JPH0643355B2 - 光学活性な３―チオラニルスルホネートエステルの製造方法 - Google Patents
光学活性な３―チオラニルスルホネートエステルの製造方法Info
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- JPH0643355B2 JPH0643355B2 JP2031313A JP3131390A JPH0643355B2 JP H0643355 B2 JPH0643355 B2 JP H0643355B2 JP 2031313 A JP2031313 A JP 2031313A JP 3131390 A JP3131390 A JP 3131390A JP H0643355 B2 JPH0643355 B2 JP H0643355B2
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- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
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- C07D333/14—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen
- C07D333/16—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen by oxygen atoms
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/63—Esters of sulfonic acids
- C07C309/64—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C309/65—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
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- C07C309/06—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton containing halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the carbon skeleton
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- C07D333/32—Oxygen atoms
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- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は下記の式(II)の（Ｃ１−Ｃ３）アルキル−４−
クロロ−３Ｒ−ヒドロキシブチレートの式： 〔式中、Ｒは(C1-C3)アルキル，フエニルまたはトリル
である〕 で示される光学的に活性な３−チオラニルスルホネート
エステルへの転化のための中間体と段階的方法に関す
る。
クロロ−３Ｒ−ヒドロキシブチレートの式： 〔式中、Ｒは(C1-C3)アルキル，フエニルまたはトリル
である〕 で示される光学的に活性な３−チオラニルスルホネート
エステルへの転化のための中間体と段階的方法に関す
る。
式(I)の化合物は特に、ある種のペネム（ｐｅｎｅｍ）
抗生物質の製造の貴重な中間体である。２種類の化合物
のジアステレオマー混合物である抗菌性５Ｒ，６Ｓ−６
−（１Ｒ−ヒドロキシエチル）−２−（シス−１−オキ
ソ−３−チオラニルチオ）−２−ペネム−３−カルボン
酸はハマナカ（Ｈａｍａｎａｋａ）の米国特許第４６１
９９２４号によって貴重な抗菌性物質として以前に開示
されており、ヴォルクマン（Ｖｏｌｋｍａｎｎ）等は米
国特許第４，７３９，０４７号にこの物質の代替合成法
を開示している。さらに最近では、好ましいジアステレ
オイソマー〔５Ｒ，６Ｓ−６−（１Ｒ−ヒドロキシエチ
ル）−２−（１Ｒ−オキソ−３Ｓ−チオラニルチオ）−
２−ペネム−３−カルボン酸〕とその製造方法が確立さ
れ、本出願人の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ８７／０１１１
