク灯およびサンシャインカーボ
ンアーク灯はフィルタを使用する必要がなく使用が容易
であり好ましい。
波長域の光を適当なフィルタにより減衰させて使用すれ
ばよい。500n@以上の波長成分の分光強度が強過ぎ
て照射物に変形が起こる場合等にもフィルタを使用して
よい。好ましい光源としてはカーボンアーク灯、サンシ
ャインカーボンアーク灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、
キャノン灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。こ
れらのうちカーボンアーク灯およびサンシャインカーボ
ンアーク灯はフィルタを使用する必要がなく使用が容易
であり好ましい。
本発明において照射する光線の光lについては特に限定
はされないが、多い方が効率がよいことはもちろんであ
る。また、照射は重縮合反応中から成形品にした後まで
のどの段階で行なってもよい。重縮合反応中に照射する
場合は、反応槽に適当なガラス窓を設け、そこから照射
すればよい。
はされないが、多い方が効率がよいことはもちろんであ
る。また、照射は重縮合反応中から成形品にした後まで
のどの段階で行なってもよい。重縮合反応中に照射する
場合は、反応槽に適当なガラス窓を設け、そこから照射
すればよい。
また、得られた樹脂に照射する場合には、たとえばスト
ランド取り出しの際に行なってもよいし、ベレットにし
てから照射しても構わない。さらに、成形品に対してら
照射を行なうことができる。成形品が平板の場合にはこ
の方法が有利なこともある。
ランド取り出しの際に行なってもよいし、ベレットにし
てから照射しても構わない。さらに、成形品に対してら
照射を行なうことができる。成形品が平板の場合にはこ
の方法が有利なこともある。
照射時間は特に限定されないが、通常5分以上行なうの
がよい。照射時間が短いと光線透過率の上昇は少ない。
がよい。照射時間が短いと光線透過率の上昇は少ない。
照射時間が長くなっても樹脂の諸物性が大きく低下する
ことはなく、特に問題はない。
ことはなく、特に問題はない。
本発明の製造方法により得られる樹脂は公知の任意の方
法、たとえばプレス成形、押出成形、射出成形、射出圧
縮成形等の溶融成形法により成形することができる。ま
た、必要に応じて適当な溶媒からキャスト法によりフィ
ルムを得ることもできる。溶融成形の場合は樹脂温度は
通常200〜350℃、金型温度は40〜150℃の範
囲に設定される。成形の際には必要であれば熱安定剤、
光安定剤、帯電防止剤、潤滑剤、無機もしくは有た後に
無機または有機の材料と積層する、接着あるいは融着に
より複雑な形状とする、表面にエンボス加工を施すとい
った高次加工を行なうことも可能である。
法、たとえばプレス成形、押出成形、射出成形、射出圧
縮成形等の溶融成形法により成形することができる。ま
た、必要に応じて適当な溶媒からキャスト法によりフィ
ルムを得ることもできる。溶融成形の場合は樹脂温度は
通常200〜350℃、金型温度は40〜150℃の範
囲に設定される。成形の際には必要であれば熱安定剤、
光安定剤、帯電防止剤、潤滑剤、無機もしくは有た後に
無機または有機の材料と積層する、接着あるいは融着に
より複雑な形状とする、表面にエンボス加工を施すとい
った高次加工を行なうことも可能である。
本発明の製造方法により得られる樹脂を例えば読み出し
専用光記録媒体用基体として用いる場合には、必要に応
じてグループや信号等を記録した金型を用いて射出成形
等により該基体を得る。これにアルミニウム等の金属を
真空蒸着等の方法により情報面上に成膜し、次いで保護
ポリマー眉を成形するかもしくは2枚貼り合わせる。情
報記録層は本発明の樹脂を用いた平坦な基体の上に光硬
化性の樹脂を用いていわゆる2P法によって設けてもよ
い。また、その他任意の方式によって情報記録部を構成
することができる。例えば成形した基体の表面に酸化テ
ルルやテルビウム−鉄−コバルト系合金等の無機物或い
はシアニン系色素等の有機物の薄膜を設ける等である。
専用光記録媒体用基体として用いる場合には、必要に応
じてグループや信号等を記録した金型を用いて射出成形
等により該基体を得る。これにアルミニウム等の金属を
真空蒸着等の方法により情報面上に成膜し、次いで保護
ポリマー眉を成形するかもしくは2枚貼り合わせる。情
報記録層は本発明の樹脂を用いた平坦な基体の上に光硬
化性の樹脂を用いていわゆる2P法によって設けてもよ
い。また、その他任意の方式によって情報記録部を構成
することができる。例えば成形した基体の表面に酸化テ
ルルやテルビウム−鉄−コバルト系合金等の無機物或い
はシアニン系色素等の有機物の薄膜を設ける等である。
上記のような優れた特性を活かし、本発明の製造方法に
より得られる樹脂は以下のような用途に用いることがで
きる。
より得られる樹脂は以下のような用途に用いることがで
きる。
■照明器具部品
■各種看板類
■窓、風防等の分野におけるガラス代替■液晶等各種表
示素子用基板 ■眼鏡、カメラ、ルーペ、ビデオプロジェクタ等の凹/
凸レンズあるいはフレネルレンズ等の各種レンズ ■光ディスクプレーヤピックアップ、分光素子、光学的
ローパスフィルタ等の回折格子 ■プリズム、先導波路、ビームスプリッタ等の各種光学
素子 ■光ファイバ ■光ディスク、光カード等の光記録媒体用基体〔実 施
例〕 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
示素子用基板 ■眼鏡、カメラ、ルーペ、ビデオプロジェクタ等の凹/
凸レンズあるいはフレネルレンズ等の各種レンズ ■光ディスクプレーヤピックアップ、分光素子、光学的
ローパスフィルタ等の回折格子 ■プリズム、先導波路、ビームスプリッタ等の各種光学
素子 ■光ファイバ ■光ディスク、光カード等の光記録媒体用基体〔実 施
例〕 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。
なお物性値は下記の方法に従って測定した。
■ 数平均分子量及び分子量分布:GPC(ポリスチレ
ン換算)により求めた。
ン換算)により求めた。
■ ガラス転移点:示差熱分析法(窒素中、昇温速度1
0℃/分)により測定した。
0℃/分)により測定した。
■ 光透過率:熱プレスにより2I厚に成形した試料の
波長350,400,600および800n−の先の透
過率を分光光度計により測定した。
波長350,400,600および800n−の先の透
過率を分光光度計により測定した。
■ 光弾性係数:熱プレスにより2 caX 10 c
mX2a鳳厚に成形した板についてヘリウム−ネオンレ
ーザを光源として副島らの方法(高分子学会高分子実験
学編集委員会編「高分子実験学」第10巻、p、296
(I983)共立出版)に準拠して求めた。
mX2a鳳厚に成形した板についてヘリウム−ネオンレ
ーザを光源として副島らの方法(高分子学会高分子実験
学編集委員会編「高分子実験学」第10巻、p、296
(I983)共立出版)に準拠して求めた。
■ 表面硬度:鉛筆硬度試験(l Is K 5400
)によった。
)によった。
■ 曲げ強度:JIS K 7203に準拠して測定し
た(試験片寸法: 25maX 50n+nX 2mm
厚)。
た(試験片寸法: 25maX 50n+nX 2mm
厚)。
■ 飽和吸水率:23℃の蒸留水中にて吸水による重量
増加の時間変化が認められなくなった時の重】増加率を
求めることにより測定した。
増加の時間変化が認められなくなった時の重】増加率を
求めることにより測定した。
■ 吸水反り: 2cr@X I OcmX 2m+n
厚の板状試料の片面にアルミニウムを1000人厚に蒸