４号に開示されている、この出願は特に米国を指定して
おり、１９８８年１１月１７日に国際特許出願（ＸＯ）
第８８／０８８４５号として公開されている。このジア
ステレオマー合成のカギは、初期には次の系列によって
製造された、式(I)の光学的に活性な中間体である。： さらに最近では、共通に譲渡された同時系属米国特許出
願第０７／１８３，１０２号（１９８８年４月１９日出
願）において、アーバン（Ｕｒｂａｎ）はＤ−メチオニ
ンからの式(I)の化合物の多段階合成を次のように述べ
ている： 我々は今回、式(I)の化合物がキタムラ（Ｋｉｔａｍｕ
ｒａ）等の方法〔テトラヘドロン レタース（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）２９巻，１５５５〜
１５５６頁１９８８年〕によって光学活性なルテニウム
触媒上でのエチル４−クロロアセトアセテートの水素化
によって９７％収率で現在容易に入手可能な光学活性化
合物であるエチル４−クロロ−３Ｒ−ヒドロキシブチレ
ートから３段階方法によって最も便利にかつ容易に製造
されることを発見した。
抗生物質の製造の貴重な中間体である。２種類の化合物
のジアステレオマー混合物である抗菌性５Ｒ，６Ｓ−６
−（１Ｒ−ヒドロキシエチル）−２−（シス−１−オキ
ソ−３−チオラニルチオ）−２−ペネム−３−カルボン
酸はハマナカ（Ｈａｍａｎａｋａ）の米国特許第４６１
９９２４号によって貴重な抗菌性物質として以前に開示
されており、ヴォルクマン（Ｖｏｌｋｍａｎｎ）等は米
国特許第４，７３９，０４７号にこの物質の代替合成法
を開示している。さらに最近では、好ましいジアステレ
オイソマー〔５Ｒ，６Ｓ−６−（１Ｒ−ヒドロキシエチ
ル）−２−（１Ｒ−オキソ−３Ｓ−チオラニルチオ）−
２−ペネム−３−カルボン酸〕とその製造方法が確立さ
れ、本出願人の国際出願第ＰＣＴ／ＵＳ８７／０１１１
４号に開示されている、この出願は特に米国を指定して
おり、１９８８年１１月１７日に国際特許出願（ＸＯ）
第８８／０８８４５号として公開されている。このジア
ステレオマー合成のカギは、初期には次の系列によって
製造された、式(I)の光学的に活性な中間体である。： さらに最近では、共通に譲渡された同時系属米国特許出
願第０７／１８３，１０２号（１９８８年４月１９日出
願）において、アーバン（Ｕｒｂａｎ）はＤ−メチオニ
ンからの式(I)の化合物の多段階合成を次のように述べ
ている： 我々は今回、式(I)の化合物がキタムラ（Ｋｉｔａｍｕ
ｒａ）等の方法〔テトラヘドロン レタース（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）２９巻，１５５５〜
１５５６頁１９８８年〕によって光学活性なルテニウム
触媒上でのエチル４−クロロアセトアセテートの水素化
によって９７％収率で現在容易に入手可能な光学活性化
合物であるエチル４−クロロ−３Ｒ−ヒドロキシブチレ
ートから３段階方法によって最も便利にかつ容易に製造
されることを発見した。
製造される式(I)のチオラニルスルホネートエステルは
我々の上記国際特許出願公開第８８／０８８４５号によ
って一般に利用可能である方法によって、上記のジアス
テレオマーペネム抗生物質の合成に用いられ、この特許
出願はこのペネム抗生物質の有利な利用をも教えてい
る。
我々の上記国際特許出願公開第８８／０８８４５号によ
って一般に利用可能である方法によって、上記のジアス
テレオマーペネム抗生物質の合成に用いられ、この特許
出願はこのペネム抗生物質の有利な利用をも教えてい
る。
本発明は式： 〔式中、Ｒは（Ｃ１−Ｃ３）アルキル，フエニルまたは
トリルである〕 で示される光学活性化合物の製造法であって、次の工
程： (a)式： 〔式中、Ｒ１は（Ｃ１−Ｃ３）アルキルである〕 で示される光学活性エステルを反応に不活性な溶媒中
で、エステルをアルコールに還元しうる量の水素化物還
元剤によって水素化物還元して、式： で示される光学活性エステルを形成する工程； (b)同じまたは異なる反応に不活性な溶媒中の前記ジオ
ールを少なくとも２モル当量の第三アミンの存在下で、
少なくとも２モル当量の式RSO2 OHで示されるスルホン酸
の活性化形と反応させて、 式： で示される光学活性ジスルホネートを形成する工程；及
び (c)前記ジスルホネートを同じまたは異なる溶媒中で硫