着し、これを23℃の蒸留水に浸漬して発生した反りの
最大値を吸水反りとした。
厚の板状試料の片面にアルミニウムを1000人厚に蒸
着し、これを23℃の蒸留水に浸漬して発生した反りの
最大値を吸水反りとした。
実施例1、比較例1
2、2.4.4−テトラメチル−1,3−ツクロブタン
ジオール144g(I,0モル)、ジフェニルカーボネ
ート193g(0,9モル)、トランス−1,4−シク
ロヘキサンジカルボン酸32.4g(0,1モル)およ
び触媒として水素化リチウム8.0 +sg(I,0ミ
リモル)を、撹拌装置、窒素ガス流入口および留出して
くるフェノールを凝固させるための冷却管を備えた1g
三つロフラスコに仕込み、窒素気流中にてオイルバスで
200℃に加熱して30分間撹拌した。次いで230℃
で40分間、250℃で30分間撹拌した後系内を25
amHgの減圧度に保ち、さらに10分間撹拌して淡
黄色透明の樹脂174gを得た。この樹脂の数平均分子
量は24.000であった。得られた樹脂を熱プレスに
て240℃で成形し、厚さ2amの平板を得た。これを
J Is B 7751規定の耐光性試験機内に固定し
、第1図に示される分光出力を有するカーボンアーク灯
照射を2時間行なった後、各種物性を測定した。結果を
第1表に示す。
ジオール144g(I,0モル)、ジフェニルカーボネ
ート193g(0,9モル)、トランス−1,4−シク
ロヘキサンジカルボン酸32.4g(0,1モル)およ
び触媒として水素化リチウム8.0 +sg(I,0ミ
リモル)を、撹拌装置、窒素ガス流入口および留出して
くるフェノールを凝固させるための冷却管を備えた1g
三つロフラスコに仕込み、窒素気流中にてオイルバスで
200℃に加熱して30分間撹拌した。次いで230℃
で40分間、250℃で30分間撹拌した後系内を25
amHgの減圧度に保ち、さらに10分間撹拌して淡
黄色透明の樹脂174gを得た。この樹脂の数平均分子
量は24.000であった。得られた樹脂を熱プレスに
て240℃で成形し、厚さ2amの平板を得た。これを
J Is B 7751規定の耐光性試験機内に固定し
、第1図に示される分光出力を有するカーボンアーク灯
照射を2時間行なった後、各種物性を測定した。結果を
第1表に示す。
実施例2
実施例1で得られた樹脂を溶融押し出し機を用いて25
0℃にて押し出ししてストランドを得、これをベレタイ
ザによりベレット化した。このベレット50gを金網か
ごの中に入れ、これを自転させて全体を混ぜ返しながら
、実施例1で用いたカーボンアーク灯と同型のカーボン
アーク灯を30amの距離から1時間照射した。照射終
了後240℃にて211−厚に熱プレス成形し、各種物
性を測定した。結果を第1表に示す。
0℃にて押し出ししてストランドを得、これをベレタイ
ザによりベレット化した。このベレット50gを金網か
ごの中に入れ、これを自転させて全体を混ぜ返しながら
、実施例1で用いたカーボンアーク灯と同型のカーボン
アーク灯を30amの距離から1時間照射した。照射終
了後240℃にて211−厚に熱プレス成形し、各種物
性を測定した。結果を第1表に示す。
実施例3
実施例1と同一の反応容器に同一量の原料・触媒を仕込
み、これに実施例1で用いたカーボンアーク灯と同型の
カーボンアーク灯を30ctaの距離から照射しながら
実施例1と同一条件で反応させ、樹脂を得た。得られた
樹脂の数平均分子量はz s、o OOであった。この
樹脂を240℃で熱プレスにて2I厚に成形し、各種物
性を測定した。結果を第1表に示す。
み、これに実施例1で用いたカーボンアーク灯と同型の
カーボンアーク灯を30ctaの距離から照射しながら
実施例1と同一条件で反応させ、樹脂を得た。得られた
樹脂の数平均分子量はz s、o OOであった。この
樹脂を240℃で熱プレスにて2I厚に成形し、各種物
性を測定した。結果を第1表に示す。
比較例!
実施例1において得られた樹脂(カーボンアーク灯未照
射)を熱プレスにて240℃で2mm厚に成形し、これ
を用いて各種物性を測定した。第1表に結果を示す。
射)を熱プレスにて240℃で2mm厚に成形し、これ
を用いて各種物性を測定した。第1表に結果を示す。
比較例2
実施例1において得られた樹脂(カーボンアーり灯未照
射)を熱プレスを用いて240℃で2II11厚に成形
して得られた平板に200W高圧水銀灯を50cmの距
離から2時間照射した後各種物性値を測定した。第2図
に用いた光源の分光出力曲線を示す。また、第1表に光
線照射後の物性値を示す。
射)を熱プレスを用いて240℃で2II11厚に成形
して得られた平板に200W高圧水銀灯を50cmの距
離から2時間照射した後各種物性値を測定した。第2図
に用いた光源の分光出力曲線を示す。また、第1表に光
線照射後の物性値を示す。
実施例4
高圧水銀灯に紫外線吸収フィルタを装着することにより
第3図に分光出力曲線を示すように短波長光線をカット
した以外は比較例2と同様にして平板に光線照射を行な
った。第1表に光線照射後の物性値を示す。
第3図に分光出力曲線を示すように短波長光線をカット
した以外は比較例2と同様にして平板に光線照射を行な
った。第1表に光線照射後の物性値を示す。
実施例5、比較例3
原料として1.4−シクロヘキサンジオール232g(
0,2モル)、2.2.4.4−テトラメチル−1,3
−シクロブタンジオール115g(0,8モル)、ジフ
ェニルカーボネート107g(0,5モル)、26−ゾ
カヒドロナフタレンジカルボン酸ジフェニル189g(
0,5モル)および触媒として水素化リチウム8.OL
lg(I,0ミリモル)を用い、実施例1と同様にして
淡黄色透明の樹脂231gを得た。このものの数平均分
子量は19,000であった。
0,2モル)、2.2.4.4−テトラメチル−1,3
−シクロブタンジオール115g(0,8モル)、ジフ
ェニルカーボネート107g(0,5モル)、26−ゾ
カヒドロナフタレンジカルボン酸ジフェニル189g(
0,5モル)および触媒として水素化リチウム8.OL
lg(I,0ミリモル)を用い、実施例1と同様にして
淡黄色透明の樹脂231gを得た。このものの数平均分
子量は19,000であった。
この樹脂を溶融押し出し機を用いて250℃にて押し出
ししてストランドを得、これをベレタイザによりペレッ
ト化した。このベレットを240℃で2+ni厚に熱プ
レス成形し、各種物性を測定した(比較例3)。また、
このベレットを実施例2と同じ装置にて1時間30分カ
ーボンアーク灯を照射した後に240℃で21厚に熱プ
レス成形し、各種物性を測定した(実施例5)。測定結
果を第1表にまとめた。
ししてストランドを得、これをベレタイザによりペレッ
ト化した。このベレットを240℃で2+ni厚に熱プ
レス成形し、各種物性を測定した(比較例3)。また、
このベレットを実施例2と同じ装置にて1時間30分カ
ーボンアーク灯を照射した後に240℃で21厚に熱プ
レス成形し、各種物性を測定した(実施例5)。測定結
果を第1表にまとめた。
実施例6、比較例4
原料として2,3−ジ(ヒドロキシメチル)−4゜95
.8−ジメタノペルヒドロナフタレン133g(0,6
モル)、2.2.4.4−テトラメチル−1,3−シク
ロブタンジオール58g(0,4モル)、テレフタル酸
ノフェニル318g(I,0モル)および触媒として水
素化リチウム8.0mg (I,0ミリモル)を用い、
実施例1と同様にして淡黄色透明の樹脂261gを得た
。このものの数平均分子量は24.000であった。こ
の樹脂を溶融押し出し機を用いて250℃にて押し出し
してストランドを得、これをペレタイザによりペレット
化した。このベレットを240℃で21厚に熱プレス成
形し、各種物性を測定した(比較例4)。また、このベ
レットを実施例2と同じ装置にて1時間カーボンアーク
灯を照射した後に240℃で2IIm厚に熱プレス成形
し、各種物性を測定した(実施例6)。測定結果を第1
表にまとめた。
.8−ジメタノペルヒドロナフタレン133g(0,6
モル)、2.2.4.4−テトラメチル−1,3−シク
ロブタンジオール58g(0,4モル)、テレフタル酸
ノフェニル318g(I,0モル)および触媒として水
素化リチウム8.0mg (I,0ミリモル)を用い、
実施例1と同様にして淡黄色透明の樹脂261gを得た
。このものの数平均分子量は24.000であった。こ
の樹脂を溶融押し出し機を用いて250℃にて押し出し
してストランドを得、これをペレタイザによりペレット
化した。このベレットを240℃で21厚に熱プレス成
形し、各種物性を測定した(比較例4)。また、このベ
レットを実施例2と同じ装置にて1時間カーボンアーク
灯を照射した後に240℃で2IIm厚に熱プレス成形
し、各種物性を測定した(実施例6)。測定結果を第1
表にまとめた。
実施例7、比較例5
原料としてビスフェノールA91.2g(0,4モル)
、2.2.4.4−テトラメチル−1,3−シクロブタ
ンジオール86.4g(0,6モル)、ジフェニルカー
ボネート214g(I,0モル)および触媒として金属
リチウム粉末7.0mg(I,0ミリモル)を用い、実
施例1と同様にして淡黄色透明の樹脂188gを得た。
、2.2.4.4−テトラメチル−1,3−シクロブタ
ンジオール86.4g(0,6モル)、ジフェニルカー
ボネート214g(I,0モル)および触媒として金属
リチウム粉末7.0mg(I,0ミリモル)を用い、実
施例1と同様にして淡黄色透明の樹脂188gを得た。
このものの数平均分子量は30.000であった。この
樹脂を溶融押し出し機を用いて250℃にて押し出しし
てストランドを得、これをベレタイザによりペレット化
した。このベレットを240℃で2m+s厚に熱プレス
成形し、各種物性を測定した(比較例5)。また、この
ベレットを実施例2と同じ装置にて1時間カーボンアー
ク灯を照射した後に240℃で21厚に熱プレス成形し