化物塩と反応させて、式(I)の化合物を形成する工程 から成る方法に関する。
トリルである〕 で示される光学活性化合物の製造法であって、次の工
程： (a)式： 〔式中、Ｒ１は（Ｃ１−Ｃ３）アルキルである〕 で示される光学活性エステルを反応に不活性な溶媒中
で、エステルをアルコールに還元しうる量の水素化物還
元剤によって水素化物還元して、式： で示される光学活性エステルを形成する工程； (b)同じまたは異なる反応に不活性な溶媒中の前記ジオ
ールを少なくとも２モル当量の第三アミンの存在下で、
少なくとも２モル当量の式RSO2 OHで示されるスルホン酸
の活性化形と反応させて、 式： で示される光学活性ジスルホネートを形成する工程；及
び (c)前記ジスルホネートを同じまたは異なる溶媒中で硫
化物塩と反応させて、式(I)の化合物を形成する工程 から成る方法に関する。
混合無水物としてのまたは例えばジシクロヘキシルカル
ボジイミドまたは１，１′−カルボニルジイミダゾール
のような試薬による従来の活性化で一般には充分である
が、工程(b)のスルホン酸の好ましい活性化形は塩化ス
ルホニル，RSO2Clである。Ｒは好ましい値はメチル及び
ｐ−トリルである。アルカリ金属の硫化物特にＮａ２Ｓ
は工程(c)の好ましい硫化物塩である。多様な水素化物
還元剤が工程(a)に一般に有用である。しかし、LiBH4の
ような比較的緩和な還元剤を下記のような量と溶媒と共
に用いることが好ましい。
ボジイミドまたは１，１′−カルボニルジイミダゾール
のような試薬による従来の活性化で一般には充分である
が、工程(b)のスルホン酸の好ましい活性化形は塩化ス
ルホニル，RSO2Clである。Ｒは好ましい値はメチル及び
ｐ−トリルである。アルカリ金属の硫化物特にＮａ２Ｓ
は工程(c)の好ましい硫化物塩である。多様な水素化物
還元剤が工程(a)に一般に有用である。しかし、LiBH4の
ような比較的緩和な還元剤を下記のような量と溶媒と共
に用いることが好ましい。
本発明はまた、式： 〔式中、Ｙは水素またはRSO2 -であり、Ｒは（Ｃ１−Ｃ
３）アルキル，フエニルまたはトリルである〕として結
合形で示されるような、式(III)と(IV)の上記化合物に
も関する。ＹがRSO2 -であるときに、Ｒの好ましい値は
メチルとｐ−トリルである。
３）アルキル，フエニルまたはトリルである〕として結
合形で示されるような、式(III)と(IV)の上記化合物に
も関する。ＹがRSO2 -であるときに、Ｒの好ましい値は
メチルとｐ−トリルである。
この明細書中の上記その他で用いるかぎり、「反応に不
活性な溶媒」なる表現は目的生成物の収率に不利に影響
するように出発物質，試薬，中間体または生成物と相互
作用しない溶媒を意味する。
活性な溶媒」なる表現は目的生成物の収率に不利に影響
するように出発物質，試薬，中間体または生成物と相互
作用しない溶媒を意味する。
エチル（Ｒ）−４−クロロ−３−ヒドロキシブチレート
(II)からの式(I)の光学活性なチオラニルスルホネート
エステルの本発明による製造方法は、(a)水素化物還
元、(b)ビス−スルホニル化及び(c)硫化物置換／還化の
連続工程を用いて、中間体(R)−４−クロロブタン−
１，３−ジオール(III)とジスルホネートエステル(IV)
を介して、容易に実施される。
(II)からの式(I)の光学活性なチオラニルスルホネート
エステルの本発明による製造方法は、(a)水素化物還
元、(b)ビス−スルホニル化及び(c)硫化物置換／還化の
連続工程を用いて、中間体(R)−４−クロロブタン−
１，３−ジオール(III)とジスルホネートエステル(IV)
を介して、容易に実施される。
水素化物還元工程は一般には、少なくとも２化学当量の
慣習的な水素化物還元剤を用いて実施される。このよう
な還元剤の検討のためには、ハウス（Ｈｏｕｓｅ）の
「モダーン シンセチック リアクション（Ｍｏｄｅｒ
ｎ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）」第２
版、ダブリュー，エイ，ベンジャミン社（Ｗ．Ａ．Ｂｅ
ｎｊａｍｉｎ Ｉｎｃ．）（カリフォルニア州メンロパ
ーク）４５−１０５頁を参照のこと。
慣習的な水素化物還元剤を用いて実施される。このよう
な還元剤の検討のためには、ハウス（Ｈｏｕｓｅ）の
「モダーン シンセチック リアクション（Ｍｏｄｅｒ
ｎ Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）」第２