、各種物性を測定した(実施例7)。測定結果を第1表
にまとめた。
樹脂を溶融押し出し機を用いて250℃にて押し出しし
てストランドを得、これをベレタイザによりペレット化
した。このベレットを240℃で2m+s厚に熱プレス
成形し、各種物性を測定した(比較例5)。また、この
ベレットを実施例2と同じ装置にて1時間カーボンアー
ク灯を照射した後に240℃で21厚に熱プレス成形し
、各種物性を測定した(実施例7)。測定結果を第1表
にまとめた。
以下余白
比較例6
原料として2.3−ジ(ヒドロキシメチル)−4゜9:
5,8−ジメタノペルヒドロナフタレン222g(I,
0モル)、ジフェニルカーボネート214g(I,0モ
ル)および触媒として水素化リチウム8.0+wg (
I,0ミリモル)を用い、実施例1と同様にして淡黄色
透明の樹脂199gを得た。このものの数平均分子量は
28.000であった。この樹脂を溶融押し出し機を用
いて250℃にて押し出ししてストランドを得、これを
ペレタイザによりペレット化した。このペレットを24
0℃で211I11厚に熱プレス成形した(試料A)。
5,8−ジメタノペルヒドロナフタレン222g(I,
0モル)、ジフェニルカーボネート214g(I,0モ
ル)および触媒として水素化リチウム8.0+wg (
I,0ミリモル)を用い、実施例1と同様にして淡黄色
透明の樹脂199gを得た。このものの数平均分子量は
28.000であった。この樹脂を溶融押し出し機を用
いて250℃にて押し出ししてストランドを得、これを
ペレタイザによりペレット化した。このペレットを24
0℃で211I11厚に熱プレス成形した(試料A)。
また、このペレットを実施例2と同じ装置にて3時間カ
ーボンアーク灯を照射した後に240℃で2aus厚に
熱プレス成形した(試料B)。試料Aと試料Bの光透過
率を第2表に示した。
ーボンアーク灯を照射した後に240℃で2aus厚に
熱プレス成形した(試料B)。試料Aと試料Bの光透過
率を第2表に示した。
比較例7、比較例8
ビスフェノールAポリカーボネート(比較例7)および
ポリメチルメタクリレート(比較例8)について、ペレ
ットを240℃で2am厚に熱プレス成形したもの(試
料A)と、ペレットを実施例2と同じ装置にて3時間カ
ーボンアーク灯を照射した後に240℃で2−厚に熱プ
レス成形したもの(試料B)を調製し、光透過率を測定
した。結果を第2表にまとめた。
ポリメチルメタクリレート(比較例8)について、ペレ
ットを240℃で2am厚に熱プレス成形したもの(試
料A)と、ペレットを実施例2と同じ装置にて3時間カ
ーボンアーク灯を照射した後に240℃で2−厚に熱プ
レス成形したもの(試料B)を調製し、光透過率を測定
した。結果を第2表にまとめた。
第 2 表
第1図〜第3図は実施例及び比較例で用いた光源の分光
出力曲線を示すスペクトル図であり、第1図はカーボン
アーク灯、第2図は高圧水銀灯、第3図は短波長側をカ
ットした高圧水銀灯のスペクトル図である。 特許出願人 株式会社 クラ し 代 理 人 弁理士 重子 堅 〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明に従えば特定波長の光を照射
することにより、樹脂の有する諸物性を低下させること
なく光線透過率を高めることかできる。 相対分光出力 相対分光出力
出力曲線を示すスペクトル図であり、第1図はカーボン
アーク灯、第2図は高圧水銀灯、第3図は短波長側をカ
ットした高圧水銀灯のスペクトル図である。 特許出願人 株式会社 クラ し 代 理 人 弁理士 重子 堅 〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明に従えば特定波長の光を照射
することにより、樹脂の有する諸物性を低下させること
なく光線透過率を高めることかできる。 相対分光出力 相対分光出力
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )で表わされる化合物を原料の一部と
して用い重縮合反応によりポリエステル、ポリカーボネ
ートまたはポリエステルカーボネートを製造する方法に
おいて、重合中の反応混合物および/もしくは重合後に
得られる樹脂または該樹脂を用いた成形品に波長350
nmから500nmの範囲のうちで最大の分光出力を1
00とした場合に350nmよりも短波長の成分の分光
出力が20以下である光線を照射することにより、得ら
れる樹脂または成形品の光線透過率を高めることを特徴
とする透明樹脂または透明成形品の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R_1〜R_4は水素原子または炭素数8以下のアル
キル基である。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247824A JPH0292936A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 透明樹脂または透明成形品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247824A JPH0292936A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 透明樹脂または透明成形品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0292936A true JPH0292936A (ja) | 1990-04-03 |
Family