版、ダブリュー，エイ，ベンジャミン社（Ｗ．Ａ．Ｂｅ
ｎｊａｍｉｎ Ｉｎｃ．）（カリフォルニア州メンロパ
ーク）４５−１０５頁を参照のこと。
本発明の場合に好ましい還元剤は、一般に非プロトン性
である反応に不活性な溶媒（好ましくは例えばテトラヒ
ドロフラン，ジオキサンまたは１，２−ジメトキシエタ
ンのような、比較的極性の溶媒）中のHiBH4である。少
なくとも２化学当量のLiBH4を用いる（すなわち、エス
テル基質１モルにつきLiBH4０．５モル）。温度は特に
重要であるが、約０〜３０℃の範囲内の温度が好まし
い。
である反応に不活性な溶媒（好ましくは例えばテトラヒ
ドロフラン，ジオキサンまたは１，２−ジメトキシエタ
ンのような、比較的極性の溶媒）中のHiBH4である。少
なくとも２化学当量のLiBH4を用いる（すなわち、エス
テル基質１モルにつきLiBH4０．５モル）。温度は特に
重要であるが、約０〜３０℃の範囲内の温度が好まし
い。
ジオールからビス−スルホネートエステルへの転化も、
慣習的な方法で、好ましくは少なくとも２モル当量の第
三アミン（例えばトリエチルアミン）の存在下の反応に
不活性な溶媒（例えばCH2Cl2またはテトラヒドロフラ
ン）中で実質的に２モル当量の式RSO2Clの塩化スルホニ
ル（Ｒは上記で定義した通りである）と結合させること
によって実施される。これは一般に発熱反応であるため
に、温度は周囲温度未満（例えば、１０゜〜−３０℃）
であることが好ましい。発熱と温度は酸塩化物の添加速
度によって、一部制御することができる。この方法の変
更態様では、過剰なピリジンを第三アミンと溶媒の両方
として用いる。
慣習的な方法で、好ましくは少なくとも２モル当量の第
三アミン（例えばトリエチルアミン）の存在下の反応に
不活性な溶媒（例えばCH2Cl2またはテトラヒドロフラ
ン）中で実質的に２モル当量の式RSO2Clの塩化スルホニ
ル（Ｒは上記で定義した通りである）と結合させること
によって実施される。これは一般に発熱反応であるため
に、温度は周囲温度未満（例えば、１０゜〜−３０℃）
であることが好ましい。発熱と温度は酸塩化物の添加速
度によって、一部制御することができる。この方法の変
更態様では、過剰なピリジンを第三アミンと溶媒の両方
として用いる。
硫化物の反応によってチオラン環を形成する硫化物置換
／環化工程（１−スルホネートエステル基と４−クロロ
基との置換による）は、特に４−クロロ基または１−ス
ルホネート基のいずれかの最初の２モル置換に関して、
一般に求核置換反応に特徴的な条件下で実施され、速度
は反応物質の濃度増加によって促進され、反応の完成は
反応物質の１っ（この場合には通常硫化物）を過剰に用
いることによって促進される。しかし、第２工程の還化
は零次反応であり、速度は実質的に濃度に関係ないが、
高濃度の上昇は好ましくないダイマーの形成またはポリ
マーの形成さえも促進する。好ましい硫化物塩は例えば
Ｎａ２Ｓのようなアルカリ金属硫化物である。
／環化工程（１−スルホネートエステル基と４−クロロ
基との置換による）は、特に４−クロロ基または１−ス
ルホネート基のいずれかの最初の２モル置換に関して、
一般に求核置換反応に特徴的な条件下で実施され、速度
は反応物質の濃度増加によって促進され、反応の完成は
反応物質の１っ（この場合には通常硫化物）を過剰に用
いることによって促進される。しかし、第２工程の還化
は零次反応であり、速度は実質的に濃度に関係ないが、
高濃度の上昇は好ましくないダイマーの形成またはポリ
マーの形成さえも促進する。好ましい硫化物塩は例えば
Ｎａ２Ｓのようなアルカリ金属硫化物である。
望ましい場合には、例えばテトラブチルアンモニウムヨ
ージドのようなヨウ化物塩を触媒として用いることがで
きる。この反応において溶媒は重要ではないが、硫化物
と中間体のメルカプチドを反応性の高い陰イオン形に維
持するために、酸性溶媒の使用は避けるべきである。触
媒としてのヨウ化物を必要としない、好ましい溶媒系は
アセトニトリル水溶液である。温度は重要ではないが、
反応が妥当な時間内に完成するように進行するほどの高
温でなければならず、また過度の分解を生ずるような高
温であってはならない。約４０〜１００℃の範囲内の温
度がこの場合に特に良好に適している。
ージドのようなヨウ化物塩を触媒として用いることがで