ID=17169211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63247824A Pending JPH0292936A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 透明樹脂または透明成形品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0292936A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525402A (en) * | 1993-02-02 | 1996-06-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ceramic substrate and manufacturing method thereof |
| JP2000338344A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-12-08 | Unitika Ltd | 光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法 |
| JP2002080580A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-03-19 | Teijin Chem Ltd | ポリマーの製造方法 |
| JP2013007055A (ja) * | 2012-09-28 | 2013-01-10 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | 芳香族ポリカーボネート樹脂粉粒体の製造方法及び樹脂成形体 |
| JP2016108502A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | 東洋スチレン株式会社 | 良色相の成形品およびその製造方法 |
| WO2018062326A1 (ja) * | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学フィルム、位相差フィルム、偏光板 |
| WO2018062328A1 (ja) * | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学用ポリエステルフィルム及び透明導電性フィルム |
| WO2019009076A1 (ja) * | 2017-07-07 | 2019-01-10 | 帝人株式会社 | ポリカーボネート共重合体 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63247824A patent/JPH0292936A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525402A (en) * | 1993-02-02 | 1996-06-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ceramic substrate and manufacturing method thereof |
| US5547530A (en) * | 1993-02-02 | 1996-08-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a ceramic substrate |
| JP2000338344A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-12-08 | Unitika Ltd | 光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法 |
| JP2002080580A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-03-19 | Teijin Chem Ltd | ポリマーの製造方法 |
| JP2013007055A (ja) * | 2012-09-28 | 2013-01-10 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | 芳香族ポリカーボネート樹脂粉粒体の製造方法及び樹脂成形体 |
| JP2016108502A (ja) * | 2014-12-09 | 2016-06-20 | 東洋スチレン株式会社 | 良色相の成形品およびその製造方法 |
| WO2018062326A1 (ja) * | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学フィルム、位相差フィルム、偏光板 |
| WO2018062328A1 (ja) * | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学用ポリエステルフィルム及び透明導電性フィルム |
| CN109791245A (zh) * | 2016-09-28 | 2019-05-21 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学膜、相位差膜、偏光板 |
| US10981366B2 (en) | 2016-09-28 | 2021-04-20 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Optical polyester film and transparent conductive film |
| US11016232B2 (en) | 2016-09-28 | 2021-05-25 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Optical film, retardation film, and polarizing plate |
| WO2019009076A1 (ja) * | 2017-07-07 | 2019-01-10 | 帝人株式会社 | ポリカーボネート共重合体 |
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