きる。この反応において溶媒は重要ではないが、硫化物
と中間体のメルカプチドを反応性の高い陰イオン形に維
持するために、酸性溶媒の使用は避けるべきである。触
媒としてのヨウ化物を必要としない、好ましい溶媒系は
アセトニトリル水溶液である。温度は重要ではないが、
反応が妥当な時間内に完成するように進行するほどの高
温でなければならず、また過度の分解を生ずるような高
温であってはならない。約４０〜１００℃の範囲内の温
度がこの場合に特に良好に適している。
下記の実施例は説明のために記載するものであり、本発
明の限定として解釈すべきではなく、これらの多くの変
更が本発明の範囲と精神内で可能である。
明の限定として解釈すべきではなく、これらの多くの変
更が本発明の範囲と精神内で可能である。
例 １ （Ｒ）−４−クロロブタン−１，３−ジオール 火炎乾燥したガラス器内の窒素雰囲気下で、（Ｒ）−４
−クロロ−３−ヒドロキシブチレート（１．００ｇ，
６．５５ミリモル）を乾燥テトラヒドロフラン６．５ml
に溶解した。溶液を０℃に溶解し、乾燥テトラヒドロフ
ラン４．１mlに溶かした水素化ホウ素リチウム（１７８
mg，８．１９ミリモル）を注射器によって３０分間にわ
たって加え、テトラヒドロフランン２mlをすすぎ洗いに
用いた。氷浴を除去し、溶液を２３℃で６時間撹拌し、
次に０℃に冷却し、メタノール４０mlによって急冷し、
飽和メタノール性ＨＣｌ８mlによって酸性化した。混合
物から溶媒を減圧ストリッピングし、残渣をメタノール
で処理し、反応を共沸蒸留（３×５０ml）して、ホウ化
メチルを除去し、油状物（１．５５ｇ）になるまでスト
リッピングした。油状物をシリカゲルの直径８．５cm×
深さ５cmパッドでフラッシュクロマトグラフィーし、CH
2Cl2，CH2Cl2：酢酸エチル（１：１）及び酢酸エチルに
よって傾斜溶離して、標題生成物０．６７ｇ（８２％）
を油状物として得た；〔α〕Ｄ＝＋２４．５゜（Ｃ＝
１．０１，ＣＨ３ＯＨ）。
−クロロ−３−ヒドロキシブチレート（１．００ｇ，
６．５５ミリモル）を乾燥テトラヒドロフラン６．５ml
に溶解した。溶液を０℃に溶解し、乾燥テトラヒドロフ
ラン４．１mlに溶かした水素化ホウ素リチウム（１７８
mg，８．１９ミリモル）を注射器によって３０分間にわ
たって加え、テトラヒドロフランン２mlをすすぎ洗いに
用いた。氷浴を除去し、溶液を２３℃で６時間撹拌し、
次に０℃に冷却し、メタノール４０mlによって急冷し、
飽和メタノール性ＨＣｌ８mlによって酸性化した。混合
物から溶媒を減圧ストリッピングし、残渣をメタノール
で処理し、反応を共沸蒸留（３×５０ml）して、ホウ化
メチルを除去し、油状物（１．５５ｇ）になるまでスト
リッピングした。油状物をシリカゲルの直径８．５cm×
深さ５cmパッドでフラッシュクロマトグラフィーし、CH
2Cl2，CH2Cl2：酢酸エチル（１：１）及び酢酸エチルに
よって傾斜溶離して、標題生成物０．６７ｇ（８２％）
を油状物として得た；〔α〕Ｄ＝＋２４．５゜（Ｃ＝
１．０１，ＣＨ３ＯＨ）。
例 ２ （Ｒ）−４−クロロ−３−（メタンスルホニルオキシ）
ブチルメタンスルホネート ５００ml三つ口フラスコ内の窒素雰囲気下で、上記例の
標題生成物（５．０ｇ，０．０４０モル）をＣＨ２Ｃｌ
２１５０ml中に溶解した。溶液を−２０℃に冷却した。
トリエチルアミン（８．１２ｇ，１１．２ml，０．０８
０モル）とジメチルアミノピリジン（０．４８ｇ，０．
００４モル）を加え、次に塩化メシル（９．１９ｇ，
６．２１ml，０．０８０モル）を加えた。溶液を−２０
〜−１５℃において１時間撹拌してから、粉砕氷１l上
に注入し、１０分間撹拌した。分離した水層を塩化メチ
レン（１×３００ml）によって抽出した。一緒にした有
機層を１Ｎ−ＨＣｌ（１×５００ml）、飽和ＮａＨＣＯ
３（１×５００ml）及びブライン（ｂｒｉｎｅ）（１×
５００ml）によって洗浄し、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、減
圧下ストリッピングして標題生成物９．９６ｇ（８８
％）を得た。
ブチルメタンスルホネート ５００ml三つ口フラスコ内の窒素雰囲気下で、上記例の
標題生成物（５．０ｇ，０．０４０モル）をＣＨ２Ｃｌ
２１５０ml中に溶解した。溶液を−２０℃に冷却した。
トリエチルアミン（８．１２ｇ，１１．２ml，０．０８
０モル）とジメチルアミノピリジン（０．４８ｇ，０．
００４モル）を加え、次に塩化メシル（９．１９ｇ，
６．２１ml，０．０８０モル）を加えた。溶液を−２０
〜−１５℃において１時間撹拌してから、粉砕氷１l上
に注入し、１０分間撹拌した。分離した水層を塩化メチ
レン（１×３００ml）によって抽出した。一緒にした有
機層を１Ｎ−ＨＣｌ（１×５００ml）、飽和ＮａＨＣＯ
３（１×５００ml）及びブライン（ｂｒｉｎｅ）（１×
５００ml）によって洗浄し、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、減
圧下ストリッピングして標題生成物９．９６ｇ（８８
％）を得た。
〔α〕Ｄ＝＋３２．７４（Ｃ＝１．０６，ＣＨＣ
ｌ３）。
ｌ３）。
（Ｒ）−４−クロロ−３−（ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ）−ブチルｐ−トルエンスルホネートを製造するに
は、塩化メシルの代りに１モル当量のｐ−トリルクロリ
ドを用いる。
キシ）−ブチルｐ−トルエンスルホネートを製造するに
は、塩化メシルの代りに１モル当量のｐ−トリルクロリ
ドを用いる。
例 ３ （Ｒ）−３−チオラニルメタンスルホネート 上記例の標題生成物（３．５ｇ，０．０１２５モル）を
Ｎ２下でＨ２Ｏ：ＣＨ３ＣＮ（１：６）６０mlに溶解し
た。硫化ナトリウム無水物（３．９０ｇ，０．０５０モ
ル）を加えた。５０℃に７６時間加熱した後に、反応混
合物をＣＨ２Ｃｌ２２５０mlによって希釈し、Ｈ２Ｏ
（１×１００ｍｌ）で洗浄し、次にブライン（１×１０
０ml）によって洗浄し、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、減圧ス
トリッピングして、この例の標題生成物を得、これをシ
リカゲル上でクロマトグラフィーし、溶離剤としてＣＨ
２Ｃｌ２，次にＣＨ２Ｃｌ２：酢酸エチル（９：１）を
用いて溶離して、この例の標題生成物１．３０ｇ（５７
％）を得た；〔α〕Ｄ＝＋１６．８゜（Ｃ＝３．０，Ｃ
ＨＣｌ３）。
Ｎ２下でＨ２Ｏ：ＣＨ３ＣＮ（１：６）６０mlに溶解し
た。硫化ナトリウム無水物（３．９０ｇ，０．０５０モ
ル）を加えた。５０℃に７６時間加熱した後に、反応混
合物をＣＨ２Ｃｌ２２５０mlによって希釈し、Ｈ２Ｏ
（１×１００ｍｌ）で洗浄し、次にブライン（１×１０
０ml）によって洗浄し、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、減圧ス
トリッピングして、この例の標題生成物を得、これをシ
リカゲル上でクロマトグラフィーし、溶離剤としてＣＨ
２Ｃｌ２，次にＣＨ２Ｃｌ２：酢酸エチル（９：１）を
用いて溶離して、この例の標題生成物１．３０ｇ（５７
％）を得た；〔α〕Ｄ＝＋１６．８゜（Ｃ＝３．０，Ｃ
ＨＣｌ３）。
同じ方法によって上記例のビス−ｐ−トリルエステルを
（Ｒ）−３−チオラニルｐ−トルエンスルホネートに転
化する。
（Ｒ）−３−チオラニルｐ−トルエンスルホネートに転
化する。
例 ４ ３Ｒ−（メタンスルホニルオキシ）チオラン１Ｒ−オキ
シド 国際特許出願公開第８８／０８８４５号の例３の方法に
よってアセトン１５ml中の上記例の標題生成物（１．１
７ｇ，６．４２ミリモル）とペルオキシ−硫酸カリウム
（オキソン２．２１ｇ，３．６ミリモル）を白色固体と
してのこの例の標題生成物０．９６ｇ（７５％）に転化
した； 〔α〕Ｄ＝＋２．０４゜（Ｃ＝２．９４，ＣＨＣ
ｌ３）。
シド 国際特許出願公開第８８／０８８４５号の例３の方法に
よってアセトン１５ml中の上記例の標題生成物（１．１
７ｇ，６．４２ミリモル）とペルオキシ−硫酸カリウム
（オキソン２．２１ｇ，３．６ミリモル）を白色固体と
してのこの例の標題生成物０．９６ｇ（７５％）に転化
した； 〔α〕Ｄ＝＋２．０４゜（Ｃ＝２．９４，ＣＨＣ
ｌ３）。
Claims (10)
- 【請求項１】式： 〔式中、Ｒは（Ｃ１−Ｃ３）アルキル，フエニルまたは
トリルである〕 で示される光学活性化合物の製造方法において、 次の工程： (a) 式： 〔式中、Ｒ１は（Ｃ１−Ｃ３）アルキルである〕 で示される光学活性エステルを、反応不活性溶媒中でエ
ステルをアルコールに還元しうるような量の水素化物還
元剤によって、水素化物還元して 式： で示される光学活性ジオールを形成する工程； (b) 同じまたは異なる、反応不活性溶媒中の前記ジオ
ールを、少なくとも２当量の第三アミンの存在下で、少
なくとも２モル当量の、式RSO2OHで示されるスルホン酸
の活性化形と反応させて、 式： で示される光学活性なジスルホネートを形成する工程；
及び (c) 前記ジスルホネートを同じまたは異なる反応不活
性溶媒中で硫化物塩と反応させて、 式(I)の化合物を形成する工程 から成る方法。 - 【請求項２】ＲがCH3またはｐ−トリルである請求項１
記載の方法。 - 【請求項３】水素化物還元剤がLiBH4であり、工程(a)の
溶媒がテトラヒドロフランである請求項２記載の方法。 - 【請求項４】スルホン酸の活性化形が式RSO2Clで示され
る酸塩化物である請求項２記載の方法。 - 【請求項５】工程(b)の溶媒がCH2Cl2である請求項２記
載の方法。 - 【請求項６】硫化物塩がアルカリ金属の硫化物である請
求項２記載の方法。 - 【請求項７】スルホン酸の活性化形が式RSO2Clで示され
る酸塩化物である請求項６記載の方法。 - 【請求項８】式： 〔式中、Ｙは水素またはRSO2 -であり、Ｒは（Ｃ１−Ｃ
３）アルキル，フエニルまたはトリルである〕 で示される光学活性化合物。 - 【請求項９】Ｙが水素である請求項８記載の化合物。
- 【請求項１０】ＹがRSO2 -であり、Ｒがメチルまたはｐ
−トリルである請求項８記載の化合物。
Applications Claiming Priority (4)
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|---|---|---|---|
| US308868 | 1989-02-09 | ||
| US07/308,868 US4864046A (en) | 1989-02-09 | 1989-02-09 | Process for optically active 3-thiolanyl sulfonate esters |
| US07/378,888 US4921972A (en) | 1989-05-17 | 1989-07-12 | Process for optically active 3-thiolanyl sulfonate esters |
| US378888 | 1989-07-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02240077A JPH02240077A (ja) | 1990-09-25 |
| JPH0643355B2 true JPH0643355B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=26976494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2031313A Expired - Lifetime JPH0643355B2 (ja) | 1989-02-09 | 1990-02-09 | 光学活性な３―チオラニルスルホネートエステルの製造方法 |
Country Status (13)
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| EP (1) | EP0382418A3 (ja) |
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-
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- 1990-02-08 AU AU49378/90A patent/AU609348B2/en not_active Ceased
- 1990-02-08 NZ NZ232425A patent/NZ232425A/en unknown
- 1990-02-08 KR KR1019900001506A patent/KR920010181B1/ko not_active Expired
- 1990-02-08 HU HU90727A patent/HU203545B/hu not_active IP Right Cessation
- 1990-02-09 JP JP2031313A patent/JPH0643355B2/ja not_active Expired - Lifetime
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